光掩膜版的缺陷修补装置制造方法及图纸

技术编号:42757136 阅读:6 留言:0更新日期:2024-09-18 13:45
本申请提供了一种光掩膜版的缺陷修补装置,所述装置包括:掩膜版移动载台,用于承载所述光掩膜版;可移动目镜组,所述可移动目镜组位于所述掩膜版移动载台上方并能够在与所述掩膜版移动载台垂直的方向上移动,用于观测所述光掩膜版,以获取所述光掩膜版的缺陷区域;可伸缩保护模块,设置于所述可移动目镜组与所述掩膜版移动载台之间并能够在与所述掩膜版移动载台平行的方向上伸缩,用于对所述光掩膜版的缺陷区域进行保护。上述技术方案,缩短了金属铬残留导致的缺陷处理流程,从而节省了设备时间,节省了生产成本,缩短了制作周期,提高了生产效率。

【技术实现步骤摘要】

本申请涉及半导体制造领域,尤其涉及一种光掩膜版的缺陷修补装置


技术介绍

1、光掩膜版分为透光区和不透光区,光线透过透光区后作用于晶圆表面的光刻胶,使光刻胶发生化学反应产生交联或解交联,而遮光的材料便是铬。对于一些电路图较细微的设计而言,必须要提高光罩上的分辨率,业内常用的方法为采用相偏移光罩(phaseshift mask,缩写为psm),来提高分辨率。现有的相偏移光罩在制作过程中首先提供一石英基板,所述石英基板上形成有相移层,所述相移层上形成有铬(cr)层,并在铬层上涂敷光刻胶,形成电路图案,之后经过刻蚀工艺形成光罩的图案区。在此过程中,位于图案区的铬是需要去除,而图案区周围的铬必须保留。但是在去除铬的步骤中,很容易去除不完全,形成残留缺陷,这对图案区有可能产生较大的影响,乃至于使得光罩不达标。

2、对于相移掩膜版的缺陷修补一般采用重新涂布光阻,再进行曝光,显影和刻蚀的方法,不仅处理步骤多造成交期延长,而且由于清洗和蚀刻的作用会导致相移掩膜版的相位下降,穿透度上升,部分情况下甚至会造成相移掩膜版的报废。

3、因此,提供一种能够减少处理时间且能够避免相位下降,穿透度上升造成相移掩膜版的报废的光掩膜版的缺陷修补装置是亟需解决的技术问题。


技术实现思路

1、本申请所要解决的技术问题是提供一种光掩膜版的缺陷修补装置,以减少对光掩膜版的缺陷修补时间并避免相移掩膜版相位下降,穿透度上升造成相移掩膜版的报废。

2、为了解决上述问题,本申请提供了一种光掩膜版的缺陷修补装置,所述装置包括:掩膜版移动载台,用于承载所述光掩膜版;可移动目镜组,所述可移动目镜组位于所述掩膜版移动载台上方并能够在与所述掩膜版移动载台垂直的方向上移动,用于观测所述光掩膜版,以获取所述光掩膜版的缺陷区域;可伸缩保护模块,设置于所述可移动目镜组与所述掩膜版移动载台之间并能够在与所述掩膜版移动载台平行的方向上伸缩,用于对所述光掩膜版的缺陷区域进行保护,以避免后续滴落的蚀刻液对外围的铬造成影响。

3、在一些具体实施方式中,所述可移动目镜组为可移动电子显微镜。

4、在一些具体实施方式中,所述可伸缩保护模块包括:一喷射腔,用于喷射保护气体至所述光掩膜版的缺陷区域;一管路,用于传输所述保护气体至所述喷射腔;一开关,用于控制所述喷射腔的工作状态。

5、在一些具体实施方式中,所述喷射腔包括多个环状设置的喷口,以均匀的喷射保护气体至所述光掩膜版的缺陷区域。

6、在一些具体实施方式中,所述光掩膜版为不透光区为金属铬的相移掩膜版,所述保护气体为氮气。

7、在一些具体实施方式中,所述装置还包括:固定柱,所述掩膜版移动载台的一端连接于所述固定柱的第一侧壁,所述喷射腔通过一第一连接杆连接至所述固定柱的第一侧壁,所述可移动目镜组通过一第二连接杆连接至所述固定柱的第一侧壁。

8、在一些具体实施方式中,所述第一连接杆能够在与所述掩膜版移动载台平行的方向上运动。

9、在一些具体实施方式中,所述第二连接杆能够在与所述掩膜版移动载台垂直的方向上运动。

10、在一些具体实施方式中,所述装置还包括:移动控制器,用于控制所述掩膜版移动载台、所述第一连接杆以及所述第二连接杆移动。

11、在一些具体实施方式中,所述掩膜版移动载台上具有一腔室,用于容置所述光掩膜版。

12、上述技术方案,通过可移动的所述可移动目镜组观测所述光掩膜版并获取所述光掩膜版的缺陷区域;通过设置于所述可移动目镜组与所述掩膜版移动载台之间并能够在与所述掩膜版移动载台平行的方向上伸缩的所述可伸缩保护模块对所述光掩膜版的缺陷区域进行保护,从而可以在不需涂布光阻的情况下对缺陷进行处理,缩短了金属铬残留导致的缺陷处理流程,从而节省了设备时间,节省了生产成本,缩短了制作周期,提高了生产效率。

13、应当理解的是,以上的一般描述和后文的细节描述仅是示例性和解释性的,并不能限制本申请。对于相关领域普通技术人员已知的技术、方法和设备可能不作详细讨论,但在适当情况下,所述技术、方法和设备应当被视为授权说明书的一部分。

本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种光掩膜版的缺陷修补装置,其特征在于,所述装置包括:

2.根据权利要求1所述的装置,其特征在于,所述可移动目镜组为可移动电子显微镜。

3.根据权利要求1所述的装置,其特征在于,所述可伸缩保护模块包括:

4.根据权利要求3所述的装置,其特征在于,所述喷射腔包括多个环状设置的喷口,以均匀的喷射保护气体至所述光掩膜版的缺陷区域。

5.根据权利要求3所述的装置,其特征在于,所述光掩膜版为不透光区为金属铬的相移掩膜版,所述保护气体为氮气。

6.根据权利要求3所述的装置,其特征在于,所述装置还包括:固定柱,所述掩膜版移动载台的一端连接于所述固定柱的第一侧壁,所述喷射腔通过一第一连接杆连接至所述固定柱的第一侧壁,所述可移动目镜组通过一第二连接杆连接至所述固定柱的第一侧壁。

7.根据权利要求6所述的装置,其特征在于,所述第一连接杆能够在与所述掩膜版移动载台平行的方向上运动。

8.根据权利要求6所述的装置,其特征在于,所述第二连接杆能够在与所述掩膜版移动载台垂直的方向上运动。

9.根据权利要求6所述的装置,其特征在于,所述装置还包括:移动控制器,用于控制所述掩膜版移动载台、所述第一连接杆以及所述第二连接杆移动。

10.根据权利要求1所述的装置,其特征在于,所述掩膜版移动载台上具有一腔室,用于容置所述光掩膜版。

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【技术特征摘要】

1.一种光掩膜版的缺陷修补装置,其特征在于,所述装置包括:

2.根据权利要求1所述的装置,其特征在于,所述可移动目镜组为可移动电子显微镜。

3.根据权利要求1所述的装置,其特征在于,所述可伸缩保护模块包括:

4.根据权利要求3所述的装置,其特征在于,所述喷射腔包括多个环状设置的喷口,以均匀的喷射保护气体至所述光掩膜版的缺陷区域。

5.根据权利要求3所述的装置,其特征在于,所述光掩膜版为不透光区为金属铬的相移掩膜版,所述保护气体为氮气。

6.根据权利要求3所述的装置,其特征在于,所述装置还包括:固定柱,所述掩膜版移动载台的一端连接于所述固定柱的第一...

【专利技术属性】
技术研发人员:黄金李德建
申请(专利权)人:睿晶半导体宁波有限公司
类型:新型
国别省市:

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