【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及镀膜设备，尤其涉及一种真空溅射镀膜系统及真空溅射镀膜方法。
技术介绍
1、目前，玻璃基板主要采用真空溅射镀膜技术进行镀膜操作，具体为在镀膜生产线上设置的多个真空镀膜室，采用预设材质对玻璃基板进行溅射沉积而形成镀膜玻璃。
2、常规的真空溅射镀膜设备包括连续设置的低真空过渡腔室、中真空过渡腔室和高真空溅射镀膜腔室，玻璃基板需要依次从低真空过渡腔室、中真空过渡腔室经过，然后进入高真空溅射镀膜腔室并停留一段时间，待溅射完成之后再依次从中真空过渡腔室、低真空过渡腔室退出。其中，两个过渡腔室的作用主要是降低大气和高真空溅射镀膜腔室之间的压差，保证腔室间的门不会因为压差过大导致无法正常开启。因此，低真空过渡腔室需要在大气和真空状态来回切换，达到降低腔室间压差并顺利传送玻璃基板的目的。参照图1所示，目前的常规做法是将玻璃基板传送至低真空过渡腔室1’之前，将其压力调节至大气状态，此时可以打开该腔室的第一道门，将玻璃基板传送至该腔室，然后采用真空泵3’将大气状态的低真空过渡腔室1’中的气体抽出，使该腔室处于低真空状态；再将玻璃基板依次传送至中真空过渡腔室、高真空溅射镀膜腔室再依次退回至中真空过渡腔室、低真空过渡腔室1’后，将来自于氮气源2’的氮气注入该真空状态的低真空过渡腔室1’中，使该腔室从从真空状态转换至大气状态，然后将玻璃基板传送出来，完成该玻璃基板的真空溅射镀膜。
3、采用以上方法使低真空过渡腔室在大气和真空状态来回切换时，存在以下问题：
4、(1)、氮气一次注入后在下一个循环内会在抽真空时
5、(2)、真空泵抽真空的做功时间长，电力消耗大；
6、(3)、一块玻璃基板依次传送至低真空过渡腔室、中真空过渡腔室和高真空溅射镀膜腔室镀膜效率低后，再依次经中真空过渡腔室、低真空过渡腔室退出之后，才能将下一块玻璃基板依次传送进各腔室进行镀膜工艺，玻璃基板的真空溅射镀膜效率低。
技术实现思路
1、本专利技术的目的在于提供一种真空溅射镀膜系统以及基于该真空溅射镀膜系统的真空溅射镀膜方法，可以有效提高玻璃基板真空溅射镀膜效率，并能提高氮气利用率，降低能耗和成本。
2、为达此目的，本专利技术采用以下技术方案：
3、一方面，提供一种真空溅射镀膜系统，包括依次连接的第一过渡腔室、第二过渡腔室、第一真空溅射镀膜腔室、第二真空溅射镀膜腔室、第三过渡腔室、第四过渡腔室以及氮气输送系统、抽真空系统以及管路连接控制系统。
4、其中，第一过渡腔室、第二过渡腔室、第一真空溅射镀膜腔室、第二真空溅射镀膜腔室、第三过渡腔室和第四过渡腔室六个腔室中，相邻腔室间设有一密封门，所述第二过渡腔室、所述第一真空溅射镀膜腔室、所述第二真空溅射镀膜腔室和所述第三过渡腔室均处于真空状态，所述第一过渡腔室和所述第四过渡腔室分别在真空状态和与外界大气压一致的大气状态之间进行切换，当所述第一过渡腔室处于真空状态时，所述第一过渡腔室、所述第二过渡腔室和所述第一真空溅射镀膜腔室的真空度依次增大；当所述第四过渡腔室处于真空状态时，所述第二真空溅射镀膜腔室、所述第三过渡腔室、所述第四过渡腔室的真空度依次减小；
5、氮气输送系统、抽真空系统以及管路连接控制系统分别与所述第一过渡腔室和所述第四过渡腔室连接；
6、当所述第一过渡腔室需要从真空状态切换至大气状态、且所述第四过渡腔室需要从大气状态切换至真空状态时，所述管路连接控制系统可选择性控制所述第四过渡腔室内的气体输送至所述第一过渡腔室内；
7、当所述第一过渡腔室需要从大气状态切换至真空状态、且所述第四过渡腔室需要从真空状态切换至大气状态时，所述管路连接控制系统可选择性控制所述第一过渡腔室内的气体输送至所述第四过渡腔室内。
8、作为真空溅射镀膜系统的进一步方案，所述第一过渡腔室与所述第四过渡腔室并排且间隔设置，所述第二过渡腔室与所述第三过渡腔室并排且间隔设置，所述第一真空溅射镀膜腔室与所述第二真空溅射镀膜腔室并排且间隔设置；
9、还包括回转腔室，所述回转腔室分别与所述第一真空溅射镀膜腔室和所述第二真空溅射镀膜腔室连接，所述回转腔室、所述第一真空溅射镀膜腔室和所述第二真空溅射镀膜腔室的压力一致，且相邻腔室间设有一密封门。
10、作为真空溅射镀膜系统的进一步方案，所述管路连接控制系统包括连接管、安装于所述连接管上的电动阀和与所述电动阀电性连接的控制器，所述连接管的两端分别与所述第一过渡腔室和所述第四过渡腔室连接。
11、作为真空溅射镀膜系统的进一步方案，所述氮气输送系统包括氮气源、第一气体输送管和第二气体输送管，所述氮气源通过所述第一气体输送管与所述第一过渡腔室连接，以及通过所述第二气体输送管与所述第四过渡腔室连接，所述连接管分别与所述第一气体输送管和所述第二气体输送管连接，所述第一气体输送管和所述第二气体输送管上分别安装有与所述控制器电性连接的电动阀。
12、作为真空溅射镀膜系统的进一步方案，所述氮气源包括第一氮气源和第二氮气源，所述第一气体输送管包括第一气体输送主管和至少两个第一气体输送支管，所述第一气体输送主管一端与所述第一氮气源连接，另一端与所有的所述第一气体输送支管连接，所述第一气体输送支管远离所述第一气体输送主管的一端分别与所述第一过渡腔室连接；所述第二气体输送管包括第二气体输送主管和至少两个第二气体输送支管，所述第二气体输送主管一端与所述第二氮气源连接，另一端与所有的所述第二气体输送支管连接，所述第二气体输送支管远离所述第二气体输送主管的一端分别与所述第四过渡腔室连接；所述第一气体输送主管和所述第二气体输送主管分别安装有电动阀，所述连接管的两端分别与其中一个所述第一气体输送支管和其中一个所述第二气体输送支管连接。
13、作为真空溅射镀膜系统的进一步方案，所述第一过渡腔室的内壁安装有若干第一过滤器，且每个所述第一过滤器与一个所述第一气体输送支管连通，所述第四过渡腔室的内壁安装有若干第二过滤器，且每个所述第二过滤器与一个所述第二气体输送支管连通。
14、作为真空溅射镀膜系统的进一步方案，所述第一过渡腔室相对的两个内壁分别与一个所述第一气体输送支管连接，所述第四过渡腔室相对的两个内壁分别分别与一个所述第二气体输送支管连接。
15、作为真空溅射镀膜系统的进一步方案，所述抽真空系统包括第一真空泵和第二真空泵，所述第一真空泵通过第三气体输送管与所述第一过渡腔室连接，所述第二真空泵通过第四气体输送管与所述第四过渡腔室连接；
16、所述连接管包括第一连接管、第二连接管、第三连接管、第四连接管和中间连接管，所述第一连接管和所述第二连接管的一端分别与所述第一气体输送支管和所述第二气体输送支管连接，另一端通过第一三通与所述中间连接管连接；所述第三连接管和所述第四连接管的一端分别与所述第三气体输送管和所述第四气体输送管连接，另一端通过第二三通与所述中间连接管远离所述第一三通的本文档来自技高网...
【技术保护点】
1.一种真空溅射镀膜系统，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的真空溅射镀膜系统，其特征在于，所述第一过渡腔室与所述第四过渡腔室并排且间隔设置，所述第二过渡腔室与所述第三过渡腔室并排且间隔设置，所述第一真空溅射镀膜腔室与所述第二真空溅射镀膜腔室并排且间隔设置；
3.根据权利要求1或2所述的真空溅射镀膜系统，其特征在于，所述管路连接控制系统包括连接管、安装于所述连接管上的电动阀和与所述电动阀电性连接的控制器，所述连接管的两端分别与所述第一过渡腔室和所述第四过渡腔室连接。
4.根据权利要求3所述的真空溅射镀膜系统，其特征在于，所述氮气输送系统包括氮气源、第一气体输送管和第二气体输送管，所述氮气源通过所述第一气体输送管与所述第一过渡腔室连接，以及通过所述第二气体输送管与所述第四过渡腔室连接，所述连接管分别与所述第一气体输送管和所述第二气体输送管连接，所述第一气体输送管和所述第二气体输送管上分别安装有与所述控制器电性连接的电动阀。
5.根据权利要求4所述的真空溅射镀膜系统，其特征在于，所述氮气源包括第一氮气源和第二氮气源，所述第一气体
6.根据权利要求5所述的真空溅射镀膜系统，其特征在于，所述第一过渡腔室的内壁安装有若干第一过滤器，且每个所述第一过滤器与一个所述第一气体输送支管连通，所述第四过渡腔室的内壁安装有若干第二过滤器，且每个所述第二过滤器与一个所述第二气体输送支管连通。
7.根据权利要求5所述的真空溅射镀膜系统，其特征在于，所述抽真空系统包括第一真空泵和第二真空泵，所述第一真空泵通过第三气体输送管与所述第一过渡腔室连接，所述第二真空泵通过第四气体输送管与所述第四过渡腔室连接；
8.根据权利要求7所述的真空溅射镀膜系统，其特征在于，所述中间连接管安装有第三过滤器。
9.一种真空溅射镀膜方法，其特征在于，应用如权利要求1至8任一项所述的真空溅射镀膜系统，此真空溅射镀膜方法包括以下步骤：
10.根据权利要求9所述的真空溅射镀膜方法，其特征在于，
...【技术特征摘要】
1.一种真空溅射镀膜系统，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的真空溅射镀膜系统，其特征在于，所述第一过渡腔室与所述第四过渡腔室并排且间隔设置，所述第二过渡腔室与所述第三过渡腔室并排且间隔设置，所述第一真空溅射镀膜腔室与所述第二真空溅射镀膜腔室并排且间隔设置；
3.根据权利要求1或2所述的真空溅射镀膜系统，其特征在于，所述管路连接控制系统包括连接管、安装于所述连接管上的电动阀和与所述电动阀电性连接的控制器，所述连接管的两端分别与所述第一过渡腔室和所述第四过渡腔室连接。
4.根据权利要求3所述的真空溅射镀膜系统，其特征在于，所述氮气输送系统包括氮气源、第一气体输送管和第二气体输送管，所述氮气源通过所述第一气体输送管与所述第一过渡腔室连接，以及通过所述第二气体输送管与所述第四过渡腔室连接，所述连接管分别与所述第一气体输送管和所述第二气体输送管连接，所述第一气体输送管和所述第二气体输送管上分别安装有与所述控制器电性连接的电动阀。
5.根据权利要求4所述的真空溅射镀膜系统，其特征在于，所述氮气源包括第一氮气源和第二氮气源，所述第一气体输送管包括第一气体输送主管和至少两个第一气体输送支管，所述第一气体输送主管一端与所述第一氮气源连接，另一端与所有的所述第一气体输送支管连接，所述第一气体输送支管远离所述第一气体输送主管的一端分别...
【专利技术属性】
技术研发人员：林松涛，
申请(专利权)人：乐金显示光电科技中国有限公司，
类型：发明
国别省市：
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