【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
技术介绍
1、微复制型抛光垫具有精确成型的研磨表面。在抛光工艺中使用窗口以更精确地监测基板的表面并且确定何时已发生足够的或期望的抛光。
技术实现思路
1、在一个方面，本专利技术涉及抛光垫。抛光垫包括抛光层，该抛光层具有厚度并且包含聚合物，该抛光层具有工作表面和与该工作表面相反的第二表面。该工作表面包括窗口、多个精确成型的孔、多个精确成型的凸体和下陷区域。该窗口具有与该抛光层的该厚度不同的厚度并且包含氟化聚合物。该窗口对于介于200nm和800nm之间的任何波长的光都具有至少20％透射率。每个孔具有孔开口，每个凸体具有凸体基部，并且多个该凸体基部是相对于至少一个相邻的孔开口基本上共面的。该多个精确成型的孔的深度小于与每个精确成型的孔相邻的该下陷区域的该厚度。该抛光层的该厚度为该窗口的该厚度的至少三倍。
【技术保护点】
1.一种抛光垫，所述抛光垫包括：
2.根据权利要求1所述的抛光垫，其中除所述窗口之外，所述抛光层为一体式片材。
3.根据权利要求1所述的抛光垫，其中所述氟化聚合物为乙烯四氟乙烯。
4.根据权利要求1所述的抛光垫，其中所述窗口的所述厚度介于50微米和150微米之间。
5.根据权利要求1所述的抛光垫，其中所述抛光层的所述厚度介于300微米和500微米之间。
6.根据权利要求1所述的抛光垫，其中所述氟化聚合物为热塑性聚合物。
7.根据权利要求1所述的抛光垫，其中所述氟化聚合物包括以下项中的一项或多项：聚氟乙烯；聚偏二氟乙烯；聚四氟乙烯；聚三氟氯乙烯；全氟烷氧基聚合物；氟化乙烯-丙烯；聚乙烯四氟乙烯；聚乙烯氯三氟乙烯；全氟化弹性体或全氟弹性体；基于含氟弹性体/偏二氟乙烯的共聚物；含氟弹性体/四氟乙烯-丙烯；全氟聚醚；聚全氟磺酸；六氟丙烯、四氟乙烯和乙烯的共聚物；四氟乙烯、六氟丙烯和偏二氟乙烯的共聚物；或聚全氟聚氧杂环丁烷乙烯；包括它们的共混物和混合物。
8.根据权利要求1所述的抛光垫，其中所述窗口基本上不
9.根据权利要求1所述的抛光垫，其中所述窗口对于介于200nm至800nm之间的任何波长光都具有至少50％透射率。
10.根据权利要求1所述的抛光垫，其中所述窗口具有面向所述多个精确成型的凸体的顶表面，并且其中所述顶表面与所述多个凸体基部基本上共面。
11.根据权利要求1所述的抛光垫，所述抛光垫还包括子垫，其中所述子垫与所述抛光层的所述第二表面相邻，并且其中所述子垫包括切口，所述切口在所述抛光垫的厚度方向上与所述窗口对准。
12.根据权利要求11所述的抛光垫，所述抛光垫还包括泡沫层，其中所述泡沫层插置在所述抛光层的所述第二表面与所述子垫之间，并且其中所述泡沫层包括切口，所述泡沫层的所述切口与带有所述子垫并带有所述窗口的所述抛光垫的厚度方向对准。
13.根据权利要求11或权利要求12所述的抛光垫，所述抛光垫还包括聚合物衬里，所述聚合物衬里设置在所述子垫的远离所述抛光层的表面上。
...【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】
1.一种抛光垫，所述抛光垫包括：
2.根据权利要求1所述的抛光垫，其中除所述窗口之外，所述抛光层为一体式片材。
3.根据权利要求1所述的抛光垫，其中所述氟化聚合物为乙烯四氟乙烯。
4.根据权利要求1所述的抛光垫，其中所述窗口的所述厚度介于50微米和150微米之间。
5.根据权利要求1所述的抛光垫，其中所述抛光层的所述厚度介于300微米和500微米之间。
6.根据权利要求1所述的抛光垫，其中所述氟化聚合物为热塑性聚合物。
7.根据权利要求1所述的抛光垫，其中所述氟化聚合物包括以下项中的一项或多项：聚氟乙烯；聚偏二氟乙烯；聚四氟乙烯；聚三氟氯乙烯；全氟烷氧基聚合物；氟化乙烯-丙烯；聚乙烯四氟乙烯；聚乙烯氯三氟乙烯；全氟化弹性体或全氟弹性体；基于含氟弹性体/偏二氟乙烯的共聚物；含氟弹性体/四氟乙烯-丙烯；全氟聚醚；聚全氟磺酸；六氟丙烯、四氟乙烯和乙烯的共聚物；四氟乙烯、六氟丙烯和偏二氟乙烯的共聚物；或聚全氟聚氧杂环丁烷乙烯；包括它们的共混物和混合物。<...
【专利技术属性】
技术研发人员：林沁，亚历山大·W·辛普森，D·K·勒胡，大卫·J·穆拉迪安，马修·J·特里姆特，克雷格·R·霍夫，
申请(专利权)人：三M创新有限公司，
类型：发明
国别省市：
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