System.ArgumentOutOfRangeException: 索引和长度必须引用该字符串内的位置。 参数名: length 在 System.String.Substring(Int32 startIndex, Int32 length) 在 zhuanliShow.Bind() 隐私镀膜玻璃及制备方法技术_技高网

隐私镀膜玻璃及制备方法技术

技术编号:42722009 阅读:8 留言:0更新日期:2024-09-13 12:09
本发明专利技术公开了一种隐私镀膜玻璃及制备方法,隐私镀膜玻璃技术领域。本发明专利技术的隐私镀膜玻璃自下而上依次包括基板和镀膜层,所述镀膜层自下而上依次包括第一介质层、第一光线吸收层、第二介质过渡层、第一电介质光线干涉层、第二光线吸收层、第三介质过渡层、第二电介质光线干涉层,通过改变膜层材料与膜层结构组合、利用多层膜层对光线的干涉、吸收特性,开发出了一款深色、透过率低且具有隐私功能的镀膜玻璃,可以满足城市建筑隐私功能以及美观要求,能够填补市场空白。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及隐私镀膜玻璃,尤其涉及一种隐私镀膜玻璃及制备方法


技术介绍

1、隐私玻璃是一种特殊玻璃,该玻璃从外面很难看到内部,而内部却可以看到外面。隐私玻璃是单向透视型,一般附有特殊涂层,在玻璃生产过程中就加入了特制的颜料,令建筑隔断、遮挡、汽车两侧玻璃等位置使用暗色玻璃,起到遮挡遮蔽作用;在提高建筑、车内隐私性的同时,更避免了阳光的照射,起到阻隔可见光和一定的隔热作用。然而,在本领域中,透过率较低、颜色深且具有较好隐私功能的隐私玻璃依然存在市场空白。


技术实现思路

1、本专利技术的主要目的在于提供一种颜色深、透过率低且具有较强遮蔽功能的隐私镀膜玻璃及制备方法,填补隐私镀膜玻璃市场的空白。

2、为实现上述目的,本专利技术提供一种隐私镀膜玻璃,所述隐私镀膜玻璃自下而上依次包括基板和镀膜层,所述镀膜层自下而上依次包括第一介质层、第一光线吸收层、第二介质过渡层、第一电介质光线干涉层、第二光线吸收层、第三介质过渡层、第二电介质光线干涉层。

3、在本专利技术的一些实施例中,所述第一介质层包括tiox;

4、和/或,所述第一光线吸收层包括nicrnx;

5、和/或,所述第二介质过渡层包括azox;

6、和/或,所述第一电介质光线干涉层包括sinx;

7、和/或,所述第二光线吸收层包括cr;

8、和/或,所述第三介质过渡层包括azox;

9、和/或,所述第二电介质光线干涉层包括sinx。

<p>10、在本专利技术的一些实施例中,所述第一介质层的厚度为40nm~42nm;

11、和/或,所述第一光线吸收层的厚度为9.5nm~11nm;

12、和/或,所述第二介质过渡层的厚度为4nm~6nm;

13、和/或,所述第一电介质光线干涉层的厚度为85nm~90nm;

14、和/或,所述第二光线吸收层的厚度为4nm~5nm;

15、和/或,所述第三介质过渡层的厚度为4nm~6nm;

16、和/或,所述第二电介质光线干涉层的厚度为18nm~22nm。

17、在本专利技术的一些实施例中,所述隐私镀膜玻璃还包括顶层保护层,所述顶层保护层设于所述第二电介质光线干涉层的上表面;和/或,所述隐私镀膜玻璃还包括gese层,所述gese层设于所述基板和第一介质层之间。

18、在本专利技术的一些实施例中,所述隐私镀膜玻璃还包括顶层保护层,所述顶层保护层的厚度为2nm~4nm;和/或,所述隐私镀膜玻璃还包括gese层,所述gese层的厚度为2nm~4nm。

19、本专利技术还提供一种如上所述隐私镀膜玻璃的制备方法,包括以下步骤:

20、在玻璃基片的表面溅射第一介质层;

21、在所述第一介质层的表面溅射第一光线吸收层;

22、在所述第一光线吸收层的表面溅射第二介质过渡层;

23、在所述第二介质过渡层的表面溅射第一电介质光线干涉层;

24、在所述第一电介质光线干涉层的表面溅射第二光线吸收层;

25、在所述第二光线吸收层的表面溅射第三介质过渡层;

26、在所述第三介质过渡层的表面溅射第二电介质光线干涉层。

27、在本专利技术的一些实施例中,在制备所述第一介质层的步骤中,以金属钛作为靶材;

28、在制备所述第一光线吸收层的步骤中,以镍铬作为靶材;

29、在制备所述第二介质过渡层的步骤中,以陶瓷氧化锌作为靶材;

30、在制备所述第一电介质光线干涉层的步骤中,以硅铝作为靶材;

31、在制备所述第二光线吸收层的步骤中,以cr为靶材;

32、在制备所述第三介质过渡层的步骤中,以陶瓷氧化锌作为靶材;

33、在制备所述第二电介质光线干涉层的步骤中,以硅铝作为靶材。

34、在本专利技术的一些实施例中,在氧气条件下制备所述第一介质层;

35、和/或,在氮气和氩气的条件下制备所述第一光线吸收层;

36、和/或,在氩气和氧气的条件下制备所述第二介质过渡层;

37、和/或,在氮气和氩气的条件下制备第一电介质光线干涉层;

38、和/或,在氩气和氧气的条件下制备第二光线吸收层;

39、和/或,在氩气和氧气的条件下制备第三介质过渡层;

40、和/或,在氮气和氩气的条件下制备第二电介质光线干涉层。

41、在本专利技术的一些实施例中,还在所述第二电介质光线干涉层的表面溅射顶层保护层;和/或,在所述玻璃基片的表面制备gese层,再在所述gese层的表面溅射所述第一介质层。

42、在本专利技术的一些实施例中,在所述第二电介质光线干涉层的表面溅射顶层保护层,在制备所述顶层保护层的步骤中,以金属锆作为靶材。

43、本专利技术所能实现的有益效果:

44、本专利技术使用常规的镀膜材料,通过改变膜层材料与膜层结构组合、利用多层膜层对光线的干涉、吸收特性,开发出了一款深色、透过率低且具有隐私功能的镀膜玻璃,可以满足城市建筑隐私功能以及美观要求,能够填补市场空白。

本文档来自技高网
...

【技术保护点】

1.一种隐私镀膜玻璃,其特征在于,所述隐私镀膜玻璃自下而上依次包括基板和镀膜层,所述镀膜层自下而上依次包括第一介质层、第一光线吸收层、第二介质过渡层、第一电介质光线干涉层、第二光线吸收层、第三介质过渡层、第二电介质光线干涉层。

2.根据权利要求1所述的隐私镀膜玻璃,其特征在于,

3.根据权利要求1所述的隐私镀膜玻璃,其特征在于,

4.根据权利要求1所述的隐私镀膜玻璃,其特征在于,所述隐私镀膜玻璃还包括顶层保护层,所述顶层保护层设于所述第二电介质光线干涉层的上表面;和/或,所述隐私镀膜玻璃还包括GeSe层,所述GeSe层设于所述基板和第一介质层之间。

5.根据权利要求4所述的隐私镀膜玻璃,其特征在于,所述隐私镀膜玻璃还包括顶层保护层,所述顶层保护层的厚度为2nm~4nm;

6.一种权利要求1至5任意一项所述隐私镀膜玻璃的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:

7.根据权利要求6所述隐私镀膜玻璃的制备方法,其特征在于,在制备所述第一介质层的步骤中,以金属钛作为靶材;

8.根据权利要求6所述隐私镀膜玻璃的制备方法,其特征在于,在氧气条件下制备所述第一介质层;

9.根据权利要求6至8任一所述隐私镀膜玻璃的制备方法,其特征在于,还在所述第二电介质光线干涉层的表面溅射顶层保护层;和/或,在所述玻璃基片的表面制备GeSe层,再在所述GeSe层的表面溅射所述第一介质层。

10.根据权利要求9所述隐私镀膜玻璃的制备方法,其特征在于,在所述第二电介质光线干涉层的表面溅射顶层保护层,在制备所述顶层保护层的步骤中,以金属锆作为靶材。

...

【技术特征摘要】

1.一种隐私镀膜玻璃,其特征在于,所述隐私镀膜玻璃自下而上依次包括基板和镀膜层,所述镀膜层自下而上依次包括第一介质层、第一光线吸收层、第二介质过渡层、第一电介质光线干涉层、第二光线吸收层、第三介质过渡层、第二电介质光线干涉层。

2.根据权利要求1所述的隐私镀膜玻璃,其特征在于,

3.根据权利要求1所述的隐私镀膜玻璃,其特征在于,

4.根据权利要求1所述的隐私镀膜玻璃,其特征在于,所述隐私镀膜玻璃还包括顶层保护层,所述顶层保护层设于所述第二电介质光线干涉层的上表面;和/或,所述隐私镀膜玻璃还包括gese层,所述gese层设于所述基板和第一介质层之间。

5.根据权利要求4所述的隐私镀膜玻璃,其特征在于,所述隐私镀膜玻璃还包括顶层保护层,所述顶层保护层的厚度为2nm~...

【专利技术属性】
技术研发人员:李文君邓天洪
申请(专利权)人:湖南旗滨节能玻璃有限公司
类型:发明
国别省市:

网友询问留言 已有0条评论
  • 还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。

1