System.ArgumentOutOfRangeException: 索引和长度必须引用该字符串内的位置。 参数名: length 在 System.String.Substring(Int32 startIndex, Int32 length) 在 zhuanliShow.Bind() 显示装置的制造装置制造方法及图纸_技高网

显示装置的制造装置制造方法及图纸

技术编号:42799045 阅读:19 留言:0更新日期:2024-09-24 20:45
本发明专利技术涉及显示装置的制造装置。根据一实施方式,显示装置的制造装置具备:真空室;设置于上述真空室的内部、并用于搬送显示装置用的处理基板的搬送路;和离子发生器,其构成为使上述真空室的内部产生离子,上述离子发生器具备:收容于上述真空室的内部、并具有开孔的副室;气体供给部,其构成为向上述副室供给非活性气体;和照射源,其构成为照射用于使供给至上述副室的内部的非活性气体离子化的真空紫外线或X射线。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术的实施方式涉及显示装置的制造装置


技术介绍

1、近年来,应用有机发光二极管(oled)作为显示元件的显示装置得以实用化。该显示元件具备包含薄膜晶体管的像素电路、与像素电路连接的下电极、覆盖下电极的有机层、以及覆盖有机层的上电极。有机层除了发光层以外还包含空穴传输层、电子传输层等功能层。

2、在制造这样的显示元件的过程中,需要抑制可靠性、成品率降低的技术。


技术实现思路

1、实施方式的目的在于提供一种能够抑制可靠性、成品率降低的显示装置的制造装置。

2、根据一实施方式,显示装置的制造装置具备:

3、真空室;设置于上述真空室的内部、并用于搬送显示装置用的处理基板的搬送路;和离子发生器(ionizer),其构成为使上述真空室的内部产生离子,上述离子发生器具备:收容于上述真空室的内部、并具有开孔的副室;气体供给部,其构成为向上述副室供给非活性气体;和照射源,其构成为照射用于使供给至上述副室的内部的非活性气体离子化的真空紫外线或x射线。

4、根据一实施方式,显示装置的制造装置具备:

5、基板储藏部,其收容形成有下电极的显示装置用的处理基板;前处理部,其对上述处理基板进行前处理;蒸镀室,其具备蒸镀源,所述蒸镀源构成为对上述处理基板放射有机层、上电极和盖层中的任一者的材料;搬送室,其供上述处理基板搬送;旋转室,其具备构成为一边保持上述处理基板一边进行旋转的旋转机构;后处理部,其对上述处理基板进行后处理;和离子发生器,其构成为设置于上述基板储藏部、上述前处理部、上述蒸镀室、上述搬送室、上述旋转室及上述后处理部中的至少1个真空室,并使内部产生离子,上述离子发生器具备:收容于上述真空室的内部、并具有开孔的副室;气体供给部,其构成为向上述副室供给非活性气体;和照射源,其构成为照射用于使供给至上述副室的内部的非活性气体离子化的真空紫外线或x射线。

6、根据实施方式,能够提供能抑制可靠性、成品率降低的显示装置的制造装置。

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【技术保护点】

1.显示装置的制造装置,其具备:

2.根据权利要求1所述的显示装置的制造装置,其中,所述真空室维持在小于10-3Pa的压力。

3.根据权利要求1所述的显示装置的制造装置,其中,所述真空室接地,

4.根据权利要求1所述的显示装置的制造装置,其中,所述副室由绝缘材料形成。

5.根据权利要求1所述的显示装置的制造装置,其中,所述气体供给部构成为供给氮或氩作为非活性气体。

6.根据权利要求1所述的显示装置的制造装置,其还具备收容于所述真空室的内部的蒸镀源,

7.根据权利要求6所述的显示装置的制造装置,其中,从所述蒸镀源放射的材料是用于形成有机层、上电极和盖层中的任一者的材料。

8.根据权利要求1所述的显示装置的制造装置,其还具备收容于所述真空室的内部的旋转机构,

9.显示装置的制造装置,其具备:

10.根据权利要求9所述的显示装置的制造装置,其中,所述基板储藏部、所述前处理部、所述蒸镀室、所述搬送室及所述后处理部相互连接,并维持在小于10-3Pa的压力。

11.根据权利要求9所述的显示装置的制造装置,其中,所述真空室接地,

12.根据权利要求9所述的显示装置的制造装置,其中,所述副室由绝缘材料形成。

13.根据权利要求9所述的显示装置的制造装置,其中,所述气体供给部构成为供给氮或氩作为非活性气体。

14.根据权利要求9所述的显示装置的制造装置,其中,所述蒸镀室具备所述离子发生器和所述蒸镀源。

15.根据权利要求9所述的显示装置的制造装置,其中,所述旋转室具备所述离子发生器和所述旋转机构。

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【技术特征摘要】

1.显示装置的制造装置,其具备:

2.根据权利要求1所述的显示装置的制造装置,其中,所述真空室维持在小于10-3pa的压力。

3.根据权利要求1所述的显示装置的制造装置,其中,所述真空室接地,

4.根据权利要求1所述的显示装置的制造装置,其中,所述副室由绝缘材料形成。

5.根据权利要求1所述的显示装置的制造装置,其中,所述气体供给部构成为供给氮或氩作为非活性气体。

6.根据权利要求1所述的显示装置的制造装置,其还具备收容于所述真空室的内部的蒸镀源,

7.根据权利要求6所述的显示装置的制造装置,其中,从所述蒸镀源放射的材料是用于形成有机层、上电极和盖层中的任一者的材料。

8.根据权利要求1所述的显示装置的制造装置,其还具备收容于所述真空室的内部...

【专利技术属性】
技术研发人员:寺田茂树
申请(专利权)人:株式会社日本显示器
类型:发明
国别省市:

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