【技术实现步骤摘要】
本专利技术例如涉及计算形成于曝光装置中所用的掩模上的掩模图案的图案计算装置及图案计算方法的，进而，本专利技术涉及掩模、曝光装置及曝光方法、元件制造方法、计算机程序和记录媒体的。
技术介绍
1、业界正使用利用形成于掩模上的掩模图案的像而对基板(例如涂布有抗蚀剂的玻璃基板等)进行曝光的曝光装置。曝光装置例如是用于制造液晶显示器或有机电致发光(electro luminescence，el)显示器等平板显示器(flat panel display)。此种曝光装置中，为了制造掩模，要求适当计算(即决定)掩模图案。
2、现有技术文献
3、专利文献
4、专利文献1：美国专利申请公开第2010/0266961号说明书
技术实现思路
1、根据第一方案，提供一种图案计算装置，计算形成于掩模上的掩模图案，所述掩模用于利用曝光用光在基板上形成将单位元件图案部排列多个而成的元件图案，并且所述图案计算装置计算所述掩模图案中用以将一个所述单位元件图案部形成于所述基板上的单位掩模图案部，且通过将计算出的所述单位掩模图案部排列多个而计算所述掩模图案，在计算所述单位掩模图案部时，假定相当于所述单位掩模图案部的至少一部分的特定掩模图案部邻接于所述单位掩模图案部，在此基础上计算所述单位掩模图案部。
2、根据第二方案，提供一种图案计算装置，计算形成于掩模上的掩模图案，所述掩模用于利用曝光用光在基板上形成元件图案，且所述掩模包含：第一掩模区域，为了形成所述元件图案的至少一部分
3、与所述掩模图案的对应关系，而对根据所述元件图案所计算出的所述掩模图案的至少一部分进行修正。
4、根据第三方案，提供一种图案计算装置，计算形成于掩模上的掩模图案，所述掩模用于利用曝光用光在基板上形成元件图案，且所述掩模包含第一掩模区域，所述第一掩模区域为了形成所述元件图案的至少一部分而经所述曝光用光照射至少两次，根据经由所述第一掩模区域的所述曝光用光的曝光特性在所述基板上的不均一，而对根据所述元件图案所计算出的所述掩模图案的至少一部分进行修正。
5、根据第四方案，提供一种图案计算装置，计算形成于掩模上的掩模图案，所述掩模用于利用曝光用光在基板形成元件图案，且所述掩模包含：第三掩模区域，经用以经由第一投影光学系统对所述基板进行曝光的所述曝光用光进行照射；以及第四掩模区域，经用以经由第二投影光学系统对所述基板进行曝光的所述曝光用光进行照射；根据所述第三掩模区域及第四掩模区域与所述掩模图案的对应关系，而对根据所述元件图案所计算出的所述掩模图案的至少一部分进行修正。
6、根据第五方案，提供一种图案计算装置，计算形成于掩模上的掩模图案，所述掩模用于利用曝光用光在基板上形成元件图案，且所述掩模包含第五掩模区域，所述第五掩模区域经用以经由所需的投影光学系统对所述基板进行曝光的所述曝光用光进行照射，根据经由所述第五掩模区域的所述曝光用光的曝光特性在所述基板上的不均一，而对根据所述元件图案所计算出的所述掩模图案的至少一部分进行修正。
7、根据第六方案，提供一种图案计算方法，计算形成于掩模上的掩模图案，所述掩模用于利用曝光用光在基板上形成将单位元件图案部排列多个而成的元件图案，并且所述图案计算方法计算所述掩模图案中用以将一个所述单位元件图案部形成于所述基板上的单位掩模图案部，且通过将计算出的所述单位掩模图案部排列多个而计算所述掩模图案，在计算所述单位掩模图案部时，假定相当于所述单位掩模图案部的至少一部分的特定掩模图案部邻接于所述单位掩模图案部，在此基础上计算所述单位掩模图案部。
8、根据第七方案，提供一种图案计算方法，计算形成于掩模上的掩模图案，所述掩模用于利用曝光用光在基板上形成元件图案，且所述掩模包含：第一掩模区域，为了形成所述元件图案的至少一部分而经所述曝光用光照射至少两次；以及第二掩模区域，为了形成所述元件图案的至少另一部分而经所述曝光用光照射一次；根据所述第一掩模区域及所述第二掩模区域与所述掩模图案的对应关系，而对根据所述元件图案所计算出的所述掩模图案的至少一部分进行修正。
9、根据第八方案，提供一种图案计算方法，计算形成于掩模上的掩模图246840f11pwcn；078043-cn-1543-pct-1第3/40页案，所述掩模用于利用曝光用光在基板上形成元件图案，且所述掩模包含第一掩模区域，所述第一掩模区域为了形成所述元件图案的至少一部分而经所述曝光用光照射至少两次，根据经由所述第一掩模区域的所述曝光用光的曝光特性在所述基板上的不均一，而对根据所述元件图案所计算出的所述掩模图案的至少一部分进行修正。
10、根据第九方案，提供一种图案计算方法，计算形成于掩模上的掩模图案，所述掩模用于利用曝光用光在基板上形成元件图案，且所述掩模包含：第三掩模区域，经用以经由第一投影光学系统对所述基板进行曝光的所述曝光用光进行照射；以及第四掩模区域，经用以经由第二投影光学系统对所述基板进行曝光的所述曝光用光进行照射；根据所述第三掩模区域及所述第四掩模区域与所述掩模图案的对应关系，而对根据所述元件图案所计算出的所述掩模图案的至少一部分进行修正。
11、根据第十方案，提供一种图案计算方法，计算形成于掩模上的掩模图案，所述掩模用于利用曝光用光在基板上形成元件图案，且所述掩模包含第五掩模区域，所述第五掩模区域经用以经由所需的投影光学系统对所述基板进行曝光的所述曝光用光进行照射，根据经由所述第五掩模区域的所述曝光用光的曝光特性在所述基板上的不均一，而对根据所述元件图案所计算出的所述掩模图案的至少一部分进行修正。
12、根据第十一方案，提供一种掩模，其是使用所述第六方案至第十方案中任一方案的图案计算方法而制造。
13、根据第十二方案，提供一种掩模，形成有利用所述第六方案至第十方案中任一方案的图案计算方法所计算出的掩模图案。
14、根据第十三方案，提供一种曝光装置，介隔所述第十一方案或第十二方案的掩模将所述曝光用光照射于所述基板，由此在所述基板上形成所述元件图案。
15、根据第十四方案，提供一种元件制造方法，使用所述第十三方案的曝光装置对涂布有感光剂的所述基板进行曝光，在所述基板上形成所述元件图案，对经曝光的所述感光剂进行显影，形成与所述元件图案对应的曝光图案层，介隔所述曝光图案层对所述基板进行加工。
16、根据第十五方案，提供一种计算机程序，使计算机执行所述第六方案至第十方案中任一方案的图案计算方法。
17、根据第十六方案，提供一种记录媒体，记录有所述第十五方案的计算机程序。
18、根据第十七方案，提供一种掩模，通过照射区域而经照射，所述照射区域含有来自照明系统的照射本文档来自技高网...
【技术保护点】
1.一种掩模，用于曝光装置中，且用于在基板上形成元件图案，所述曝光装置一方面相对于所述基板使至少一部分于扫描方向上排列的第一投影光学系统及第二投影光学系统沿着所述扫描方向移动，一方面在利用经由所述第一投影光学系统的光照射所述基板上沿着所述扫描方向而延伸的区域后，利用经由所述第二投影光学系统的光来照射以进行扫描曝光，
2.根据权利要求1所述的掩模，其中所述配线图案上与沿着所述扫描方向而延伸的区域对应的所述部分的所述线宽，随着从所述部分的所述中心部接近所述部分于所述非扫描方向上的所述端部而变粗。
3.一种掩模，用于利用曝光用光在基板上形成元件图案，所述掩模包括第一配线图案、第二配线图案以及第三配线图案，所述第一配线图案用于在所述基板上形成沿着第一方向而延伸的第一配线，所述第二配线图案用于在所述基板上形成沿着所述第一方向而延伸的第二配线，所述第三配线图案用于在所述基板上形成沿着所述第一方向而延伸的第三配线，
4.根据权利要求3所述的掩模，其中所述掩模用于曝光装置中，且用于在所述基板上形成所述元件图案，所述曝光装置一方面相对于所述基板使至少一部分于扫描
5.根据权利要求3所述的掩模，其中所述第一配线图案、所述第二配线图案及所述第三配线图案各自为数据线。
6.根据权利要求3所述的掩模，其中所述第一配线图案、所述第二配246840F11PWCN；078043-CN-1543-PCT-1第2/2页
7.根据权利要求1至6中任一项所述的掩模，其中所述元件图案具有多个排列的单位元件图案部，
...【技术特征摘要】
1.一种掩模，用于曝光装置中，且用于在基板上形成元件图案，所述曝光装置一方面相对于所述基板使至少一部分于扫描方向上排列的第一投影光学系统及第二投影光学系统沿着所述扫描方向移动，一方面在利用经由所述第一投影光学系统的光照射所述基板上沿着所述扫描方向而延伸的区域后，利用经由所述第二投影光学系统的光来照射以进行扫描曝光，
2.根据权利要求1所述的掩模，其中所述配线图案上与沿着所述扫描方向而延伸的区域对应的所述部分的所述线宽，随着从所述部分的所述中心部接近所述部分于所述非扫描方向上的所述端部而变粗。
3.一种掩模，用于利用曝光用光在基板上形成元件图案，所述掩模包括第一配线图案、第二配线图案以及第三配线图案，所述第一配线图案用于在所述基板上形成沿着第一方向而延伸的第一配线，所述第二配线图案用于在所述基板上形成沿着所述第一方向而延伸的第二配线，所述第三配线图案用于...
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