System.ArgumentOutOfRangeException: 索引和长度必须引用该字符串内的位置。 参数名: length 在 System.String.Substring(Int32 startIndex, Int32 length) 在 zhuanliShow.Bind() 半导体装置制造方法及图纸_技高网

半导体装置制造方法及图纸

技术编号:42859546 阅读:1 留言:0更新日期:2024-09-27 17:24
本发明专利技术的实施方式涉及半导体装置。实施方式的半导体装置具备第一电极、第二电极、第一区域和第二区域。第二电极包含朝向第一电极突出的接触部。第一区域包含第一导电型的第一半导体区域、第二导电型的第二半导体区域、第一导电型的第三半导体区域、栅极电极、第一导电型的第四半导体区域、第二导电型的第五半导体区域。第三半导体区域包含第一部分及第二部分。第四半导体区域在第一方向上设置于第三半导体区域与接触部之间。第四半导体区域在第三方向上与第一部分并排。第五半导体区域设置于第三半导体区域之上,在第二方向上与接触部相接。第五半导体区域在第三方向上与第二部分并排。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术的实施方式涉及半导体装置


技术介绍

1、作为在电力变换等中使用的半导体装置,有在绝缘栅双极型晶体管(igbt,insulated gate bipolar transistor)中内置有二极管的反向导通绝缘栅双极型晶体管(rc-igbt,reverse conducting insulated gate bipolar transistor)。对于该半导体装置,要求使二极管能够更高速地动作的技术。


技术实现思路

1、实施方式的半导体装置具备第一电极、第二电极、第一区域和第二区域。所述第二电极包含朝向所述第一电极突出的接触部,与所述第一电极分离。所述第一区域在所述第一电极与所述第二电极之间设置于所述第一电极的一部分之上。所述第一区域包含第一导电型的第一半导体区域、第二导电型的第二半导体区域、第一导电型的第三半导体区域、栅极电极、第一导电型的第四半导体区域、以及第二导电型的第五半导体区域。所述第二半导体区域的一部分设置于所述第一半导体区域之上。所述第三半导体区域设置于所述第二半导体区域的所述一部分之上,包含第一部分及第二部分。所述栅电极在与从所述第一电极朝向所述第二电极的第一方向垂直的第二方向上隔着栅极绝缘层与所述第三半导体区域相对。所述第四半导体区域在所述第一方向上设置于所述第三半导体区域与所述接触部之间。所述第四半导体区域具有比所述第三半导体区域高的第一导电型的杂质浓度。所述第四半导体区域在与所述第一方向及所述第二方向垂直的第三方向上与所述第一部分并排。所述第五半导体区域设置于所述第三半导体区域之上,在所述第二方向上与所述接触部相接。所述第五半导体区域在所述第三方向上与所述第二部分并排。所述第二区域在所述第一电极与所述第二电极之间设置于所述第一电极的另一部分之上。所述第二区域包含第二导电型的第六半导体区域、所述第二半导体区域的另一部分及第一导电型的第七半导体区域。所述第六半导体区域具有比所述第二半导体区域高的第二导电型的杂质浓度。所述第二半导体区域的所述另一部分设置于所述第六半导体区域之上。所述第七半导体区域设置于所述第二半导体区域的所述另一部分之上。

2、根据本实施方式,能够提供能够使二极管更高速地动作的半导体装置。

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【技术保护点】

1.一种半导体装置,具备:

2.根据权利要求1所述的半导体装置,

3.根据权利要求1或2所述的半导体装置,

4.根据权利要求1或2所述的半导体装置,

5.根据权利要求4所述的半导体装置,

6.根据权利要求4所述的半导体装置,

7.根据权利要求4所述的半导体装置,

8.根据权利要求1或2所述的半导体装置,

【技术特征摘要】

1.一种半导体装置,具备:

2.根据权利要求1所述的半导体装置,

3.根据权利要求1或2所述的半导体装置,

4.根据权利要求1或2所述的半导体装置,

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【专利技术属性】
技术研发人员:吉川大辉
申请(专利权)人:株式会社东芝
类型:发明
国别省市:

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