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【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及真空镀膜,尤其涉及真空镀膜设备及真空镀膜方法。
技术介绍
1、真空镀膜是目前较为前沿的镀膜技术,应用范围也越来越广泛,如:玻璃领域,太阳能领域,电子产品领域、刀具生产领域等都应用到真空镀膜技术,其中,真空镀膜设备也从单室间歇式真空镀膜设备发展到多室连续式真空镀膜设备。
2、现有技术的立式连续真空镀膜生产线主要包括:进片室、镀膜室和出片室等,其中,进片室和镀膜室之间设有进片室闸阀,进片室闸阀能够连通或断开进片室和镀膜室之间的连通通道,出片室和镀膜室之间设有出片室闸阀,出片室闸阀能够连通或断开出片室和镀膜室之间的连通通道,且在进片室和镀膜室之间往往设置有前精抽室和前过渡室,在出片室和镀膜室之间往往设置有后过渡室和后精抽室。前精抽室、前过渡室、后过渡室和后精抽室均为被抽真空的真空腔室;且进片室、前精抽室、前过渡室、后过渡室、后精抽室和出片室均设置有输送机构,能够带动基板运动。具体地,输送机构带动基板依次经过进片室、前精抽室和前过渡室,并进入至镀膜室镀膜,待镀膜完成后再通过输送机构带动基板依次经过后过渡室、后精抽室和出片室,从而完成对一个基板的镀膜工作流程。
3、现有技术中的立式连续真空镀膜生产线结构较复杂,占用面积较大,导致生产成本较高。
技术实现思路
1、本专利技术的目的在于提供真空镀膜设备及真空镀膜方法,以解决现有技术中的立式连续真空镀膜生产线结构复杂,占用面积大,导致生产成本高的问题。
2、为达此目的,本专利技术采用以下技术方案:<
...【技术保护点】
1.真空镀膜设备,其特征在于,包括两个基板输送室(1)、基板交换室和真空镀膜室(3),其中一个所述基板输送室(1)、所述基板交换室和另一个所述基板输送室(1)沿第一方向依次设置,所述基板交换室还与所述真空镀膜室(3)沿第二方向间隔设置,所述基板输送室(1)能与所述基板交换室连通或断开,所述真空镀膜室(3)还能与所述基板交换室连通或断开;
2.根据权利要求1所述的真空镀膜设备,其特征在于,所述基板交换机构(2)包括第二平移机构(21)、第三平移机构(22)和升降机构(23),所述第二平移机构(21)能够带动所述基板装载架(100)沿所述第一方向运动,所述第三平移机构(22)能够带动至少部分所述第二平移机构(21)、所述升降机构(23)和所述基板装载架(100)同步沿所述第二方向运动,所述升降机构(23)能够带动至少部分所述第二平移机构(21)和所述基板装载架(100)同步沿所述第三方向升降。
3.根据权利要求2所述的真空镀膜设备,其特征在于,所述第二平移机构(21)包括安装基体(211)、第二滚轮组件和第二驱动组件(213),所述安装基体(211)设置于所述
4.根据权利要求3所述的真空镀膜设备,其特征在于,所述第二驱动组件(213)包括第二驱动件(2131)、连接分离结构(2132)和第二传动组件(2133),所述第二驱动件(2131)的输出轴与所述连接分离结构(2132)的一端连接,所述第二传动组件(2133)用于将所述连接分离结构(2132)的另一端与多个所述第二滚轮组(212)传动连接。
5.根据权利要求4所述的真空镀膜设备,其特征在于,所述第二传动组件(2133)包括多个第三斜齿轮(21331)、转动设置于所述安装基体(211)的第二传动轴(21332),以及固定设置于所述第二传动轴(21332)的多个第四斜齿轮(21333),多个所述第三斜齿轮(21331)和多个所述第四斜齿轮(21333)一一对应设置并啮合,且多个所述第三斜齿轮(21331)与多个所述第二滚轮组(212)一一对应设置,所述第三斜齿轮(21331)固定设置于所述第二滚轮组(212)的轮轴,所述连接分离结构(2132)的另一端与其一所述第二滚轮组(212)的轮轴连接。
6.根据权利要求4所述的真空镀膜设备,其特征在于,所述连接分离结构(2132)包括离合器。
7.根据权利要求3所述的真空镀膜设备,其特征在于,所述第二滚轮组(212)包括多个沿所述第二方向间隔分布且均转动设置于所述安装基体(211)的第二滚轮(2121),沿所述第二滚轮(2121)的轴向,至少两个相邻的所述第二滚轮(2121)的轮轴之间通过第二活动结构(2122)连接,所述基板装载架(100)能放置于所述第二滚轮(2121)上。
8.根据权利要求3所述的真空镀膜设备,其特征在于,所述第三平移机构(22)包括第三驱动组件(221),以及沿所述第二方向滑动设置于所述基板交换室的第二安装壳体(24)的安装底板(222),所述升降机构(23)设置于所述安装底板(222)且位于所述安装基体(211)和所述安装底板(222)之间,所述第三驱动组件(221)能带动所述安装底板(222)沿所述第二方向滑动。
9.根据权利要求8所述的真空镀膜设备,其特征在于,所述第三驱动组件(221)包括设置于所述第二安装壳体(24)的第三驱动件(2211)和滚轴丝杆组件,所述第三驱动件(2211)的输出轴与所述滚轴丝杆组件的输入端连接,所述滚轴丝杆组件的输出端与所述安装底板(222)连接。
10.根据权利要求9所述的真空镀膜设备,其特征在于,所述滚轴丝杆组件包括螺纹连接的丝杆(2212)和丝杆螺母,所述第三驱动件(2211)的输出轴和所述丝杆(2212)连接,所述丝杆螺母与所述安装底板(222)连接。
11.根据权利要求8所述的真空镀膜设备,其特征在于,所述第二安装壳体(24)和所述安装底板(222)中的一个设置有沿所述第二方向延伸的滑轨(241),另一个设置有沿所述第二方向延伸的滑块(2221),所述滑轨(241)与所述滑块(2221)滑动配合。
12.根据权利要求8所述的真空镀膜设备,其特征在于,所述升降机构(23)包括设置于所述安装底板(222)的升...
【技术特征摘要】
1.真空镀膜设备,其特征在于,包括两个基板输送室(1)、基板交换室和真空镀膜室(3),其中一个所述基板输送室(1)、所述基板交换室和另一个所述基板输送室(1)沿第一方向依次设置,所述基板交换室还与所述真空镀膜室(3)沿第二方向间隔设置,所述基板输送室(1)能与所述基板交换室连通或断开,所述真空镀膜室(3)还能与所述基板交换室连通或断开;
2.根据权利要求1所述的真空镀膜设备,其特征在于,所述基板交换机构(2)包括第二平移机构(21)、第三平移机构(22)和升降机构(23),所述第二平移机构(21)能够带动所述基板装载架(100)沿所述第一方向运动,所述第三平移机构(22)能够带动至少部分所述第二平移机构(21)、所述升降机构(23)和所述基板装载架(100)同步沿所述第二方向运动,所述升降机构(23)能够带动至少部分所述第二平移机构(21)和所述基板装载架(100)同步沿所述第三方向升降。
3.根据权利要求2所述的真空镀膜设备,其特征在于,所述第二平移机构(21)包括安装基体(211)、第二滚轮组件和第二驱动组件(213),所述安装基体(211)设置于所述升降机构(23)的输出端,所述第二滚轮组件包括多个沿所述第一方向间隔分布且均转动设置于所述安装基体(211)的第二滚轮组(212),所述基板装载架(100)能放置于所述第二滚轮组(212),所述第二驱动组件(213)被配置为能与多个所述第二滚轮组(212)连接或分离,且能带动多个所述第二滚轮组(212)转动于所述安装基体(211)。
4.根据权利要求3所述的真空镀膜设备,其特征在于,所述第二驱动组件(213)包括第二驱动件(2131)、连接分离结构(2132)和第二传动组件(2133),所述第二驱动件(2131)的输出轴与所述连接分离结构(2132)的一端连接,所述第二传动组件(2133)用于将所述连接分离结构(2132)的另一端与多个所述第二滚轮组(212)传动连接。
5.根据权利要求4所述的真空镀膜设备,其特征在于,所述第二传动组件(2133)包括多个第三斜齿轮(21331)、转动设置于所述安装基体(211)的第二传动轴(21332),以及固定设置于所述第二传动轴(21332)的多个第四斜齿轮(21333),多个所述第三斜齿轮(21331)和多个所述第四斜齿轮(21333)一一对应设置并啮合,且多个所述第三斜齿轮(21331)与多个所述第二滚轮组(212)一一对应设置,所述第三斜齿轮(21331)固定设置于所述第二滚轮组(212)的轮轴,所述连接分离结构(2132)的另一端与其一所述第二滚轮组(212)的轮轴连接。
6.根据权利要求4所述的真空镀膜设备,其特征在于,所述连接分离结构(2132)包括离合器。
7.根据权利要求3所述的真空镀膜设备,其特征在于,所述第二滚轮组(212)包括多个沿所述第二方向间隔分布且均转动设置于所述安装基体(211)的第二滚轮(2121),沿所述第二滚轮(2121)的轴向,至少两个相邻的所述第二滚轮(2121)的轮轴之间通过第二活动结构...
【专利技术属性】
技术研发人员:戴晓东,余海春,杨启忠,
申请(专利权)人:光驰科技上海有限公司,
类型:发明
国别省市:
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