System.ArgumentOutOfRangeException: 索引和长度必须引用该字符串内的位置。 参数名: length 在 System.String.Substring(Int32 startIndex, Int32 length) 在 zhuanliShow.Bind() 离子发生装置及真空处理系统制造方法及图纸_技高网

离子发生装置及真空处理系统制造方法及图纸

技术编号:42691721 阅读:5 留言:0更新日期:2024-09-10 12:41
本公开涉及真空设备技术领域,公开了一种离子发生装置以及真空处理系统。一种离子发生装置,包括离子发生区、微波源和磁场机构。离子发生区用于容纳工作气体。微波源用于向离子发生区发射微波。磁场机构用于在离子发生区内产生磁场,磁场和微波在离子发生区内形成复合电磁场,复合电磁场作用于工作气体,以产生等离子体。

【技术实现步骤摘要】

本公开涉及真空设备,特别涉及一种离子发生装置以及真空处理系统。


技术介绍

1、等离子体源是一种用于产生等离子体的装置,通过将电磁能量馈入气体的电子,电子获能后加速运动并且与工作气体碰撞,将能量转移到工作气体从而导致气体发生电离,激发等一系列反应,最终获得等离子体。等离子体源在工业生产以及科学研究中有着广泛的用途。例如:在材料应用中,等离子体源可以用在表面改性,离子注入,电离反应气体等;在半导体的生产过程中,等离子体源可以辅助薄膜沉积,刻蚀,表面清洗等;在光学中,等离子体源也是一种重要的光源。

2、传统的等离子体源根据能量馈入的方式可以分为容性和感性等离子体源。而在气体击穿的过程中,由于等离子电学特性会随着击穿的进行而产生变化,导致等离子体源无法很好地将能量馈入等离子体中。为此,往往需要为等离子体源配备相应的匹配电路以实时的匹配阻抗。这就导致传统的等离子体源往往占用空间大,不利于集成且无法提供大面积的等离子体,这对于大面积的工业生产是极为不利的。此外,传统的等离子体源由于在能量耦合机制上主要依赖电子与工作气体的碰撞交换能量,这就导致传统的等离子源在低气压的工作环境下效率是不高的。


技术实现思路

1、本公开提供了一种离子发生装置,包括:

2、离子发生区,用于容纳工作气体;

3、微波源,用于向离子发生区发射微波;以及

4、磁场机构,用于在离子发生区内产生磁场,磁场和微波在离子发生区内形成复合电磁场,复合电磁场作用于工作气体,以产生等离子体。

5、本公开提供了一种真空处理系统,包括:

6、真空腔;

7、样品架,设置在真空腔内,用于承载样品;

8、根据本公开任意一项实施例中的离子发生装置,设置在真空腔上,用于向样品发射等离子体。

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【技术保护点】

1.一种离子发生装置,其特征在于,包括:

2.根据权利要求1所述的离子发生装置,其特征在于,所述复合电磁场包括所述磁场与所述微波产生的电场形成的相互正交的点或区域,使得所述工作气体在所述点或区域中产生电子回旋共振效应。

3.根据权利要求1所述的离子发生装置,其特征在于,还包括离子发生腔,所述离子发生区形成在所述离子发生腔内,所述微波源与所述离子发生腔连接,以向所述离子发生区发射微波。

4.根据权利要求3所述的离子发生装置,其特征在于,所述磁场机构包括:

5.根据权利要求4所述的离子发生装置,其特征在于,所述磁场机构还包括磁体冷却机构,所述磁体冷却机构包括:

6.根据权利要求1所述的离子发生装置,其特征在于,所述微波源包括:

7.根据权利要求6所述的离子发生装置,其特征在于,所述微波传导装置包括:

8.根据权利要求7所述的离子发生装置,其特征在于,

9.根据权利要求8所述的微波传导装置,其特征在于,所述外导体呈筒状,所述内导体与所述外导体同轴设置,

10.根据权利要求8所述的微波传导装置,其特征在于,所述微波馈入结构包括主体结构、包覆结构和嵌入结构,

11.根据权利要求10所述的微波传导装置,其特征在于,

12.根据权利要求6所述的离子发生装置,其特征在于,所述微波传导装置包括:

13.根据权利要求12所述的离子发生装置,其特征在于,

14.根据权利要求13所述的微波传导装置,其特征在于,所述外导体呈筒状,所述外导体的纵截面呈阶梯状结构,包括上极面、下极面和收缩部分,所述内导体与所述外导体的所述收缩部分同轴设置,所述天线与所述外导体或所述内导体连接。

15.根据权利要求13所述的微波传导装置,其特征在于,所述微波馈入结构包括覆盖结构和延伸结构,

16.根据权利要求15所述的微波传导装置,其特征在于,

17.根据权利要求12所述的微波传导装置,其特征在于,所述微波传输器还包括进气口,所述进气口设置在所述谐振腔底部,用于向所述谐振腔内通入工作气体,以使工作气体通过所述通气通道,并在所述微波馈入结构馈入的微波作用下电离。

18.根据权利要求8或13所述的离子发生装置,其特征在于,还包括:

19.根据权利要求6所述的离子发生装置,其特征在于,所述微波源还包括:

20.一种真空处理系统,其特征在于,包括:

...

【技术特征摘要】

1.一种离子发生装置,其特征在于,包括:

2.根据权利要求1所述的离子发生装置,其特征在于,所述复合电磁场包括所述磁场与所述微波产生的电场形成的相互正交的点或区域,使得所述工作气体在所述点或区域中产生电子回旋共振效应。

3.根据权利要求1所述的离子发生装置,其特征在于,还包括离子发生腔,所述离子发生区形成在所述离子发生腔内,所述微波源与所述离子发生腔连接,以向所述离子发生区发射微波。

4.根据权利要求3所述的离子发生装置,其特征在于,所述磁场机构包括:

5.根据权利要求4所述的离子发生装置,其特征在于,所述磁场机构还包括磁体冷却机构,所述磁体冷却机构包括:

6.根据权利要求1所述的离子发生装置,其特征在于,所述微波源包括:

7.根据权利要求6所述的离子发生装置,其特征在于,所述微波传导装置包括:

8.根据权利要求7所述的离子发生装置,其特征在于,

9.根据权利要求8所述的微波传导装置,其特征在于,所述外导体呈筒状,所述内导体与所述外导体同轴设置,

10.根据权利要求8所述的微波传导装置,其特征在于,所述微波馈入结构包括主体结构、包覆结构和嵌入结构,

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【专利技术属性】
技术研发人员:王艳会谢斌平闫誉玲
申请(专利权)人:费勉仪器科技上海有限公司
类型:发明
国别省市:

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