【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及刻蚀管理，具体是一种gaas刻蚀工艺仿真工艺及系统。
技术介绍
1、随着半导体技术的不断发展，gaas材料因其优异的电学性能和光学特性，在光电对抗、激光雷达、航空航天等高精尖领域得到了广泛应用；然而，gaas材料的刻蚀工艺复杂且难以精确控制，传统方法往往依赖于大量实验和试错，难以有效降低制造成本，不利于提高产品质量，有待进行改善；
2、针对上述的技术缺陷，现提出一种解决方案。
技术实现思路
1、本专利技术的目的在于提供一种gaas刻蚀工艺仿真工艺及系统，解决了现有gaas刻蚀工艺依赖于大量实验和试错，难以有效降低制造成本，不利于提高产品质量的问题。
2、为实现上述目的，本专利技术提供如下技术方案：
3、一种gaas刻蚀工艺仿真系统，包括仿真平台，仿真平台包括模型构建模块、优化反馈模块、可视化操作模块和运行综合评估模块；
4、模型构建模块用于构建gaas刻蚀仿真模型，并将gaas刻蚀仿真模型发送至仿真平台进行存储；
5、操作人员通过可视化操作终端将相应工艺参数输入到仿真平台中，仿真平台基于gaas刻蚀仿真模型来分析在相应工艺参数下gaas刻蚀的结果，且将仿真结果发送至优化反馈模块和可视化操作模块；
6、优化反馈模块对仿真结果进行深入分析，评估刻蚀工艺的各项性能指标，包括刻蚀工艺的均匀性和侧蚀情况，识别刻蚀工艺中存在的问题，包括刻蚀不均匀和侧蚀严重，针对识别出的问题生成相应的优化建议，且将问题识别信息
7、运行综合评估模块对仿真平台进行实时监控，设定检测时期，通过分析判断检测时期内仿真平台的运行表现状况，并生成运行综评异常信号或运行综评正常信号，且将运行综评异常信号或运行综评正常信号经仿真平台发送至管理终端。
8、进一步的，运行综合评估模块的具体分析过程如下：
9、获取到仿真效检值、运行稳况值和可视化检测值，将仿真效检值、运行稳况值和可视化检测值与预设仿真效检阈值、预设运行稳况阈值和预设可视化检测阈值分别进行数值比较，若仿真效检值、运行稳况值或可视化检测值超过对应预设阈值，则生成运行综评异常信号。
10、若仿真效检值、运行稳况值和可视化检测值均未超过对应预设阈值，则将仿真效检值、运行稳况值和可视化检测值进行数值计算得到运行综评值，将运行综评值与预设运行综评阈值进行数值比较，若运行综评值超过预设运行综评阈值，则生成运行综评异常信号；若运行综评值未超过预设运行综评阈值，则生成运行综评正常信号。
11、进一步的，运行综合评估模块通信连接仿真效率分析模块、运行稳定性检测模块和可视化检测模块，仿真效率分析模块将检测时期内进行gaas刻蚀工艺仿真的效率状况进行分析，通过分析得到仿真效检值，且将仿真效检值发送至运行综合评估模块；
12、运行稳定性检测模块将检测时期内仿真平台的运行稳定性进行检测分析，通过分析得到运行稳况值，且将运行稳况值发送至运行综合评估模块；可视化检测模块将检测时期内可视化操作模块的性能状况进行分析，通过分析得到可视化检测值，且将可视化检测值发送至运行综合评估模块。
13、进一步的，仿真效率分析模块的具体分析过程如下：
14、采集到检测时期内进行的所有gaas刻蚀工艺仿真过程，将相应gaas刻蚀工艺仿真过程的时长标记为仿真时长，将仿真时长与相应预设仿真时长阈值进行数值比较，若仿真时长超过对应预设仿真时长阈值，则将对应仿真时长标记为异常时长；
15、获取到检测时期内异常时长的数量并将其与仿真时长的总数量进行比值计算得到仿真效异值，且将相应gaas刻蚀工艺仿真过程的仿真时长与对应预设仿真时长阈值进行比值计算得到仿真时况值，并将检测时期的所有仿真时况值进行均值计算得到仿真时析值；
16、通过将仿真效异值和仿真时析值进行数值计算得到仿真效检值。
17、进一步的，运行稳定性检测模块的具体运行过程包括：
18、获取到检测时期内仿真平台的崩溃卡顿次数并将其标记为运异检测值，以及将相应崩溃卡顿过程的持续时长标记为非稳时长，将检测时期内仿真平台的所有非稳时长进行求和计算得到非稳检测值；
19、以及将非稳时长与预设非稳时长阈值进行数值比较，若非稳时长超过预设非稳时长阈值，则将对应非稳时长标记为超异时长，且将检测时期内超异时长的数量标记为超异检测值；
20、通过将运异检测值、非稳检测值和超异检测值进行数值计算得到运行稳况值。
21、进一步的，可视化检测模块的具体分析过程如下：
22、在检测时期设定若干个分析时段，通过可视化追溯分析以得到相应分析时段的显操评估值并判断相应分析时段是否为存异时段，获取到检测时期内存异时段的数量并将其标记为存异检测值，以及将所有分析时段的显操评估值进行均值计算得到显操检况值，且将数值最大的显操评估值标记为显操异幅值；
23、通过将存异检测值、显操检况值和显操异幅值进行数值计算得到可视化检测值。
24、进一步的，可视化追溯分析的具体分析过程如下：
25、采集到可视化操作模块在显示过程中的实时显示亮度，将实时显示亮度相较于对应标准显示亮度的偏离值标记为可视化显偏值，将相应分析时段中的所有可视化显偏值进行均值计算得到可视化显异值，以及将相应分析时段中超过预设可视化显偏阈值的可视化显偏值的数量占比值标记为显异数况值；
26、以及在操作人员对可视化操作模块进行操作时采集到可视化操作模块的反应延迟时长，将相应分析时段中的所有反应延迟时长进行均值计算得到可视化操异值，并将相应分析时段中超过预设反应时长阈值的反应时长的数量占比值标记为反应异况值；通过将可视化显异值、显异数况值、可视化操异值和反应异况值进行数值计算得到相应分析时段的显操评估值。
27、进一步的，在获取到相应分析时段的显操评估值后，将显操评估值与预设显操评估阈值进行数值比较，若显操评估值超过预设显操评估阈值，则判断相应分析时段为存异时段。
28、进一步的，本专利技术还提出了一种gaas刻蚀工艺仿真工艺，包括以下步骤：
29、步骤一、构建gaas刻蚀仿真模型，并将gaas刻蚀仿真模型发送至仿真平台进行存储；
30、步骤二、操作人员通过可视化操作终端将相应工艺参数输入到仿真平台中；
31、步骤三、仿真平台基于gaas刻蚀仿真模型来分析在相应工艺参数下gaas刻蚀的结果；
32、步骤四、对仿真结果进行深入分析以评估刻蚀工艺的各项性能指标，识别刻蚀工艺中存在的问题，并针对识别出的问题生成相应的优化建议；
33、步骤五、对仿真平台进行实时监控，通过分析判断检测时期内仿真平台的运行表现状况，并生成运行综评异常信号或运行综评正常信号。
34、与现有技术相比，本专利技术的有益效果是：
35、1、本专利技术中，通过仿真平台基于gaas刻蚀仿本文档来自技高网...
【技术保护点】
1.一种GaAs刻蚀工艺仿真系统，其特征在于，包括仿真平台，仿真平台包括模型构建模块、优化反馈模块、可视化操作模块和运行综合评估模块；
2.根据权利要求1所述的一种GaAs刻蚀工艺仿真系统，其特征在于，运行综合评估模块的具体分析过程如下：
3.根据权利要求2所述的一种GaAs刻蚀工艺仿真系统，其特征在于，若仿真效检值、运行稳况值和可视化检测值均未超过对应预设阈值，则将仿真效检值、运行稳况值和可视化检测值进行数值计算得到运行综评值，将运行综评值与预设运行综评阈值进行数值比较，若运行综评值超过预设运行综评阈值，则生成运行综评异常信号；若运行综评值未超过预设运行综评阈值，则生成运行综评正常信号。
4.根据权利要求2所述的一种GaAs刻蚀工艺仿真系统，其特征在于，运行综合评估模块通信连接仿真效率分析模块、运行稳定性检测模块和可视化检测模块，仿真效率分析模块将检测时期内进行GaAs刻蚀工艺仿真的效率状况进行分析，通过分析得到仿真效检值，且将仿真效检值发送至运行综合评估模块；
5.根据权利要求4所述的一种GaAs刻蚀工艺仿真系统，其特征在于，仿
6.根据权利要求4所述的一种GaAs刻蚀工艺仿真系统，其特征在于，运行稳定性检测模块的具体运行过程包括：
7.根据权利要求4所述的一种GaAs刻蚀工艺仿真系统，其特征在于，可视化检测模块的具体分析过程如下：
8.根据权利要求7所述的一种GaAs刻蚀工艺仿真系统，其特征在于，可视化追溯分析的具体分析过程如下：
9.根据权利要求8所述的一种GaAs刻蚀工艺仿真系统，其特征在于，在获取到相应分析时段的显操评估值后，将显操评估值与预设显操评估阈值进行数值比较，若显操评估值超过预设显操评估阈值，则判断相应分析时段为存异时段。
10.一种GaAs刻蚀工艺仿真工艺，其特征在于，该工艺采用如权利要求1-9任意一项所述的GaAs刻蚀工艺仿真系统。
...【技术特征摘要】
1.一种gaas刻蚀工艺仿真系统，其特征在于，包括仿真平台，仿真平台包括模型构建模块、优化反馈模块、可视化操作模块和运行综合评估模块；
2.根据权利要求1所述的一种gaas刻蚀工艺仿真系统，其特征在于，运行综合评估模块的具体分析过程如下：
3.根据权利要求2所述的一种gaas刻蚀工艺仿真系统，其特征在于，若仿真效检值、运行稳况值和可视化检测值均未超过对应预设阈值，则将仿真效检值、运行稳况值和可视化检测值进行数值计算得到运行综评值，将运行综评值与预设运行综评阈值进行数值比较，若运行综评值超过预设运行综评阈值，则生成运行综评异常信号；若运行综评值未超过预设运行综评阈值，则生成运行综评正常信号。
4.根据权利要求2所述的一种gaas刻蚀工艺仿真系统，其特征在于，运行综合评估模块通信连接仿真效率分析模块、运行稳定性检测模块和可视化检测模块，仿真效率分析模块将检测时期内进行gaas刻蚀工艺仿真的效率状况进行分析，通过分析得到仿...
【专利技术属性】
技术研发人员：周莉，沈锋，陆佳腾，潘静雯，计忠华，
申请(专利权)人：江苏永鼎股份有限公司，
类型：发明
国别省市：
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