【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及材料处理，具体为一种溅射靶材清洗装置及其方法。
技术介绍
1、溅射靶材清洗装置的研发和应用，源于溅射镀膜技术中对靶材表面清洁度的严格要求。溅射靶材，作为溅射镀膜技术的关键组成部分，主要用于制备薄膜材料，广泛应用于平板显示、信息存储、太阳能电池、芯片等多个领域。在这些领域中，薄膜的质量和性能往往直接影响到最终产品的质量和性能。然而，溅射靶材棒在生产和使用过程中，其表面不可避免地会沾染上各种杂质、氧化物或其他污染物。这些污染物不仅会降低溅射镀膜的效率，还可能影响到薄膜的成分、结构和性能，从而导致产品质量不稳定或性能下降。因此，对溅射靶材进行高效、彻底的清洗，成为确保溅射镀膜过程稳定性和薄膜质量的关键环节。
2、现有的用于溅射靶材清洗装置及其方法，在对溅射靶材棒进行清洗的过程中，由于溅射靶材表面会有一定的氧化物和杂质，需要对溅射靶材进行打磨后再进行清理，无形中增加了一定的工作量，增加了劳动成本；因此，不满足现有的需求，对此我们提出了一种溅射靶材清洗装置及其方法。
技术实现思路
1、本专利技术提供了一种溅射靶材清洗装置及其方法，具备在对溅射靶材清洗前先自动对溅射靶材的表面进行打磨，自动清洗的有益效果，解决了上述
技术介绍
中所提到在对溅射靶材进行清洗的过程中，由于溅射靶材表面会有一定的氧化物和杂质，需要对溅射靶材进行打磨后再进行清理，无形中增加了一定的工作量，增加了劳动成本的问题。
2、本专利技术提供如下技术方案：一种溅射靶材清洗装置，包括浸泡池，所述浸泡
3、作为本专利技术所述的一种溅射靶材清洗装置可选方案，其中：所述支撑壁的侧面开设有滑动轨道，所述滑动柱与滑动轨道滑动连接，所述滑动轨道的下方设有抵触轨道，所述抵触轨道固定安装在支撑壁的侧面上，所述抵触轨道的两端均设有倾斜轨道。
4、作为本专利技术所述的一种溅射靶材清洗装置可选方案，所述放置管的内壁开设有螺旋槽，所述螺旋槽的纹路之间设有多个圆孔，所述圆孔开设在放置管上，所述圆孔用于方便丙酮液进入，所述放置管的一端固定连接有抵触斜块。
5、作为本专利技术所述的一种溅射靶材清洗装置可选方案，所述夹持组件包括与控制杆滑动连接的控制块，所述控制块位于控制杆的内部，所述控制块的一侧固定连接有抵触柱，所述抵触柱用于与抵触轨道、倾斜轨道滑动连接，所述控制块的一侧固定连接有弹力簧，所述弹力簧位于控制杆内，所述弹力簧的一端固定连接有夹持块，所述夹持块用于对溅射靶材进行夹持，所述夹持块与放置管一端的侧壁滑动连接，所述夹持块位于放置管内，所述控制块的上方固定连接有密封垫，所述密封垫滑动连接有液压仓，所述液压仓固定安装在控制杆内。
6、作为本专利技术所述的一种溅射靶材清洗装置可选方案，所述打磨清洁组件包括固定安装在放置管一端侧壁的多级液压杆，所述多级液压杆的一端转动连接有滚珠，所述滚珠的一侧抵触有限制块，所述限制块与螺旋槽滑动连接，所述限制块位于放置管内，且限制块与放置管转动连接，所述多级液压杆外套有复位簧，所述复位簧的一端固定连接有固定环，所述固定环与限制块滑动连接，所述复位簧的另一端与放置管固定连接。
7、作为本专利技术所述的一种溅射靶材清洗装置可选方案，所述限制块内设有用于对溅射靶材进行擦拭的清洁棉片，所述清洁棉片呈圆环状，所述清洁棉片的两侧均固定连接有挤压弧环，所述挤压弧环用于对清洁棉片进行挤压，所述挤压弧环的一侧抵触有挤压杆，所述挤压杆的中间与限制块转动连接。
8、作为本专利技术所述的一种溅射靶材清洗装置可选方案，所述所述清洁棉片的一侧设有打磨弧环，所述打磨弧环位于限制块内，且打磨弧环与限制块滑动连接，所述打磨弧环的一侧开设有斜面，所述斜面用于引导溅射靶材方便插入放置管内，所述打磨弧环的一侧固定连接有弹簧，所述弹簧的一端固定连接有抵触块，所述抵触块与限制块滑动连接，所述抵触块的一端固定连接有梯形抵块，所述梯形抵块用于与抵触斜块抵触，所述抵触块的一侧用于与挤压杆的一端抵触，所述限制块的内侧固定连接有限位柱，所述限位柱穿过梯形抵块与打磨弧环滑动连接。
9、作为本专利技术所述的一种溅射靶材清洗装置可选方案，所述抵触块的两侧设有弹性固定片，所述弹性固定片用于固定抵触块的位置，所述弹性固定片固定安装在限制块内。
10、作为本专利技术的一种可选方案，所述的一种溅射靶材清洗装置的使用方法其中：包括以下步骤：
11、s1：首先将需要清洗的溅射靶材插入放置管内，插入后在弹力簧的作用下会先对溅射靶材进行初步的固定，防止溅射靶材掉落；
12、s2：启动气动伸缩杆通过气动伸缩杆带动滑动管进行滑动，随后通过滑动柱在滑动轨道内滑动，带动控制杆和放置管往浸泡池内落，使溅射靶材能够浸泡在浸泡池内；
13、s3：随后通过抵触柱与抵触轨道的抵触，使夹持块将溅射靶材固定在放置管内，随后通过多级液压杆带动打磨清洁组件在放置管内进行移动；
14、s4：限制块在滑动的过程中，通过螺旋槽的设计使得限制块进行转动，转动的同时带动打磨弧环对溅射靶材的表面进行打磨，打磨过后再通过清洁棉片对溅射靶材的表面进行擦拭清洁，从而完成对溅射靶材的打磨与清洁。
15、本专利技术具备以下有益效果：
16、1、该溅射靶材清洗装置及其方法，通过结合浸泡、打磨和擦拭等多种清洗方式，装置能够高效地去除溅射靶材表面的污染物。丙酮液的浸泡能够溶解部分有机物，而打磨清洁组件则可以进一步去除顽固的杂质和氧化物，装置的动力组件通过气动伸缩杆和控制杆等部件，实现了对溅射靶材的自动夹持、升降和打磨擦拭，大大提高了清洗效率，降低了人工操作的难度和强度。
17、2、该溅射靶材清洗装置及其方法，装置采用浸泡池和支撑壁等部件的固定安装设计，以及气动伸缩杆等部件的安全防护措施，使得整个操作过程安全可靠，降低了操作风险，同时在打磨完成后的溅射靶材，会从浸泡池内升起，同时通过打磨弧环的外扩将清洁棉片的溶液挤出，然后再对溅射靶材的表面进行擦拭，能够防止溅射靶材的表面附着过多的溶液。
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1.一种溅射靶材清洗装置，包括浸泡池(1)，其特征在于：所述浸泡池(1)内装有丙酮液，所述浸泡池(1)的上方固定连接有支撑壁(11)，所述支撑壁(11)的上方安装有动力组件(2)，所述动力组件(2)包括固定安装在支撑壁(11)上方的气动伸缩杆(21)，所述气动伸缩杆(21)的一端固定连接有滑动管(22)，所述滑动管(22)与支撑壁(11)的上方滑动连接，所述滑动管(22)内滑动连接有控制杆(23)，所述控制杆(23)的一端固定连接有滑动柱(24)，所述控制杆(23)的下端固定连接有用于放置溅射靶材(6)的放置管(3)，所述放置管(3)的一端设有用于夹持溅射靶材(6)的夹持组件(4)，所述夹持组件(4)位于放置管(3)的内部，所述放置管(3)内安装有打磨清洁组件(5)，所述打磨清洁组件(5)用于对溅射靶材(6)的外表进行打磨擦拭，所述打磨清洁组件(5)位于夹持组件(4)的一侧。
2.根据权利要求1所述的一种溅射靶材清洗装置，其特征在于：所述支撑壁(11)的侧面开设有滑动轨道(25)，所述滑动柱(24)与滑动轨道(25)滑动连接，所述滑动轨道(25)的下方设有抵触轨道(2
3.根据权利要求1所述的一种溅射靶材清洗装置，其特征在于：所述放置管(3)的内壁开设有螺旋槽(31)，所述螺旋槽(31)的纹路之间设有多个圆孔(32)，所述圆孔(32)开设在放置管(3)上，所述圆孔(32)用于方便丙酮液进入，所述放置管(3)的一端固定连接有抵触斜块(33)。
4.根据权利要求3所述的一种溅射靶材清洗装置，其特征在于：所述夹持组件(4)包括与控制杆(23)滑动连接的控制块(41)，所述控制块(41)位于控制杆(23)的内部，所述控制块(41)的一侧固定连接有抵触柱(42)，所述抵触柱(42)用于与抵触轨道(26)、倾斜轨道(27)滑动连接，所述控制块(41)的一侧固定连接有弹力簧(43)，所述弹力簧(43)位于控制杆(23)内，所述弹力簧(43)的一端固定连接有夹持块(44)，所述夹持块(44)用于对溅射靶材(6)进行夹持，所述夹持块(44)与放置管(3)一端的侧壁滑动连接，所述夹持块(44)位于放置管(3)内，所述控制块(41)的上方固定连接有密封垫(45)，所述密封垫(45)滑动连接有液压仓(46)，所述液压仓(46)固定安装在控制杆(23)内。
5.根据权利要求1所述的一种溅射靶材清洗装置，其特征在于：所述打磨清洁组件(5)包括固定安装在放置管(3)一端侧壁的多级液压杆(51)，所述多级液压杆(51)的一端转动连接有滚珠(52)，所述滚珠(52)的一侧抵触有限制块(53)，所述限制块(53)与螺旋槽(31)滑动连接，所述限制块(53)位于放置管(3)内，且限制块(53)与放置管(3)转动连接，所述多级液压杆(51)外套有复位簧(514)，所述复位簧(514)的一端固定连接有固定环(515)，所述固定环(515)与限制块(53)滑动连接，所述复位簧(514)的另一端与放置管(3)固定连接。
6.根据权利要求5所述的一种溅射靶材清洗装置，其特征在于：所述限制块(53)内设有用于对溅射靶材(6)进行擦拭的清洁棉片(54)，所述清洁棉片(54)呈圆环状，所述清洁棉片(54)的两侧均固定连接有挤压弧环(55)，所述挤压弧环(55)用于对清洁棉片(54)进行挤压，所述挤压弧环(55)的一侧抵触有挤压杆(56)，所述挤压杆(56)的中间与限制块(53)转动连接。
7.根据权利要求6所述的一种溅射靶材清洗装置，其特征在于：所述所述清洁棉片(54)的一侧设有打磨弧环(57)，所述打磨弧环(57)位于限制块(53)内，且打磨弧环(57)与限制块(53)滑动连接，所述打磨弧环(57)的一侧开设有斜面(58)，所述斜面(58)用于引导溅射靶材(6)方便插入放置管(3)内，所述打磨弧环(57)的一侧固定连接有弹簧(59)，所述弹簧(59)的一端固定连接有抵触块(510)，所述抵触块(510)与限制块(53)滑动连接，所述抵触块(510)的一端固定连接有梯形抵块(511)，所述梯形抵块(511)用于与抵触斜块(33)抵触，所述抵触块(510)的一侧用于与挤压杆(56)的一端抵触，所述限制块(53)的内侧固定连接有限位柱(513)，所述限位柱(513)穿过梯形抵块(511)与打磨弧环(57)滑动连接。
8.根据权利要求7所述的一种溅射靶材清洗装置，其特征在于：所述抵触块(510)的两侧设有弹性固定片(512)，所述弹性固定片(512)用于固定抵触块(510)的位置，所述弹性...
【技术特征摘要】
1.一种溅射靶材清洗装置，包括浸泡池(1)，其特征在于：所述浸泡池(1)内装有丙酮液，所述浸泡池(1)的上方固定连接有支撑壁(11)，所述支撑壁(11)的上方安装有动力组件(2)，所述动力组件(2)包括固定安装在支撑壁(11)上方的气动伸缩杆(21)，所述气动伸缩杆(21)的一端固定连接有滑动管(22)，所述滑动管(22)与支撑壁(11)的上方滑动连接，所述滑动管(22)内滑动连接有控制杆(23)，所述控制杆(23)的一端固定连接有滑动柱(24)，所述控制杆(23)的下端固定连接有用于放置溅射靶材(6)的放置管(3)，所述放置管(3)的一端设有用于夹持溅射靶材(6)的夹持组件(4)，所述夹持组件(4)位于放置管(3)的内部，所述放置管(3)内安装有打磨清洁组件(5)，所述打磨清洁组件(5)用于对溅射靶材(6)的外表进行打磨擦拭，所述打磨清洁组件(5)位于夹持组件(4)的一侧。
2.根据权利要求1所述的一种溅射靶材清洗装置，其特征在于：所述支撑壁(11)的侧面开设有滑动轨道(25)，所述滑动柱(24)与滑动轨道(25)滑动连接，所述滑动轨道(25)的下方设有抵触轨道(26)，所述抵触轨道(26)固定安装在支撑壁(11)的侧面上，所述抵触轨道(26)的两端均设有倾斜轨道(27)。
3.根据权利要求1所述的一种溅射靶材清洗装置，其特征在于：所述放置管(3)的内壁开设有螺旋槽(31)，所述螺旋槽(31)的纹路之间设有多个圆孔(32)，所述圆孔(32)开设在放置管(3)上，所述圆孔(32)用于方便丙酮液进入，所述放置管(3)的一端固定连接有抵触斜块(33)。
4.根据权利要求3所述的一种溅射靶材清洗装置，其特征在于：所述夹持组件(4)包括与控制杆(23)滑动连接的控制块(41)，所述控制块(41)位于控制杆(23)的内部，所述控制块(41)的一侧固定连接有抵触柱(42)，所述抵触柱(42)用于与抵触轨道(26)、倾斜轨道(27)滑动连接，所述控制块(41)的一侧固定连接有弹力簧(43)，所述弹力簧(43)位于控制杆(23)内，所述弹力簧(43)的一端固定连接有夹持块(44)，所述夹持块(44)用于对溅射靶材(6)进行夹持，所述夹持块(44)与放置管(3)一端的侧壁滑动连接，所述夹持块(44)位于放置管(3)内，所述控制块(41)的上方固定连接有密封垫(45)，所述密封垫(45)滑动连接有液压仓(46)，所述液...
【专利技术属性】
技术研发人员：吕培聪，黄天乐，董利达，
申请(专利权)人：光微半导体材料宁波有限公司，
类型：发明
国别省市：
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