System.ArgumentOutOfRangeException: 索引和长度必须引用该字符串内的位置。 参数名: length 在 System.String.Substring(Int32 startIndex, Int32 length) 在 zhuanliShow.Bind() 超纯水制造系统以及超纯水的制造方法技术方案_技高网

超纯水制造系统以及超纯水的制造方法技术方案

技术编号:42841043 阅读:10 留言:0更新日期:2024-09-27 17:12
制造降低了硼浓度的超纯水的超纯水制造系统具备与外部空气连通且贮存一次纯水的一次纯水罐(20)、以及与一次纯水罐(20)连接而制造超纯水的子系统(30)。在子系统(30)中制造出的超纯水中的未被使用的超纯水循环到一次纯水罐(20)。子系统(30)具备填充有硼选择性树脂的硼去除装置(33)、以及设置于硼去除装置(33)的下游的非再生型离子交换装置(35)。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】

本专利技术涉及例如能够设置在洁净室内等的超纯水制造系统和超纯水的制造方法。


技术介绍

1、作为在研究机构的实验室等中能够简便地制造超纯水的系统,例如有专利文献1、专利文献2所记载的纯水制造装置。专利文献1所记载的纯水制造装置具备:一次纯水系统,其由供给水生成一次纯水;一次纯水罐,其贮存一次纯水;子系统,其从一次纯水罐被供给一次纯水而生成超纯水;以及采水分配器,其从子系统被供给超纯水而用于超纯水的采水。子系统具备从一次纯水罐被供给一次纯水的紫外线氧化装置、以及设置于紫外线氧化装置的后段的非再生型离子交换装置。在子系统中,未被供给到采水分配器的超纯水循环到一次纯水罐,由此进行循环精制。专利文献1所公开的纯水制造装置构成为能够将一次纯水系统和子系统收容于同一壳体并且与该壳体相邻地配置一次纯水罐,能够作为桌上型的装置而载置于实验台之上等。在专利文献2中公开的纯水制造装置中,在子系统中供纯水循环的配管延伸到采水分配器,并且采水分配器也组装于子系统中的纯水循环系统内。应予说明,在超纯水的制造中将一次纯水系统与子系统进行组合是众所周知的技术,子系统也被称为二次纯水系统。

2、在与半导体装置制造相关的领域中使用超纯水时,要求极力降低超纯水中的硼浓度。专利文献3公开了为了长期得到高度去除了硼的超纯水,在超纯水制造系统的一次纯水系统中设置将硼吸附性树脂和强碱性阴离子交换树脂混合填充的离子交换装置。同样地,专利文献4公开了为了得到抑制了来自硼选择性离子交换树脂的toc(总有机碳;totalorganic carbon)成分的溶出对超纯水制造系统的子系统造成的影响并且降低了硼浓度的超纯水,将在被处理水的供给侧配置有硼选择性离子交换树脂且在排出侧填充有硼选择性离子交换树脂以外的离子交换树脂的离子交换装置设置于超纯水制造系统的一次纯水系统。

3、通常,在洁净室内进行半导体装置的制造、与半导体装置相关的研究。在洁净室中,通过使用hepa过滤器(high efficiency particulate air high filter)、ulpa过滤器(ultra low penetration air filter)而始终过滤该室内的空气,由此去除空气中的例如灰尘或尘埃等浮游粒子,保持清洁的环境。hepa过滤器是在额定风量下对粒径为0.3μm的粒子具有99.97%以上的粒子捕集率的空气过滤器。ulpa过滤器是在额定风量下对粒径为0.15μm的粒子具有99.9995%以上的粒子捕集率的空气过滤器。hepa过滤器、ulpa过滤器大多使用玻璃过滤器作为滤材。在非专利文献1中记载了如下内容:洁净室内的空气中的硼浓度比室外的大气中的硼浓度高,推定该硼来自ulpa过滤器。在非专利文献1中,作为一例,记载了室外的大气中的硼浓度为17ng/m3时洁净室内的空气中的硼浓度为130ng/m3。

4、现有技术文献

5、专利文献

6、专利文献1:日本特开2018-202293号公报

7、专利文献2:日本特开2020-6295号公报

8、专利文献3:日本特开2016-47496号公报

9、专利文献4:日本特开2018-86619号公报

10、非专利文献

11、非专利文献1:technical news洁净室空气中的微量物质的分析tn045[online],株式会社住化分析中心,[2022年1月20日检索],因特网<url:https://www.scas.co.jp/technical-informations/technical-news/pdf/tn045.pdf>


技术实现思路

1、专利技术所要解决的技术问题

2、如果将专利文献1或专利文献2所示的装置配置在洁净室内来制造超纯水,则存在得到的超纯水中的硼浓度没有充分降低的情况。

3、本专利技术的目的在于提供一种能够制造降低了硼浓度的超纯水的超纯水制造系统以及制造方法。

4、用于解决技术问题的技术方案

5、本专利技术的专利技术人们对在洁净室内制造的超纯水中的硼浓度变高的现象进行了研究,结果得到以下见解。即,在超纯水制造系统的子系统设置的一次纯水罐的液面根据在使用点实际使用的超纯水的量、一次纯水向该罐的供给量而变动。如果是大型的超纯水制造系统,则进行了氮气(n2)气体清洗,因此在一次纯水罐中液面上的空间被氮气充满,但在桌上型那样的小型的超纯水制造系统中,一次纯水罐经由通气过滤器与外部空气连通,随着一次纯水罐的液面的变动,罐外部的空气经由通气过滤器进入一次纯水罐。如果小型的超纯水制造系统设置于洁净室内,则洁净室内的空气中所包含的硼成分侵入一次纯水罐内而溶解于一次纯水罐内的纯水,引起由子系统得到的超纯水中的硼浓度的上升。由于超纯水在子系统内循环,因此超纯水中的硼浓度随着时间的经过而进一步上升。由于在一次纯水罐中硼被带入到子系统,因此即使在一次纯水系统中进行硼的去除处理,超纯水中的硼浓度也不会降低。

6、本专利技术的专利技术人们基于上述见解,完成了本专利技术。即,本专利技术的超纯水制造系统具备与外部空气连通且贮存一次纯水的一次纯水罐、以及与一次纯水罐连接而制造超纯水的子系统,在子系统中制造出的超纯水中的未被使用的超纯水循环到一次纯水罐,子系统具有填充有硼选择性树脂的硼去除装置、以及设置于硼去除装置的下游的非再生型离子交换装置。

7、本专利技术的超纯水的制造方法中,将本专利技术的超纯水制造系统设置在洁净室内来制造超纯水。

8、根据本专利技术,能够在洁净室内等制造降低了硼浓度的超纯水。

本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种超纯水制造系统,其特征在于,

2.根据权利要求1所述的超纯水制造系统,其中,

3.根据权利要求2所述的超纯水制造系统,其中,

4.根据权利要求1至3中任一项所述的超纯水制造系统,其中,

5.根据权利要求1至4中任一项所述的超纯水制造系统,其中,

6.一种超纯水的制造方法,其中,将权利要求1至5中任一项所述的超纯水制造系统设置于洁净室内而制造所述超纯水。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】

1.一种超纯水制造系统,其特征在于,

2.根据权利要求1所述的超纯水制造系统,其中,

3.根据权利要求2所述的超纯水制造系统,其中,

4.根据权利要求1至3中任一项所述的超纯水...

【专利技术属性】
技术研发人员:星野隆文佐藤匡
申请(专利权)人:奥加诺株式会社
类型:发明
国别省市:

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