【技术实现步骤摘要】
本专利技术属于光伏自动化设备，具体为一种刻蚀清洗机硅片导向装置。
技术介绍
1、半导体在生产中硅片必须经严格清洗，因为微量污染也会导致器件失效，清洗的目的在于清除硅片表面污染杂质；目前硅片的清洗分为物理清洗和化学清洗，其中化学清洗则依赖于刻蚀清洗机，刻蚀清洗机利用的混合液hf/hno3/h2so4对扩散后硅片下表面和边缘进行腐蚀，去除边缘的n型硅，使得硅片的上下表面相互绝缘，从而减少边缘漏电；而硅片在进入刻蚀清洗机前需要进行输送，现有技术中，采用滚筒对硅片进行输送为了防止其发生偏移，一般会在滚筒表面加装用于限位和纠偏的套筒结构，通过对硅片进行限位抵接，使其回到正常的移动路径上，但采用圆周转动方式的套筒结构在与硅片接触时，会与硅片的接触部位产生相对滑动，容易造成对硅片边缘的磨损，造成硅片损毁失效。
技术实现思路
1、本专利技术的目的在于提供一种刻蚀清洗机硅片导向装置，以解决上述
技术介绍
中提出的问题。
2、为了实现上述目的，本专利技术提供如下技术方案：一种刻蚀清洗机硅片导向装置，包括运输机构、支柱，所述支柱的顶部安装有安装框，所述安装框的内部安装有导向机构；
3、所述导向机构包括伸缩杆一和支撑柱，所述伸缩杆一的伸缩端固定连接有连接框，所述连接框的底部固定安装有固定板一，所述固定板一滑移安装于支撑柱的外表面，所述固定板一的顶部安装有伸缩杆二，所述伸缩杆二的伸缩端固定安装有固定板二，所述固定板二的内壁固定安装有导向柱，所述导向柱的外表面滑移安装有多组滑块，所述滑块的
4、所述对正机构包括四个固定连接于连接板底部的连接柱，所述连接柱的底部固定连接有支撑块，所述连接柱的外表面转动安装有转筒，所述转筒的外表面开设有安装槽，并在所述安装槽的内部转动安装有导向球，四个所述连接柱呈前后均分且对称分布。
5、作为本专利技术的一种优选方案，所述伸缩杆一固定安装于安装框内壁的左侧，所述支撑柱设置为两组，并对称分布于伸缩杆一的前后两侧，所述支撑柱的两端分别与安装框内壁的左右两侧固定连接，所述支撑柱的外表面还活动套接有位于连接板右侧的弹簧，所述弹簧的两端分别与连接板和安装框弹性连接。
6、作为本专利技术的一种优选方案，所述连接板的横截面形状为“l”形，所述连接板的内壁固定安装有加强块，所述加强块的形状形状为直角三角形，所述加强块设置为多组并等距分布于连接板上。
7、作为本专利技术的一种优选方案，所述运输机构包括两组基座，两组所述基座之间固定安装有支撑框，并安装转动安装有左右对称分布的传输辊，所述传输辊的外表面传动安装有传送带，所述传送带的正面安装有电机，并用于驱动所述传输辊，所述支柱固定安装于基座的顶部。
8、作为本专利技术的一种优选方案，所述连接板的右侧固定安装有永磁块二，所述安装框内壁的右侧固定安装有永磁块一，所述永磁块一和永磁块二的相对面互为异性，所述永磁块一与永磁块二的面积相同，并保持正面相对。
9、作为本专利技术的一种优选方案，所述对正机构的组数与硅片相对，且硅片与所述对正机构之间留有间隙。
10、作为本专利技术的一种优选方案，所述导向柱外表面的右侧设有凸块，并与所述滑块的内壁适配卡合，使所述滑块只能沿导向柱的轴线滑移。
11、作为本专利技术的一种优选方案，所述固定板二的纵截面形状为“u”形，所述固定板二在运动至最低点时其顶部仍高于连接板的左侧平面。
12、作为本专利技术的一种优选方案，所述硅片在被伸缩杆一向右带动时，其表面只与所述导向球的外表面转动抵接。
13、本专利技术的有益效果如下：
14、1、本装置通过设置有导向机构实现了硅片导向过程中的零滑动摩擦功能，通过设置有伸缩杆二带动真空吸盘向下移动，并利用真空吸盘对硅片进行真空吸附固定，然后向上带动硅片移动至导向球的高度，并通过伸缩杆一驱动其向右运动，使硅片与对正机构抵接，利用每组对正机构中四个转筒与硅片抵接，以导向球与硅片直接接触，并在硅片向右施压的过程中，与硅片相对转动，将硅片推动至每组对正机构的中线区域，即完成对硅片的导向操作，此过程中，硅片沿装置运输方向的垂直方向上移动，没有与其他任何部件滑动摩擦，降低了硅片在导向过程中的磨损程度，有效保护了硅片的安全。
15、2、同时，利用导向柱滑动安装有滑块，并利用滑块连接真空吸盘，真空吸盘利用真空吸附的硅片在被伸缩杆二向上带动并离开传送带的表面时，硅片可以通过与对正机构接触并产生的反作用力带动真空吸盘和滑块沿导向柱的外表面自由滑动，从而改变硅片在垂直于其运输方向上的位移，实现同步导向纠偏功能，通过设置有转筒的外表面开设有安装槽，并使导向球转动安装于其中，当硅片与导向球抵接时，会同时进行转动和适配，在硅片进行导向时避免了硅片与导向球产生滑动摩擦力，硅片在被真空吸盘下放做自由落体运动时，可以与导向球相对滚动，避免产生滑动磨损。
16、3、通过伸缩杆一带动连接框、真空吸盘和硅片向右推动转筒、连接板，并持续压缩弹簧，使对正机构在与硅片抵接时产生反作用力，并辅助硅片进行移动导向，随着伸缩杆一向右带动硅片运动至最右侧，永磁块一和永磁块二之间的距离越小，其产生的磁吸力越大，并逐渐抵消来自弹簧的回弹力，当真空吸盘下放硅片时，磁吸力可抵消来自弹簧的回弹力，保证了硅片在下落时只受重力作用，使得装置的导向功能更好。
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1.一种刻蚀清洗机硅片导向装置，包括运输机构(1)、支柱(2)，所述支柱(2)的顶部安装有安装框(3)，其特征在于：所述安装框(3)的内部安装有导向机构(4)；
2.根据权利要求1所述的一种刻蚀清洗机硅片导向装置，其特征在于：所述伸缩杆一(40)固定安装于安装框(3)内壁的左侧，所述支撑柱(44)设置为两组，并对称分布于伸缩杆一(40)的前后两侧，所述支撑柱(44)的两端分别与安装框(3)内壁的左右两侧固定连接，所述支撑柱(44)的外表面还活动套接有位于连接板(46)右侧的弹簧(45)，所述弹簧(45)的两端分别与连接板(46)和安装框(3)弹性连接。
3.根据权利要求2所述的一种刻蚀清洗机硅片导向装置，其特征在于：所述连接板(46)的横截面形状为“L”形，所述连接板(46)的内壁固定安装有加强块(47)，所述加强块(47)的形状形状为直角三角形，所述加强块(47)设置为多组并等距分布于连接板(46)上。
4.根据权利要求3所述的一种刻蚀清洗机硅片导向装置，其特征在于：所述运输机构(1)包括两组基座(10)，两组所述基座(10)之间固定安装有支
5.根据权利要求4所述的一种刻蚀清洗机硅片导向装置，其特征在于：所述连接板(46)的右侧固定安装有永磁块二(49)，所述安装框(3)内壁的右侧固定安装有永磁块一(48)，所述永磁块一(48)和永磁块二(49)的相对面互为异性，所述永磁块一(48)与永磁块二(49)的面积相同，并保持正面相对。
6.根据权利要求5所述的一种刻蚀清洗机硅片导向装置，其特征在于：所述对正机构的组数与硅片(5)相对，且硅片(5)与所述对正机构之间留有间隙。
7.根据权利要求6所述的一种刻蚀清洗机硅片导向装置，其特征在于：所述导向柱(411)外表面的右侧设有凸块(419)，并与所述滑块(412)的内壁适配卡合，使所述滑块(412)只能沿导向柱(411)的轴线滑移。
8.根据权利要求7所述的一种刻蚀清洗机硅片导向装置，其特征在于：所述固定板二(410)的纵截面形状为“U”形，所述固定板二(410)在运动至最低点时其顶部仍高于连接板(46)的左侧平面。
9.根据权利要求8所述的一种刻蚀清洗机硅片导向装置，其特征在于：所述硅片(5)在被伸缩杆一(40)向右带动时，其表面只与所述导向球(418)的外表面转动抵接。
...【技术特征摘要】
1.一种刻蚀清洗机硅片导向装置，包括运输机构(1)、支柱(2)，所述支柱(2)的顶部安装有安装框(3)，其特征在于：所述安装框(3)的内部安装有导向机构(4)；
2.根据权利要求1所述的一种刻蚀清洗机硅片导向装置，其特征在于：所述伸缩杆一(40)固定安装于安装框(3)内壁的左侧，所述支撑柱(44)设置为两组，并对称分布于伸缩杆一(40)的前后两侧，所述支撑柱(44)的两端分别与安装框(3)内壁的左右两侧固定连接，所述支撑柱(44)的外表面还活动套接有位于连接板(46)右侧的弹簧(45)，所述弹簧(45)的两端分别与连接板(46)和安装框(3)弹性连接。
3.根据权利要求2所述的一种刻蚀清洗机硅片导向装置，其特征在于：所述连接板(46)的横截面形状为“l”形，所述连接板(46)的内壁固定安装有加强块(47)，所述加强块(47)的形状形状为直角三角形，所述加强块(47)设置为多组并等距分布于连接板(46)上。
4.根据权利要求3所述的一种刻蚀清洗机硅片导向装置，其特征在于：所述运输机构(1)包括两组基座(10)，两组所述基座(10)之间固定安装有支撑框(14)，并安装转动安装有左右对称分布的传输辊(13)，所述传输辊(13)的外表面传动安装有传送带(11)，所述传送带(11)的正面安装有电机...
【专利技术属性】
技术研发人员：王哲哲，丁文标，赵晗，
申请(专利权)人：苏州冠礼科技有限公司，
类型：发明
国别省市：
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