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【技术实现步骤摘要】
以下本公开涉及抗反射膜和制造抗反射膜的方法。
技术介绍
1、通常,抗反射涂层具有其中高折射率材料和低折射率材料交替地真空沉积和堆叠的结构。
2、沉积的薄膜的折射率基于材料的固有特性,因此调节范围较窄,并且存在可以实现的反射率降低的限制。
3、最近的透镜市场需要低反射率,这对于上述多层薄膜抗反射涂层来说是难以实现的,因此需要一种新型的抗反射涂层。
4、此外,根据生产方法,抗反射膜可以被分为两种类型的膜(干膜和湿膜)。
5、湿式处理涉及在使用湿式处理对真空沉积的薄膜进行纳米结构化的附加过程期间的化学反应。
6、工业上通常采用基于水的湿式处理以易于过程管理。还存在诸如由空气中的湿气引起的硬度的变化和由反应残余物引起的良率的降低的问题。
7、此外,随着顾客的眼光水准变得更高,预期市场所需的抗反射涂层的反射率水平将持续降低。因此,需要可以大量生产的纳米结构化的抗反射涂层技术。
技术实现思路
1、提供本
技术实现思路
是为了以简化的形式介绍对构思的选择,而在以下具体实施方式中进一步描述这些构思。本
技术实现思路
不旨在标识所要求保护的主题的关键特征或必要特征,也不旨在用于帮助确定所要求保护的主题的范围。
2、在一个一般方面,抗反射膜包括:衬底;第一层,包括金属氧化物膜,并且设置在衬底上;以及第二层,包括具有孔的氟化有机薄膜,并且设置在第一层上。
3、抗反射膜还可以包括设置在第二层的最上表面上的超薄膜层。
...【技术保护点】
1.一种抗反射膜,包括:
2.根据权利要求1所述的抗反射膜,还包括:
3.根据权利要求1所述的抗反射膜,其中,所述第一层的折射率为1.7或更小。
4.根据权利要求1所述的抗反射膜,其中,相对于所述第二层的总体积,所述第二层中的空隙的总体积比为20%或更大。
5.根据权利要求1所述的抗反射膜,其中,所述第二层由特氟隆形成。
6.根据权利要求1所述的抗反射膜,其中,所述第二层包括有机材料,所述有机材料包括在有机链中的氟基团。
7.一种制造抗反射膜的方法,所述方法包括:
8.根据权利要求7所述的方法,其中,所述超薄膜材料的至少一部分保留在所述第二层的最上表面上以形成所述超薄膜层。
9.根据权利要求7所述的方法,其中,通过沉积折射率为1.7或更小的所述金属氧化物膜来形成所述第一层。
10.根据权利要求7所述的方法,其中,
11.根据权利要求7所述的方法,其中,所述超薄膜材料具有10nm或更小的厚度。
12.根据权利要求7所述的方法,其中,相对于所述第二层的总
13.根据权利要求7所述的方法,其中,所述第二层由特氟隆形成。
14.根据权利要求7所述的方法,其中,所述第二层包括有机材料,所述有机材料包括在有机链中的氟基团。
...【技术特征摘要】
1.一种抗反射膜,包括:
2.根据权利要求1所述的抗反射膜,还包括:
3.根据权利要求1所述的抗反射膜,其中,所述第一层的折射率为1.7或更小。
4.根据权利要求1所述的抗反射膜,其中,相对于所述第二层的总体积,所述第二层中的空隙的总体积比为20%或更大。
5.根据权利要求1所述的抗反射膜,其中,所述第二层由特氟隆形成。
6.根据权利要求1所述的抗反射膜,其中,所述第二层包括有机材料,所述有机材料包括在有机链中的氟基团。
7.一种制造抗反射膜的方法,所述方法包括:
8.根据权利要求7所述的方法,其中,所述超薄膜材料的至少一部分...
【专利技术属性】
技术研发人员:尹锺源,黄永进,林裁东,严成淏,
申请(专利权)人:三星电机株式会社,
类型:发明
国别省市:
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