【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本公开涉及一种用于在对基底进行化学和/或电解表面处理时固持基底的基底支架、包括基底支架和浸没式扫描单元的基底处理系统、以及基底支架用于固持基底的用途。
技术介绍
1、在半导体
，通过各种系统对基底进行处理。其中一种系统就是所谓的高速电镀(high speed plating，hsp)系统。在这种系统中，一个或两个hsp连同一或两个基底一起浸入装有电解液和一个或多个阳极的槽中。在这个充满电解液的槽中，电解液(以及电流分布)通过hsp板流向基底表面。
2、在这种hsp系统中，待处理基底必须由基底支架(也称为卡盘)支撑。由基底支架固持的基底被运输到各个工站并固定到位，以便顺利完成处理。具体而言，当hsp系统与扫描系统结合时，处理、固持和运输已处理的基底需要使用稳定可靠的固持系统。
3、现有技术并未提供安全的处理和运输系统，尤其是适用于大型基底的处理和运输系统。
技术实现思路
1、因此，可能需要提供一种改进的基底支架，用于在对基底进行化学和/或电解表面处理时固持基底，从而提供对基底的准确且有效的处理，具体而言，对经过各种工艺的大型基底。
2、本公开所解决的问题由独立权利要求的内容解决，其中进一步的实施例并入从属权利要求中。
3、需要注意的是，下文描述的本公开内容还适用于在对基底进行化学和/或电解表面处理时用于固持基底的基底支架、包括基底支架和浸没式扫描单元的基底处理系统以及用于固持基底的基底支架的用途。
4、根据本公开内容，
5、用于在对基底进行化学和/或电解表面处理时固持基底的基底支架包括基底载台以及电力接触单元。基底载台包括用于承载基底的框架。电力接触单元包括主体、多个主腿以及多个侧腿，所述主腿从所述主体至少部分地沿着所述基底载台的边缘延伸，每个侧腿基本垂直于其中一个主腿设置以接触所述基底。电力接触单元还包括多个保持元件，所述多个保持元件设置在电力接触单元的主体与基底载台的框架之间，以在基底被放置到基底载台上时保持基底与电力接触单元接触。
6、待处理基底可以放置在基底载台的框架上，以便将基底运送到工站。基底载台可以包括真空装置，用于将框架固持在基底载台上。基底可以用作阴极、阳极或两者交替使用，例如，取决于处理时间。如果基底在工艺的某些时间段内用作阳极，则指定的阳极将变为阴极极化。
7、从电力接触单元的主体延伸的主腿和在其中一个主腿处基本垂直延伸的侧腿可以部分地围绕放置在基底载台上的基底。基本垂直可以意味着大约90°，但也可以介于45°和90°之间。电力接触单元的主腿和侧腿之间的角度可以根据基底支架要固持的基底来定义。电力接触单元的主腿和侧腿可以是单片的，这意味着可以作为单个部件生产。电力接触单元的主体可以是用于所有主腿或几个主腿的一个元件。电力接触单元的主体还可以包括多个主体元件，其中每个主腿从一个主体元件延伸。
8、当基底相对于基底中心倾斜时，相对侧的保持元件可以使放置在框架上的基底与电力接触件保持接触，这种情况可能发生在运输或表面处理工艺(例如预湿、扫描、电镀、冲洗、干燥、无电沉积或电化学处理)期间。这种倾斜通常可能导致所承载的基底与电力接触单元之间的电力接触丢失(例如，因为基底载台可能相对于电力接触单元倾斜，或者换句话说，基底载台相对于其原始位置的角度位置可能发生变化)。中心相对侧的保持元件可以防止在基底相对于基底载台和/或电力接触单元倾斜期间失去接触。
9、基底相对侧上的保持元件可以被配置为对框架施加不同的压力。因此，可通过选择基底载台相对侧上相对于基底载台中心的不同保持元件来进一步调整基底与框架之间的角度。由此基底可以保持与框架平行(两者之间的角度可为0度)，以及保持与框架不完全平行但基本平行的位置。可以把基底压在电力接触单元的主体(更具体而言，是侧腿)和框架之间。因此，电力接触单元的主体和框架之间的保持元件可以施加力以产生接触压力并进一步确保在基底的表面处理过程中保持安全的电接触。
10、通过提供稳定的基底载运和处理，表面处理工艺可以均匀地应用于基底的所有部分(换句话说，基底表面的所有区域)。因此，可以在所有不同的化学或电解表面处理工艺中使用相同的基底支架，而无需在工艺之间松开和重新装载基底或调整基底的位置。
11、在一个实施例中，保持元件包括弹性元件、气动元件、电动元件、磁性元件和/或吸附元件。根据在表面处理期间使用的工艺和工艺流体，可以将保持元件定义为所列可能性之一。例如，根据所用的电解液，电动元件或磁性元件可能不适合用作保持元件，而弹性元件可能更合适。此外，需要施加的力或要固持的基底的尺寸也可以定义用作保持元件的合适装置。例如，根据基底材料在不同接触部分的灵敏度，可以选择相应的保持元件。根据用作保持元件的装置，可以调整在电力接触单元的主体和基底载台的框架之间施加的压力。例如，当保持元件是弹性元件时，可以使用具有不同弹性系数的弹性元件。
12、在一个实施例中，用于在对基底进行化学和/或电解表面处理时固持基底的基底支架还包括多个电接触部件。电接触部件可以存在于电力接触单元处，更具体而言，可以设置在侧腿上以向基底供应电流。电接触部件可以以可靠的方式接触基底，从而为电解表面处理提供足够的电流，以及为基底处理提供极好的支撑。由于可以控制基底相对于基底载台框架的对准，因此可以向基底提供连续的电流供应。因此，可以进行不间断的、稳定的表面处理工艺。
13、在另一个实施例中，电接触部件可以是可更换的。因此，可以更换有缺陷的电接触部件。此外，通过改变电接触部件，可以处理需要更高电压水平以进行特定表面处理工艺的接触区域。
14、在又一实施例中，电接触部件可以具有纤细的设计和薄的形状。电接触部件的减小结构可以实现小间隙处理，即基底和hsp之间的距离较小。
15、在一个实施例中，电力接触单元还包括导电线，所述导电线沿主腿延伸至侧腿上的电接触部件。因此，使用单个电压源，可以通过所有电接触部件供应电流，而无需单独为所有电接触部件通电。这样，可以通过每个电接触部件提供均匀的电流供应，并且可以在基底上获得相等的电流密度。
16、在一个实施例中，主腿、侧腿、电接触部件和/或保持元件仅沿着基底载台的两个相对边缘设置。换句话说，基底支架可以沿基底的两个相对侧固持，并且电接触部件可以从相对边缘向固持的基底提供电流。
17、在另一实施例中，主腿、侧腿、电接触部件和/或保持元件沿基底载台的所有四个边缘设置。换句话说，基底支架可以沿基底的所有侧面固持，以在基底上提供均衡的电流和电流密度分布。然而，施加的电流也可以独立控制，以在基底的不同侧面提供不同的电流分布。
18、在一个实施例中，电接触部件是干式电力接触件、湿式电力接触件和/或接触臂。
19、在干式电力接触中，电力接触单元可以包括围绕电接触部件的密封件。当电接触部件被密封件包围时，本文档来自技高网...
【技术保护点】
1.一种用于在对基底(1)进行化学和/或电解表面处理时固持基底(1)的基底支架(S1)，包括：
2.根据权利要求1所述的基底支架(S1)，其中所述基底(1)相对侧上的保持元件(3d)被配置为对所述框架(2a)施加不同的压力。
3.根据权利要求1或2所述的基底支架(S1)，其中所述保持元件(3d)包括弹性元件、气动元件、电动元件、磁性元件和/或吸附元件。
4.根据前述权利要求之一所述的基底支架(S1)，还包括设置在所述侧腿(3c)上的多个电接触部件(5a)，以向所述基底(1)供应电流。
5.根据前述权利要求所述的基底支架(S1)，其中所述电力接触单元(3)还包括导电线，所述导电线沿所述主腿(3b)延伸至所述侧腿(3c)上的电接触部件(5a)。
6.根据前述权利要求之一所述的基底支架(S1)，其中所述主腿(3b)、所述侧腿(3c)、所述电接触部件(5a)和/或所述保持元件(3d)沿着所述基底载台(2)的两个相对边缘设置，或者沿着所有四个边缘设置。
7.根据权利要求4至6之一所述的基底支架(S1)，其中所述电接触部
8.根据前述权利要求之一所述的基底支架(S1)，其中所述基底载台(2)包括真空单元，所述真空单元被配置为在所述基底载台(2)的框架(2a)和所述基底(1)之间提供吸力。
9.根据前述权利要求所述的基底支架(S1)，其中所述电力接触单元(3)还包括真空管线，所述真空管线沿所述主腿(3b)延伸至设置在所述侧腿(3c)处的吸附区域，以固持所述基底(1)。
10.根据前述权利要求之一所述的基底支架(S1)，其中所述基底载台(2)被配置为仅在所述基底(1)的边缘和/或角落处固持所述基底(1)，以对所述基底(1)的两侧进行双面化学和/或电解表面处理。
11.根据权利要求1至9之一所述的基底支架(S1)，其中所述基底载台(2)被配置为在所述基底载台(2)的相对侧上承载两个基底(1)。
12.根据前述权利要求之一所述的基底支架(S1)，其中所述基底载台(2)为网格状。
13.一种基底处理系统(S)，包括根据前述权利要求之一所述的基底支架(S1)和浸没式扫描单元(S2)，其中所述基底支架(S1)被配置为相对于所述浸没式扫描单元(S2)固持所述基底(1)。
14.根据前述权利要求所述的基底处理系统(S)，还包括搅拌单元，所述搅拌单元被配置为使所述基底(1)或所述浸没式扫描单元(S2)相对于彼此移动，优选在多达三个维度上移动。
15.一种根据权利要求1至12之一所述的基底支架(S1)的用途，用于固持宽度在1000至3500mm范围内且长度在1000至4000mm范围内的基底(1)，优选宽度在1500至3000mm范围内且长度在1500至3500mm范围内的基底(1)。
...【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】
1.一种用于在对基底(1)进行化学和/或电解表面处理时固持基底(1)的基底支架(s1)，包括：
2.根据权利要求1所述的基底支架(s1)，其中所述基底(1)相对侧上的保持元件(3d)被配置为对所述框架(2a)施加不同的压力。
3.根据权利要求1或2所述的基底支架(s1)，其中所述保持元件(3d)包括弹性元件、气动元件、电动元件、磁性元件和/或吸附元件。
4.根据前述权利要求之一所述的基底支架(s1)，还包括设置在所述侧腿(3c)上的多个电接触部件(5a)，以向所述基底(1)供应电流。
5.根据前述权利要求所述的基底支架(s1)，其中所述电力接触单元(3)还包括导电线，所述导电线沿所述主腿(3b)延伸至所述侧腿(3c)上的电接触部件(5a)。
6.根据前述权利要求之一所述的基底支架(s1)，其中所述主腿(3b)、所述侧腿(3c)、所述电接触部件(5a)和/或所述保持元件(3d)沿着所述基底载台(2)的两个相对边缘设置，或者沿着所有四个边缘设置。
7.根据权利要求4至6之一所述的基底支架(s1)，其中所述电接触部件(5a)是干式电力接触件、湿式电力接触件和/或接触臂。
8.根据前述权利要求之一所述的基底支架(s1)，其中所述基底载台(2)包括真空单元，所述真空单元被配置为在所述基底载台(2)的框架(2a)和所述基底(1)之间提供吸力。
9.根据前述...
【专利技术属性】
技术研发人员：安德烈亚斯·格莱斯纳，乔戈·豪佛，
申请(专利权)人：塞姆西斯科有限责任公司，
类型：发明
国别省市：
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