【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及pvd镀膜，具体为一种上腔体自冷却的pvd镀膜设备。
技术介绍
1、pvd镀膜设备在真空环境下利用电场的加速，来对工件进行溅射镀膜作业；使得镀出来的膜层具有较高的硬度以及较高的耐磨性，因此通过膜层可提高工件的使用寿命，继而通过pvd镀膜设备来对工件进行镀膜是尤为重要的；
2、现有技术中申请号为“cn202110985070.7”所公开的专利名称为“一种pvd镀膜设备”，腔体是用以提供物理气相沉积的密封反应腔，腔体上还设置有通气管道、排气管道和真空计，与沉积镀膜有关的反应气体从通气管道输入，为了控制反应气体的输送速度以及输入量，优选地采用流量计来控制，但并非局限于此，其中，参与反应后的反应气体以及反应中生成的副产物等物质，从出气管道排出，为了控制腔体内的压力，在排气管道上还需设置调节阀，通过调节阀以控制排气的速度，其中，真空计用于实施监测腔体内的压力，另外，关于通气管道、出气管道及真空计的个数及分布此处不做过分限制，溅射单元包括磁控组件和靶材固定装置，靶材固定装置位于腔体顶部的内壁，用于承载靶材；磁控组件位于靶材固定装置的上方，采用磁控溅射的方法进行对晶圆背面进行pvd镀膜；
3、现有技术中申请号为“cn202410016564.8”所公开的专利名称为“一种pvd磁控溅射镀膜设备”，腔体为提供物理气相沉积的密封反应腔，其侧壁上设有进气口、真空计，底壁上设有抽气口，溅射部位于腔体的上部，包含溅射靶材、磁控组件、磁控管以及磁控管旋转机构，溅射靶材位于腔体的内顶壁上，磁控组件位于腔体顶部的上方，其顶
4、上述中的两个pvd镀膜设备在使用时，通过磁控管旋转机构带动磁控管进行旋转，磁控管在使用的过程中存在能量的转化，因此会产生大量的热量，上述中的两个pvd镀膜设备在使用时不能及时的对磁控管进行冷却降温，从而会影响磁控管的使用寿命，继而影响磁控管的磁控溅射工作，因此影响整个pvd镀膜设备的使用；
5、所以我们提出了一种上腔体自冷却的pvd镀膜设备，以便于解决上述中提出的问题。
技术实现思路
1、本专利技术的目的在于提供一种上腔体自冷却的pvd镀膜设备，以解决上述
技术介绍
提出的目前市场上磁控管在使用的过程中存在能量的转化，因此会产生大量的热量，上述中的两个pvd镀膜设备在使用时不能及时的对磁控管进行冷却降温，从而会影响磁控管的使用寿命，继而影响磁控管的磁控溅射工作，因此影响整个pvd镀膜设备的使用的问题。
2、为实现上述目的，本专利技术提供如下技术方案：一种上腔体自冷却的pvd镀膜设备，包括镀膜主腔体，以及开设在镀膜主腔体右侧面内的进料口；
3、镀膜主腔体的上方设置有上腔体组件，上腔体组件的上方安装有连接板；
4、还包括：
5、所述镀膜主腔体的的左侧安装有支撑架，支撑架的外侧面安装有翻盖控制机构；
6、所述上腔体组件的内部开设有储水腔，储水腔的上方为开口状结构设置；
7、所述储水腔内放置有磁铁组件；
8、所述上腔体组件和连接板的内部均贯穿安装有竖杆，竖杆的下端与磁铁组件相连接；
9、上腔体组件的下表面安装有靶材本体；
10、所述连接板的左侧面上方连接有连接管，连接管的左侧安装有排水管和进水管；
11、所述储水腔内部的承载板上安装有循环调控组件，循环调控组件设置在磁铁组件的上方；
12、所述镀膜主腔体的底面内部贯穿安装有升降调节杆，升降调节杆的上方安装有放置板。
13、优选的，所述连接板的左侧面内部开设有进水孔和出水孔，进水孔和出水孔的下方连通有储水腔；
14、排水管的前侧设置有进水管，进水管与进水孔对应设置，排水管与出水孔对应设置。
15、优选的，所述连接板的上表面对称安装有翻转架，翻转架的下方通过转动轴杆与支撑架相连接，翻盖控制机构的一端与翻转架的中部位置外侧相连接。
16、优选的，所述镀膜主腔体的左侧内部安装有抽气口。
17、优选的，所述循环调控组件的内部滑动连接有调控杆，调控杆的一端外侧嵌套连接有连接弹簧，调控杆的另一端安装有第一活塞，第一活塞的外侧与循环调控组件的内部贴合滑动连接；
18、循环调控组件内部为空心状结构设置，第一活塞与循环调控组件之间的空间内注入有氩气气体；
19、所述调控杆呈“t”形状结构设置，调控杆的外端分别安装有第一盖板和第二盖板，第一盖板的上方贴合设置有出水孔，第二盖板和进水孔之间错位设置。
20、优选的，所述翻盖控制机构为电动伸缩杆，竖杆的外侧等间距安装有一圈搅动杆，搅动杆设置在储水腔内，搅动杆的外侧设置有循环调控组件，搅动杆的下方设置有磁铁组件。
21、优选的，所述竖杆的外侧安装有主扇形齿轮；
22、所述连接板的上方安装有单旋往复丝杆和传动杆，单旋往复丝杆的左侧设置有传动杆；
23、传动杆的外侧安装有传动齿轮和从扇形齿轮，传动齿轮的上方设置有从扇形齿轮；
24、单旋往复丝杆的外侧安装有连接齿轮；
25、所述主扇形齿轮的外侧间歇式啮合连接有传动齿轮，从扇形齿轮的外侧间歇式啮合连接有连接齿轮；
26、主扇形齿轮的直径小于传动齿轮的直径，从扇形齿轮的直径大于连接齿轮的直径。
27、优选的，所述连接板的上表面贯穿安装有后储水管和前储水管，后储水管和前储水管关于单旋往复丝杆对称设置；
28、后储水管和前储水管的底面内部均为空心状结构设置，后储水管和前储水管的内部空间与储水腔内部的空间相连通。
29、优选的，所述后储水管的内部贯穿设置有后推动杆，前储水管的内部贯穿设置有前推动杆，后推动杆和前推动杆的底端均安装有第二活塞，并且两个第二活塞的高度位置不在同一平面上；
30、第二活塞的外侧面与后储水管和前储水管的内壁贴合设置；
31、后推动杆和前推动杆的一端均与单旋往复丝杆螺纹连接，后推动杆呈“z”字形结构设置，前推动杆呈倒置“l”形状结构设置，后推动杆和前推动杆的移动方向相反。
32、优选的，所述连接板的上表面安装有电机，电机的输出端通过链轮组件与竖杆的外侧相连接；
33、竖杆的上方外侧等间距安装有搅动板，搅动板的最低点高于从扇形齿轮的最高点；
34、主扇形齿轮设置在搅动板和链轮组件之间的位置处。
35、与现有技术相比，本专利技术的有益效果是：该上腔体自冷却的pvd镀膜设备，可根据工作状态对进水孔和出水孔进行自动开合处理，便于自动对冷却水进行更换，使得pvd镀膜设备可自动冷却降温，提高了冷却的质量和效率，提高了磁铁组件和上腔体组件的使用寿命，便于整个p本文档来自技高网...
【技术保护点】
1.一种上腔体自冷却的PVD镀膜设备，包括镀膜主腔体（1），以及开设在镀膜主腔体（1）右侧面内的进料口（2）；
2.根据权利要求1所述的一种上腔体自冷却的PVD镀膜设备，其特征在于：所述连接板（4）的左侧面内部开设有进水孔（41）和出水孔（42），进水孔（41）和出水孔（42）的下方连通有储水腔（301）；
3.根据权利要求1所述的一种上腔体自冷却的PVD镀膜设备，其特征在于：所述连接板（4）的上表面对称安装有翻转架（7），翻转架（7）的下方通过转动轴杆（10）与支撑架（11）相连接，翻盖控制机构（12）的一端与翻转架（7）的中部位置外侧相连接。
4.根据权利要求1所述的一种上腔体自冷却的PVD镀膜设备，其特征在于：所述镀膜主腔体（1）的左侧内部安装有抽气口（14）。
5.根据权利要求2所述的一种上腔体自冷却的PVD镀膜设备，其特征在于：所述循环调控组件（17）的内部滑动连接有调控杆（171），调控杆（171）的一端外侧嵌套连接有连接弹簧（172），调控杆（171）的另一端安装有第一活塞（175），第一活塞（175）的外侧与循环调控
6.根据权利要求1所述的一种上腔体自冷却的PVD镀膜设备，其特征在于：所述翻盖控制机构（12）为电动伸缩杆，竖杆（6）的外侧等间距安装有一圈搅动杆（62），搅动杆（62）设置在储水腔（301）内，搅动杆（62）的外侧设置有循环调控组件（17），搅动杆（62）的下方设置有磁铁组件（16）。
7.根据权利要求1所述的一种上腔体自冷却的PVD镀膜设备，其特征在于：所述竖杆（6）的外侧安装有主扇形齿轮（64）；
8.根据权利要求7所述的一种上腔体自冷却的PVD镀膜设备，其特征在于：所述连接板（4）的上表面贯穿安装有后储水管（19）和前储水管（20），后储水管（19）和前储水管（20）关于单旋往复丝杆（18）对称设置；
9.根据权利要求8所述的一种上腔体自冷却的PVD镀膜设备，其特征在于：所述后储水管（19）的内部贯穿设置有后推动杆（191），前储水管（20）的内部贯穿设置有前推动杆（201），后推动杆（191）和前推动杆（201）的底端均安装有第二活塞（23），并且两个第二活塞（23）的高度位置不在同一平面上；
10.根据权利要求1所述的一种上腔体自冷却的PVD镀膜设备，其特征在于：所述连接板（4）的上表面安装有电机（5），电机（5）的输出端通过链轮组件（61）与竖杆（6）的外侧相连接；
...【技术特征摘要】
1.一种上腔体自冷却的pvd镀膜设备，包括镀膜主腔体（1），以及开设在镀膜主腔体（1）右侧面内的进料口（2）；
2.根据权利要求1所述的一种上腔体自冷却的pvd镀膜设备，其特征在于：所述连接板（4）的左侧面内部开设有进水孔（41）和出水孔（42），进水孔（41）和出水孔（42）的下方连通有储水腔（301）；
3.根据权利要求1所述的一种上腔体自冷却的pvd镀膜设备，其特征在于：所述连接板（4）的上表面对称安装有翻转架（7），翻转架（7）的下方通过转动轴杆（10）与支撑架（11）相连接，翻盖控制机构（12）的一端与翻转架（7）的中部位置外侧相连接。
4.根据权利要求1所述的一种上腔体自冷却的pvd镀膜设备，其特征在于：所述镀膜主腔体（1）的左侧内部安装有抽气口（14）。
5.根据权利要求2所述的一种上腔体自冷却的pvd镀膜设备，其特征在于：所述循环调控组件（17）的内部滑动连接有调控杆（171），调控杆（171）的一端外侧嵌套连接有连接弹簧（172），调控杆（171）的另一端安装有第一活塞（175），第一活塞（175）的外侧与循环调控组件（17）的内部贴合滑动连接；
6.根据权利要求1所述的一种上腔体自冷却的pvd镀膜...
【专利技术属性】
技术研发人员：杜宝胜，钱文朔，刘靖，
申请(专利权)人：苏州佑伦真空设备科技有限公司，
类型：发明
国别省市：
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