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显示装置和制造该显示装置的方法制造方法及图纸

技术编号:42837883 阅读:4 留言:0更新日期:2024-09-27 17:10
本申请公开一种显示装置和制造该显示装置的方法。该显示装置包括:基板;多个阻挡层,位于基板上并且彼此间隔开,多个阻挡层是透明的;光吸收层,接触阻挡层中的每一个的侧面;以及高折射率层,位于光吸收层上。

【技术实现步骤摘要】

一个或多个实施例的方面涉及显示装置和制造该显示装置的方法


技术介绍

1、近来,显示装置的使用和应用已经多样化。另外,随着显示装置在厚度和重量上变得相对更薄和更轻,它们的使用范围已经扩大,并且随着显示装置被用于各种领域,对提供高质量图像的显示装置的需求正在增加。近来,显示装置已经被利用或结合到车辆中,以向坐在驾驶员座位或乘客座位上的用户提供视频。

2、在本
技术介绍
部分中公开的以上信息仅用于增强对
技术介绍
的理解,并且因此在本
技术介绍
部分中讨论的信息不一定构成现有技术。


技术实现思路

1、由位于车辆内部的显示装置发射的光可能从车辆的窗户反射,并且可能到达用户。在这种情况下,这种反射光可能干扰驾驶员对道路的观察,并且产生安全问题。

2、一个或多个实施例的方面包括其中限制从显示装置发射的光的视角的显示装置和制造显示装置的方法。然而,这些特征仅是说明性的,并且根据本公开的实施例的范围不限于此。

3、另外的方面将部分地在下面的描述中阐述并且部分地将根据该描述是明显的,或者可以通过实践本公开所呈现的实施例而获知。

4、根据本公开的一些实施例,显示装置包括:基板;多个阻挡层,位于基板上以彼此间隔开,多个阻挡层是透明的;光吸收层,接触阻挡层中的每一个的侧面;以及高折射率层,位于光吸收层上。

5、根据一些实施例,阻挡层中的每一个可以具有梯形的形状。

6、根据一些实施例,阻挡层中的每一个可以包括透明无机材料或透明聚酰亚胺。

<p>7、根据一些实施例,阻挡层中的每一个可以包括为透明无机材料的二氧化硅(sio2)。

8、根据一些实施例,光吸收层可以包括非晶硅(a-si)或碳化硅(sic)。

9、根据一些实施例,高折射率层的折射率可以大于或等于2且小于或等于2.3。

10、根据一些实施例,高折射率层可以包括选自五氧化二铌(nb2o5)、二氧化钛(tio2)和五氧化二钽(ta2o5)中的至少一种。

11、根据一些实施例,显示装置可以进一步包括:凹槽,为阻挡层之间的空白空间;以及有机膜,填充在凹槽中。

12、根据一些实施例,有机膜的折射率可以大于或等于1.5并且小于或等于1.6。

13、根据一些实施例,有机膜可以包括透明光敏聚酰亚胺(pspi)。

14、根据本公开的一些实施例,制造显示装置的方法包括:形成位于基板上并且彼此间隔开的多个阻挡层,多个阻挡层是透明的;形成接触阻挡层中的每一个的侧面的光吸收层;以及在光吸收层上形成高折射率层。

15、根据一些实施例,光吸收层的形成可以包括:通过使用化学气相沉积(cvd)工艺在阻挡层中的每一个上形成光吸收层形成材料;以及通过蚀刻光吸收层形成材料的至少一部分来形成光吸收层。

16、根据一些实施例,光吸收层形成材料的该至少一部分的蚀刻可以包括:蚀刻光吸收层形成材料的布置在水平方向上的部分。

17、根据一些实施例,光吸收层和高折射率层的形成可以包括:在阻挡层中的每一个上形成光吸收层形成材料;在光吸收层形成材料上形成高折射率层形成材料;以及通过蚀刻光吸收层形成材料的至少一部分和高折射率层形成材料的至少一部分来形成光吸收层和高折射率层。

18、根据一些实施例,光吸收层形成材料的该至少一部分和高折射率层形成材料的该至少一部分的蚀刻可以包括:蚀刻光吸收层形成材料和高折射率层形成材料的布置在水平方向上的部分。

19、根据一些实施例,阻挡层中的每一个可以包括透明无机材料或透明聚酰亚胺。

20、根据一些实施例,阻挡层中的每一个可以包括为透明无机材料的二氧化硅(sio2)。

21、根据一些实施例,光吸收层可以包括非晶硅(a-si)或碳化硅(sic)。

22、根据一些实施例,高折射率层的折射率可以大于或等于2且小于或等于2.3。

23、根据一些实施例,高折射率层可以包括选自五氧化二铌(nb2o5)、二氧化钛(tio2)和五氧化二钽(ta2o5)中的至少一种。

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【技术保护点】

1.一种显示装置,包括:

2.根据权利要求1所述的显示装置,其中,所述阻挡层中的每一个具有梯形的形状。

3.根据权利要求1所述的显示装置,其中,所述阻挡层中的每一个包括透明无机材料或透明聚酰亚胺。

4.根据权利要求3所述的显示装置,其中,所述阻挡层中的每一个包括为所述透明无机材料的二氧化硅。

5.根据权利要求1所述的显示装置,其中,所述光吸收层包括非晶硅或碳化硅。

6.根据权利要求1所述的显示装置,其中,所述高折射率层的折射率大于或等于2且小于或等于2.3。

7.根据权利要求1所述的显示装置,其中,所述高折射率层包括五氧化二铌、二氧化钛和五氧化二钽中的至少一种。

8.根据权利要求1至7中任一项所述的显示装置,进一步包括:

9.根据权利要求8所述的显示装置,其中,所述有机膜的折射率大于或等于1.5并且小于或等于1.6。

10.根据权利要求8所述的显示装置,其中,所述有机膜包括透明光敏聚酰亚胺。

11.一种制造显示装置的方法,所述方法包括:

12.根据权利要求11所述的方法,其中,所述光吸收层的所述形成包括:

13.根据权利要求12所述的方法,其中,所述光吸收层形成材料的所述至少一部分的所述蚀刻包括:蚀刻所述光吸收层形成材料的在水平方向上的部分。

14.根据权利要求11所述的方法,其中,所述光吸收层和所述高折射率层的所述形成包括:

15.根据权利要求14所述的方法,其中,所述光吸收层形成材料的所述至少一部分和所述高折射率层形成材料的所述至少一部分的所述蚀刻包括:蚀刻所述光吸收层形成材料和所述高折射率层形成材料的在水平方向上的部分。

16.根据权利要求11所述的方法,其中,所述阻挡层中的每一个包括透明无机材料或透明聚酰亚胺。

17.根据权利要求16所述的方法,其中,所述阻挡层中的每一个包括为所述透明无机材料的二氧化硅。

18.根据权利要求11至17中任一项所述的方法,其中,所述光吸收层包括非晶硅或碳化硅。

19.根据权利要求11至17中任一项所述的方法,其中,所述高折射率层的折射率大于或等于2且小于或等于2.3。

20.根据权利要求11至17中任一项所述的方法,其中,所述高折射率层包括五氧化二铌、二氧化钛和五氧化二钽中的至少一种。

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【技术特征摘要】

1.一种显示装置,包括:

2.根据权利要求1所述的显示装置,其中,所述阻挡层中的每一个具有梯形的形状。

3.根据权利要求1所述的显示装置,其中,所述阻挡层中的每一个包括透明无机材料或透明聚酰亚胺。

4.根据权利要求3所述的显示装置,其中,所述阻挡层中的每一个包括为所述透明无机材料的二氧化硅。

5.根据权利要求1所述的显示装置,其中,所述光吸收层包括非晶硅或碳化硅。

6.根据权利要求1所述的显示装置,其中,所述高折射率层的折射率大于或等于2且小于或等于2.3。

7.根据权利要求1所述的显示装置,其中,所述高折射率层包括五氧化二铌、二氧化钛和五氧化二钽中的至少一种。

8.根据权利要求1至7中任一项所述的显示装置,进一步包括:

9.根据权利要求8所述的显示装置,其中,所述有机膜的折射率大于或等于1.5并且小于或等于1.6。

10.根据权利要求8所述的显示装置,其中,所述有机膜包括透明光敏聚酰亚胺。

11.一种制造显示装置的方法,所述方法包括:

12.根据权利要求11所述的方法,其中,所述光吸收层的所述形...

【专利技术属性】
技术研发人员:申铉亿
申请(专利权)人:三星显示有限公司
类型:发明
国别省市:

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