【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及氧化铝产品制造领域，尤其是涉及一种氧化铝制备设备、氧化铝膜制备方法及氧化铝膜。
技术介绍
1、在薄膜上形成氧化铝的方法当前主要是采用真空蒸镀的方法，真空蒸镀，简称蒸镀，是指在真空条件下，采用一定的加热蒸发方式蒸发镀膜材料(或称膜料)并使之气化，粒子飞至基片表面凝聚成膜的工艺方法。蒸镀是使用较早、用途较广泛的气相沉积技术，具有成膜方法简单、薄膜纯度和致密性高、膜结构和性能独特等优点。
2、当前在薄膜上形成氧化铝的方法主要是在真空蒸镀设备内蒸发铝金属的同时向内输入氧气，从而在薄膜上形成氧化铝薄膜，但是当前的输入氧气的氧气输送管呈环形，出气口位于环形的内侧，如公开号为cn217781264u的专利公开的一种一种真空镀铝机，包括真空箱体、抽真空机和气体输送机，真空箱体内部沿薄膜输送方向依次设有放卷辊、镀膜鼓和收卷辊，镀膜鼓两侧设有挡板，放卷辊和收卷辊位于挡板上方，真空箱体内部设有能够上下升降的底座，底座上部固定有蒸发舟，蒸发舟上部设有铝材，铝材位于挡板下方，铝材与镀膜鼓之间形成蒸镀空间，抽真空机与真空箱体内部通过抽真空管连通，气体输送机包括与蒸镀空间连通的气体输送管，气体输送管内通有氧气和氮气的混合气体。本专利技术通过将氮气和氧气进行预混合提高了铝、氮气和氧气的混合效果，通过丝杆调整蒸发舟的位置，有利于提高镀铝效果。这种真空镀铝机具有以下不足：
3、1、出气口位于环形内侧时，当蒸发后的铝颗粒向上运动时，容易将出气口堵住；
4、2、出气口位于环形内侧，气体往水平方向运动，会导致形成的氧化铝
5、3、出气口位于环形内侧，导致氧化铝与薄膜结合力不够；
6、4、出气口位于环形内侧，会导致多个蒸镀后的氧化铝颗粒氧化结合，易导致结合后的颗粒将薄膜烧穿。
技术实现思路
1、鉴于上述现有技术的不足之处，本专利技术的目的在于提供一种氧化铝制备设备及氧化铝膜。改变了这种环形氧气输送管的设计。
2、为解决以上技术问题，本专利技术采取了以下技术方案：
3、本专利技术提供了一种氧化铝制备设备，包括真空腔体，所述真空腔体内设置有蒸发槽，所述蒸发槽上设置有蒸发舟和送气管，所述送气管的出气口位于所述蒸发舟的上方，且所述送气管的出气口的出气方向与蒸发舟蒸发铝金属的蒸发方向一致。
4、进一步地，所述的氧化铝制备设备，所述蒸发槽内设置有多个平行设置的蒸发舟，在水平面内，所述蒸发舟具有两排，分别为前排蒸发组和后排蒸发组，所述前排蒸发舟与后排蒸发舟前后错位设置，所述前排蒸发组的蒸发舟与后排蒸发组蒸发舟一一相邻设置，相邻蒸发舟之间间隔设置。
5、进一步地，所述的氧化铝制备设备，所述前排蒸发组与后排蒸发组之间的错位距离为1cm～5cm。
6、进一步地，所述的氧化铝制备设备，所述送气管上，所述出气口所在的一端，从所述蒸发槽的底部穿过相邻蒸发舟之间的间隔向上伸出。
7、进一步地，所述的氧化铝制备设备，所述送气管呈n字形。
8、进一步地，所述的氧化铝制备设备，所述送气管具有多个，所述蒸发槽上设置有多个用于搭载所述送气管的缺口，所述送气管穿过所述缺口，多个缺口排成一排设置，所述送气管与所述缺口一一对应设置。
9、进一步地，所述的氧化铝制备设备，所述蒸发槽上，相邻缺口之间设置有用于供铝丝穿过的送丝槽口。
10、进一步地，所述的氧化铝制备设备，所述出气口与下方蒸发舟之间的距离为1cm～10cm。
11、本专利技术还提供一种基于上述氧化铝制备设备的氧化铝膜制备方法，包括：
12、对真空腔体抽真空处理；
13、对蒸发舟进行升温处理，升温至1000℃-1100℃；
14、向真空腔体内通过送气管输送氧气，同时对蒸发舟进行再次升温处理，升温至1100℃-1200℃，蒸发的铝金属与氧气作用在蒸发舟上方的薄膜上形成氧化铝层。
15、进一步地，所述的氧化铝膜制备方法，在所述“对蒸发舟进行升温处理，升温至1000℃-1100℃”的步骤中，对蒸发舟进行升温处理，升温至1000℃-1100℃，且持续4-5分钟。
16、进一步地，所述的氧化铝膜制备方法，所述前排蒸发组的蒸发舟的升温速率慢于所述后排蒸发组的蒸发舟10～20s。
17、本专利技术还提供一种氧化铝制备设备制备的氧化铝膜，包括薄膜层，所述薄膜层的上下两个表面均设置有氧化铝层，所述氧化铝层的厚度为30nm-60nm。进一步地，所述的氧化铝膜，所述氧化铝层中，氧化铝占比为90-99.8％，而铝粒子占比为0.2-10％。本专利技术的氧化铝膜，其氧化铝含量高，其导热性能较好，由于铝粒子占比为0.2-10％，而后续会在上述氧化铝膜上形成铝金属，同种金属之间会有冷焊效应，因此，当铝金属和氧化铝中的铝粒子接触后，铝金属会相互渗透，进而加强铝金属层和氧化铝层的结合力。
18、进一步地，所述的氧化铝膜，所述氧化铝层的密度大于所述薄膜层的密度，所述氧化铝层的密度为支撑层密度的2-4倍。
19、相较于现有技术，本专利技术提供的氧化铝制备设备、氧化铝膜制备方法及氧化铝膜，其中，氧化铝制备设备，包括真空腔体，所述真空腔体内设置有蒸发槽，所述蒸发槽上设置有蒸发舟和送气管，所述送气管的出气口位于所述蒸发舟的上方，且所述送气管的出气口的出气方向与蒸发舟蒸发铝金属的蒸发方向一致。本申请将送气管设置在蒸发舟与蒸发舟的上方位置，该送气管的出气口朝上，这样设置一方面出气口不会被堵住，一方面由于气体出来的方向和铝金属蒸发的方向一致，可以提高氧化铝与薄膜的结合力；另一方面氧化铝颗粒不会相互碰撞结合成大颗粒将薄膜扫穿，并且形成的氧化铝更加均匀。
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1.一种氧化铝制备设备，包括真空腔体，其特征在于，所述真空腔体内设置有蒸发槽，所述蒸发槽上设置有蒸发舟和送气管，所述送气管的出气口位于所述蒸发舟的上方，且所述送气管的出气口的出气方向与蒸发舟蒸发铝金属的蒸发方向一致。
2.根据权利要求1所述的氧化铝制备设备，其特征在于，所述蒸发槽内设置有多个平行设置的蒸发舟，在水平面内，所述蒸发舟具有两排，分别为前排蒸发组和后排蒸发组，所述前排蒸发舟与后排蒸发舟前后错位设置，所述前排蒸发组的蒸发舟与后排蒸发组蒸发舟一一相邻设置，相邻蒸发舟之间间隔设置。
3.根据权利要求2所述的氧化铝制备设备，其特征在于，所述前排蒸发组与后排蒸发组之间的错位距离为1cm～5cm。
4.根据权利要求3所述的氧化铝制备设备，其特征在于，所述送气管上，所述出气口所在的一端，从所述蒸发槽的底部穿过相邻蒸发舟之间的间隔向上伸出。
5.根据权利要求4所述的氧化铝制备设备，其特征在于，所述送气管呈N字形。
6.根据权利要求4所述的氧化铝制备设备，其特征在于，所述出气口与下方蒸发舟之间的距离为1cm～10cm。
<...【技术特征摘要】
1.一种氧化铝制备设备，包括真空腔体，其特征在于，所述真空腔体内设置有蒸发槽，所述蒸发槽上设置有蒸发舟和送气管，所述送气管的出气口位于所述蒸发舟的上方，且所述送气管的出气口的出气方向与蒸发舟蒸发铝金属的蒸发方向一致。
2.根据权利要求1所述的氧化铝制备设备，其特征在于，所述蒸发槽内设置有多个平行设置的蒸发舟，在水平面内，所述蒸发舟具有两排，分别为前排蒸发组和后排蒸发组，所述前排蒸发舟与后排蒸发舟前后错位设置，所述前排蒸发组的蒸发舟与后排蒸发组蒸发舟一一相邻设置，相邻蒸发舟之间间隔设置。
3.根据权利要求2所述的氧化铝制备设备，其特征在于，所述前排蒸发组与后排蒸发组之间的错位距离为1cm～5cm。
4.根据权利要求3所述的氧化铝制备设备，其特征在于，所述送气管上，所述出气口所在的一端，从所述蒸发槽的底部穿过相邻蒸发舟之间的间隔向上伸出。
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【专利技术属性】
技术研发人员：于钦芳，罗万里，
申请(专利权)人：深圳劲嘉聚能科技有限公司，
类型：发明
国别省市：
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