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【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及废水处理,尤其涉及一种石膏生产用ph测量装置及控制方法。
技术介绍
1、在酸性废水处理石膏工艺中,通过添加石灰石乳与废水中的稀硫酸进行反应中和生成硫酸钙。
2、根据工艺要求该反应ph值通常控制在3-3.5。但该反应后物料含有大量硫酸钙和少量碳酸钙,料浆浓度较高,容易使ph测量装置结垢,干扰测量准确性,甚至损坏ph计,进而造成反应ph值失控引起如喷槽或反应槽搅拌桨过载跳车的生产事故。因此,急需解决。
3、上述内容仅用于辅助理解本专利技术的技术方案,并不代表承认上述内容是最接近的现有技术。
技术实现思路
1、本专利技术所要解决的技术问题是提供一种石膏生产用ph测量装置及控制方法,该装置能够保证ph计长时间正常工作,确保生产安全,且结构简单,易于日常使用和维护。
2、为达到所述目的,本专利技术的技术方案是这样实现的,一种石膏生产用ph测量装置,包括:储液箱、ph计和过滤排膏组件;所述储液箱与生产料浆的溜槽连通,且储液箱上设有液体流出用的出口;所述过滤排膏组件设置在储液箱中,并将储液箱分隔为渣浆区和清液区,渣浆区用于对流入储液箱的料浆进行过滤;所述ph计位于清液区,用于对过滤后的料浆进行ph检测,且过滤排膏组件控制渣浆区和清液区的进液与排液工序同步进行。
3、优选的,所述过滤排膏组件包括过滤板、输入管、第一排渣管和排液管;所述过滤板设置在储液箱中,并将储液箱的内部分隔为渣浆区和清液区,且过滤板上设有过滤料浆的滤孔;所述输入管的一
4、优选的,还包括溢流板和第二排渣管;所述溢流板设置在储液箱的清液区中,且溢流板的高度小于清液区的深度,溢流板将清液区分隔为ph测量区和排液区,ph测量区一侧与渣浆区连通,另一侧与排液区连通;所述ph计安装在ph测量区;所述第二排渣管与排液区的底部连通。
5、优选的,所述溢流板顶部设有v型溢流口。
6、优选的,所述过滤板包括上隔板和下过滤网;所述上隔板安装在储液箱内部工作腔的顶端区域;所述下过滤网的顶端与上隔板底部连接,下过滤网的底部与储液箱内部工作腔的底部连接。
7、优选的,所述储液箱的底部设为倾斜面,且第一排渣管和第二排渣管均与储液箱底部的最低处连通。
8、优选的,还包括液位计、流量计、进液控制阀、出液控制阀、第一出渣控制阀和第二出渣控制阀;所述液位计安装在溢流板的顶部,用于监测ph测量区的液位高度;所述进液控制阀安装在输入管上,用于控制输入管输送浆液的流量;所述出液控制阀安装在排液管上,用于控制排液管排出液体的流量;所述第一出渣控制阀安装在第一排渣管上,用于控制第一排渣管进行排放与关闭;所述第二出渣控制阀安装在第二排渣管上,用于控制第二排渣管的进行排放与关闭;所述流量计安装在输入管的出液口和排液管的进液口。
9、优选的,还包括喷头;所述喷头至少有两个,安装在储液箱中,并分别与储液箱的底部和下过滤网相对。
10、优选的,所述输入管出液口的位置高于排液管进液口的位置。
11、优选的,所述控制方法包括以下步骤:
12、s1、所述输入管将溜槽中的浆料导入储液箱的渣浆区;所述下过滤网对浆料进行过滤,生成清液和石膏,清液沿下过滤网的网孔进入ph测量区,并沿溢流板顶部的v型溢流口流入排液区,流入排液区的清液沿排液管流出;
13、s2、ph测量区的ph计对清液的ph值检测,液位计对ph测量区清液的液位进行检测;流量计对输入管出液口的流量进行实时检测和排液管进液口的流量进行实时检测;
14、s3、若液位计检测出ph测量区清液的液位低于ph计的最低检测点,调节进液控制阀开度增大,输入管对浆料的输送量增大,调节出液控制阀开度减小,排液管对清液输出的量减少;流量计检测输入管的输入量与排液管的输出量是否与第一出渣控制阀和出液控制阀开度成正比;
15、s4、若流量计检测出输入管的输入量与排液管的输出量与进液控制阀和第二出渣控制阀开度调节不成正比,则判定储液箱底部沉淀物石膏过多或下过滤网堵塞,关闭进液控制阀和出液控制阀,开启第一出渣控制阀和第二出渣控制阀,并同时开启喷头对储液箱的底部和下过滤网进行冲洗。
16、本专利技术的有益效果体现在:
17、(1)、本专利技术提供的装置能够对料浆进行过滤,使得料浆分离成石膏和清液,使得ph计对清液进行ph检测,从而ph计的表面不易结垢,使用的时间更长,检测的结果较为准缺,提升了生产的安全性。
18、(2)、本专利技术提供的装置能够实时控制清液的液位高度,从而使得ph计检测过程不会中断,并同时能够对储液箱底部的石膏和下过滤网上的杂质进行实时清理,确保了装置使用的稳定性。
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1.一种石膏生产用pH测量装置,其特征在于,包括:储液箱(10)、pH计(20)和过滤排膏组件;所述储液箱(10)与生产料浆的溜槽连通,且储液箱(10)上设有液体流出用的出口;所述过滤排膏组件设置在储液箱(10)中,并将储液箱(10)分隔为渣浆区和清液区,渣浆区用于对流入储液箱(10)的料浆进行过滤;所述pH计(20)位于清液区,用于对过滤后的料浆进行pH检测,且过滤排膏组件控制渣浆区和清液区的进液与排液工序同步进行。
2.根据权利要求1所述的一种石膏生产用pH测量装置,其特征在于,所述过滤排膏组件包括过滤板、输入管(31)、第一排渣管(32)和排液管(34);所述过滤板设置在储液箱(10)中,并将储液箱(10)的内部分隔为渣浆区和清液区,且过滤板上设有过滤料浆的滤孔;所述输入管(31)的一端与溜槽连通,另一端与渣浆区连通;所述第一排渣管(32)与渣浆区底部连通,用于将过滤料浆生成的石膏排出;所述排液管(34)与清液区连通,用于将清液区完成pH检测的液体导出。
3.根据权利要求2所述的一种石膏生产用pH测量装置,其特征在于,还包括溢流板(11)和第二排渣管
4.根据权利要求3所述的一种石膏生产用pH测量装置,其特征在于,所述溢流板(11)顶部设有V型溢流口。
5.根据权利要求3或4所述的一种石膏生产用pH测量装置,其特征在于,所述过滤板包括上隔板(13)和下过滤网(12);所述上隔板(13)安装在储液箱(10)内部工作腔的顶端区域;所述下过滤网(12)的顶端与上隔板(13)底部连接,下过滤网(12)的底部与储液箱(10)内部工作腔的底部连接。
6.根据权利要求5所述的一种石膏生产用pH测量装置,其特征在于,所述储液箱(10)的底部设为倾斜面,且第一排渣管(32)和第二排渣管(33)均与储液箱(10)底部的最低处连通。
7.根据权利要求6所述的一种石膏生产用pH测量装置,其特征在于,还包括液位计、流量计、进液控制阀(311)、出液控制阀(341)、第一出渣控制阀(321)和第二出渣控制阀(331);所述液位计安装在溢流板(11)的顶部,用于监测pH测量区的液位高度;所述进液控制阀(311)安装在输入管(31)上,用于控制输入管(31)输送浆液的流量;所述出液控制阀(341)安装在排液管(34)上,用于控制排液管(34)排出液体的流量;所述第一出渣控制阀(321)安装在第一排渣管(32)上,用于控制第一排渣管(32)进行排放与关闭;所述第二出渣控制阀(331)安装在第二排渣管(33)上,用于控制第二排渣管(33)的进行排放与关闭;所述流量计安装在输入管(31)的出液口和排液管(34)的进液口。
8.根据权利要求7所述的一种石膏生产用pH测量装置,其特征在于,还包括喷头;所述喷头至少有两个,安装在储液箱(10)中,并分别与储液箱(10)的底部和下过滤网(12)相对。
9.根据权利要求8所述的一种石膏生产用pH测量装置,其特征在于,所述输入管(31)出液口的位置高于排液管(34)进液口的位置。
10.根据权利要求1-9任一项所述的一种石膏生产用pH测量装置的控制方法,其特征在于,所述控制方法包括以下步骤:
...【技术特征摘要】
1.一种石膏生产用ph测量装置,其特征在于,包括:储液箱(10)、ph计(20)和过滤排膏组件;所述储液箱(10)与生产料浆的溜槽连通,且储液箱(10)上设有液体流出用的出口;所述过滤排膏组件设置在储液箱(10)中,并将储液箱(10)分隔为渣浆区和清液区,渣浆区用于对流入储液箱(10)的料浆进行过滤;所述ph计(20)位于清液区,用于对过滤后的料浆进行ph检测,且过滤排膏组件控制渣浆区和清液区的进液与排液工序同步进行。
2.根据权利要求1所述的一种石膏生产用ph测量装置,其特征在于,所述过滤排膏组件包括过滤板、输入管(31)、第一排渣管(32)和排液管(34);所述过滤板设置在储液箱(10)中,并将储液箱(10)的内部分隔为渣浆区和清液区,且过滤板上设有过滤料浆的滤孔;所述输入管(31)的一端与溜槽连通,另一端与渣浆区连通;所述第一排渣管(32)与渣浆区底部连通,用于将过滤料浆生成的石膏排出;所述排液管(34)与清液区连通,用于将清液区完成ph检测的液体导出。
3.根据权利要求2所述的一种石膏生产用ph测量装置,其特征在于,还包括溢流板(11)和第二排渣管(33);所述溢流板(11)设置在储液箱(10)的清液区中,且溢流板(11)的高度小于清液区的深度,溢流板(11)将清液区分隔为ph测量区和排液区,ph测量区一侧与渣浆区连通,另一侧与排液区连通;所述ph计(20)安装在ph测量区;所述第二排渣管(33)与排液区的底部连通。
4.根据权利要求3所述的一种石膏生产用ph测量装置,其特征在于,所述溢流板(11)顶部设有v型溢流口。
5.根据权利要求3或4所述的一种石膏生产用ph测量装置,其特征在于,所述过滤板包括上隔板(13)和下过滤网(12);...
【专利技术属性】
技术研发人员:黄文红,郭宝鉴,俞阳,陆海,
申请(专利权)人:阳新弘盛铜业有限公司,
类型:发明
国别省市:
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