【技术实现步骤摘要】
本专利技术实施例涉及阵列天线，尤其涉及一种阵列天线校正方法、装置、电子设备、存储介质及产品。
技术介绍
1、阵列天线能获得很高的阵列合成增益，极大的提升系统性能。因此，阵列天线技术一直以来在通信、雷达、毫米波成像等各个领域都是重要的研究方向。
2、成像系统中的阵列天线发射和接收通道在各个工作频点具有一致的幅度和相位特性以及在各频点间具有一致的初始相位，是成像系统保证成像质量的前提条件。
3、然而，目前阵列天线难以进行多个阵面之间的协同校正，导致校正效率低，维护成本高，以及无法为协同成像提供实现基础。
技术实现思路
1、本专利技术提供了一种阵列天线校正方法、装置、电子设备、存储介质及产品，以解决目前阵列天线难以进行多个阵面之间的协同校正，导致校正效率低，维护成本高，以及无法为协同成像提供实现基础的问题。
2、根据本专利技术的一方面，提供了一种阵列天线校正方法，待校正的阵列天线包括至少两个阵面；每个所述阵面由位于所述阵面两侧的子阵面相对于位于中部的子阵面旋转设定角度形成；对于任意两个阵面，所述两个阵面之间相邻的、且位于相应阵面两侧的子阵面构成虚拟阵面，各所述阵面和各所述虚拟阵面均为待校正阵面；
3、所述方法包括：
4、对于所述阵列天线中的每个待校正阵面，基于设定频点对所述待校正阵面中的参考环路进行校正，以获得所述参考环路在所述设定频点的第一不一致性参数，所述第一不一致性参数用于使得所述待校正阵面在所述设定频点具有一致的幅度和相
5、基于所述设定频点，通过不同于所述待校正阵面的另一待校正阵面对所述待校正阵面的接收天线进行校正，以获得所述待校正阵面的接收通道在所述设定频点的第二不一致性参数，所述第二不一致性参数用于使得所述待校正阵面的接收通道在所述设定频点具有一致的幅度和相位传递函数；
6、基于所述设定频点，通过所述另一待校正阵面对所述待校正阵面的发射天线进行校正，以获得所述待校正阵面的发射通道在所述设定频点的第三不一致性参数，所述第三不一致性参数用于使得所述待校正阵面的发射通道在所述设定频点具有一致的幅度和相位传递函数。
7、根据本专利技术的另一方面，提供了一种阵列天线校正装置，待校正的阵列天线包括至少两个阵面；每个所述阵面由位于所述阵面两侧的子阵面相对于位于中部的子阵面旋转设定角度形成；对于任意两个阵面，所述两个阵面之间相邻的、且位于相应阵面两侧的子阵面构成虚拟阵面，各所述阵面和各所述虚拟阵面均为待校正阵面；
8、所述装置包括：
9、第一校正模块，设置为对于所述阵列天线中的每个待校正阵面，基于设定频点对所述待校正阵面中的参考环路进行校正，以获得所述参考环路在所述设定频点的第一不一致性参数，所述第一不一致性参数用于使得所述待校正阵面在所述设定频点具有一致的幅度和相位传递函数；
10、第二校正模块，设置为基于所述设定频点，通过不同于所述待校正阵面的另一待校正阵面对所述待校正阵面的接收天线进行校正，以获得所述待校正阵面的接收通道在所述设定频点的第二不一致性参数，所述第二不一致性参数用于使得所述待校正阵面的接收通道在所述设定频点具有一致的幅度和相位传递函数；
11、第三校正模块，设置为基于所述设定频点，通过所述另一待校正阵面对所述待校正阵面的发射天线进行校正，以获得所述待校正阵面的发射通道在所述设定频点的第三不一致性参数，所述第三不一致性参数用于使得所述待校正阵面的发射通道在所述设定频点具有一致的幅度和相位传递函数。
12、根据本专利技术的另一方面，提供了一种电子设备，所述电子设备包括：
13、至少一个处理器；以及
14、与所述至少一个处理器通信连接的存储器；其中，
15、所述存储器存储有可被所述至少一个处理器执行的计算机程序，所述计算机程序被所述至少一个处理器执行，以使所述至少一个处理器能够执行本专利技术任一实施例所述的阵列天线校正方法。
16、根据本专利技术的另一方面，提供了一种计算机可读存储介质，所述计算机可读存储介质存储有计算机指令，所述计算机指令用于使处理器执行时实现本专利技术任一实施例所述的阵列天线校正方法。
17、本专利技术实施例提供的技术方案，待校正的阵列天线包括至少两个阵面，每个阵面由位于两侧的子阵面相对于位于中部的子阵面旋转设定角度形成，任意两个阵面之间相邻的、且位于相应阵面两侧的子阵面构成虚拟阵面，各虚拟阵面和各阵面均为待校正阵面；进而通过对阵列天线中的每个待校正阵面，内置参考环路，并基于设定频点对待校正阵面中的参考环路进行校正，获得第一不一致性参数，以解决多频点间相位不一致的问题，进而基于设定频点，通过不同于待校正阵面的另一待校正阵面对待校正阵面的接收天线进行校正，获得第二不一致性参数，基于设定频点，通过另一待校正阵面对待校正阵面的发射天线进行校正，获得第三不一致性参数，实现了阵列天线多个待校正阵面之间的协同校正，大大提高了阵列天线的校正效率，有效的降低了其维护成本；并且在协同校正的过程中分析了不同待校正阵面之间的接收通道及发射通道的幅度和相位特性，以此为协同成像提供可靠的基础。
18、应当理解，本部分所描述的内容并非旨在标识本专利技术的实施例的关键或重要特征，也不用于限制本专利技术的范围。本专利技术的其它特征将通过以下的说明书而变得容易理解。
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1.一种阵列天线校正方法，其特征在于，待校正的阵列天线包括至少两个阵面；每个所述阵面由位于所述阵面两侧的子阵面相对于位于中部的子阵面旋转设定角度形成；对于任意两个阵面，所述两个阵面之间相邻的、且位于相应阵面两侧的子阵面构成虚拟阵面，各所述阵面和各所述虚拟阵面均为待校正阵面；
2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，基于设定频点对所述待校正阵面中的参考环路进行校正，以获得所述参考环路在所述设定频点的第一不一致性参数，包括：
3.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，根据各所述测量值确定所述参考环路在所述设定频点的第一不一致性参数，包括：
4.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，基于所述设定频点，通过不同于所述待校正阵面的另一待校正阵面对所述待校正阵面的接收天线进行校正，以获得所述待校正阵面的接收通道在所述设定频点的第二不一致性参数，包括：
5.根据权利要求4所述的方法，其特征在于，所述待校正阵面的每个接收通道在所述设定频点的第二不一致性参数为：
6.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，基于所述设定频点，通过所述另一待
7.根据权利要求6所述的方法，其特征在于，所述待校正阵面的每个发射通道在所述设定频点的第三不一致性参数为：
8.根据权利要求1-7任一项所述的方法，其特征在于，还包括：
9.一种阵列天线校正装置，其特征在于，待校正的阵列天线包括至少两个阵面；每个所述阵面由位于所述阵面两侧的子阵面相对于位于中部的子阵面旋转设定角度形成；对于任意两个阵面，所述两个阵面之间相邻的、且位于相应阵面两侧的子阵面构成虚拟阵面，各所述阵面和各所述虚拟阵面均为待校正阵面；
10.一种电子设备，其特征在于，所述电子设备包括：
11.一种计算机可读存储介质，其上存储有计算机程序，其特征在于，该程序被处理器执行时实现如权利要求1-8中任一所述的阵列天线校正方法。
12.一种计算机程序产品，包括计算机程序和/或指令，其特征在于，所述计算机程序和/或指令被处理器执行时实现如权利要求1-8中任一所述的阵列天线校正方法。
...【技术特征摘要】
1.一种阵列天线校正方法，其特征在于，待校正的阵列天线包括至少两个阵面；每个所述阵面由位于所述阵面两侧的子阵面相对于位于中部的子阵面旋转设定角度形成；对于任意两个阵面，所述两个阵面之间相邻的、且位于相应阵面两侧的子阵面构成虚拟阵面，各所述阵面和各所述虚拟阵面均为待校正阵面；
2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，基于设定频点对所述待校正阵面中的参考环路进行校正，以获得所述参考环路在所述设定频点的第一不一致性参数，包括：
3.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，根据各所述测量值确定所述参考环路在所述设定频点的第一不一致性参数，包括：
4.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，基于所述设定频点，通过不同于所述待校正阵面的另一待校正阵面对所述待校正阵面的接收天线进行校正，以获得所述待校正阵面的接收通道在所述设定频点的第二不一致性参数，包括：
5.根据权利要求4所述的方法，其特征在于，所述待校正阵面的每个接收通道在所述设定频点的第二不一致性参数为：
6.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，基于所述设定频点，通过...
【专利技术属性】
技术研发人员：瞿金桥，王斌，陈工羽，齐俊，李寅飞，
申请(专利权)人：上海毫微太科技有限公司，
类型：发明
国别省市：
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