【技术实现步骤摘要】
本技术公开一种镀膜修正装置,特别是一种ibs真空镀膜均匀性修正装置,可应用于通过可调mask组利用ibs真空镀膜实现薄膜均匀性。
技术介绍
1、mask修正板是目前控制离子束溅射镀膜均匀性的重要方法之一,通常一种镀膜材料对应一块mask修正板,行业内已使用此类技术多年。一种镀膜材料对应三块mask修正板是一种全新的均匀性控制方法,如:高折射率镀膜材料对应“h-”、“h”、“h+”三块mask,由于一种镀膜材料对应一块mask修正板的均匀性修正技术不能在镀膜过程中调节均匀性,而市场上对镀膜产品的均匀性要求越来越严格,原来的均匀性修正方法已经明显落后。目前的ibs真空镀膜技术在镀膜过程中不能调节薄膜的均匀性,导致镀一炉产品出来后的合格范围较窄,间接导致生产成本增高。
技术实现思路
1、针对上述提到的现有技术中的ibs真空镀膜过程中不能调节薄膜的均匀性,导致产品合格范围较窄的缺点,本技术提供一种ibs真空镀膜均匀性修正装置,其在镀膜过程中通过调节mask修正板以达到控制薄膜的均匀性的目的,使镀膜产品的均匀性更好,良率产出更高。
2、本技术解决其技术问题采用的技术方案是:一种ibs真空镀膜均匀性修正装置,修正装置包括修正板基座和两个以上的修正板,两个以上的修正板在修正板基座上称环形均匀分布,修正板安装端端头固定安装在修正板基座上,修正板的修正端头伸出至修正板基座外侧。
3、本技术解决其技术问题采用的技术方案进一步还包括:
4、所述的修正板基座呈圆形。
...【技术保护点】
1.一种IBS真空镀膜均匀性修正装置,其特征是:所述的修正装置包括修正板基座(1)和两个以上的修正板(2),两个以上的修正板(2)在修正板基座(1)上称环形均匀分布,修正板(2)安装端端头固定安装在修正板基座(1)上,修正板(2)的修正端头伸出至修正板基座(1)外侧。
2.根据权利要求1所述的IBS真空镀膜均匀性修正装置,其特征是:所述的修正板基座(1)呈圆形。
3.根据权利要求1所述的IBS真空镀膜均匀性修正装置,其特征是:所述的修正板基座(1)顶部开设有安装槽(3),安装槽(3)内开设有腰形孔(4),腰形孔(4)处通过第一安装螺钉(5)将相应的修正板(2)安装在修正板基座(1)上。
4.根据权利要求1所述的IBS真空镀膜均匀性修正装置,其特征是:所述的修正板基座(1)安装在Mask电机上,修正板基座(1)通过电机螺钉(16)与Mask电机的电机轴固定安装。
5.根据权利要求3所述的IBS真空镀膜均匀性修正装置,其特征是:所述的修正板(2)包括修正主板(6)、角度片(7)和支杆(11),修正主板(6)固定安装在支杆(11)上,角度
6.根据权利要求5所述的IBS真空镀膜均匀性修正装置,其特征是:所述的支杆(11)一端开设有第一安装螺钉孔(14),第一安装螺钉(5)插装在第一安装螺钉孔(14)内。
7.根据权利要求5所述的IBS真空镀膜均匀性修正装置,其特征是:所述的支杆(11)上开设有第二安装螺钉孔(10)和定位柱安装孔(12),定位柱(8)插装在定位柱安装孔(12)内,第二安装螺钉(9)插装在第二安装螺钉孔(10)内。
8.根据权利要求5所述的IBS真空镀膜均匀性修正装置,其特征是:所述的角度片(7)通过固定螺钉(13)与修正主板(6)固定安装在一起。
9.根据权利要求5所述的IBS真空镀膜均匀性修正装置,其特征是:所述的角度片(7)上开设有台阶(15),台阶(15)抵住修正主板(6)边沿。
10.根据权利要求1所述的IBS真空镀膜均匀性修正装置,其特征是:所述的修正板(2)设有六个或八个。
...【技术特征摘要】
1.一种ibs真空镀膜均匀性修正装置,其特征是:所述的修正装置包括修正板基座(1)和两个以上的修正板(2),两个以上的修正板(2)在修正板基座(1)上称环形均匀分布,修正板(2)安装端端头固定安装在修正板基座(1)上,修正板(2)的修正端头伸出至修正板基座(1)外侧。
2.根据权利要求1所述的ibs真空镀膜均匀性修正装置,其特征是:所述的修正板基座(1)呈圆形。
3.根据权利要求1所述的ibs真空镀膜均匀性修正装置,其特征是:所述的修正板基座(1)顶部开设有安装槽(3),安装槽(3)内开设有腰形孔(4),腰形孔(4)处通过第一安装螺钉(5)将相应的修正板(2)安装在修正板基座(1)上。
4.根据权利要求1所述的ibs真空镀膜均匀性修正装置,其特征是:所述的修正板基座(1)安装在mask电机上,修正板基座(1)通过电机螺钉(16)与mask电机的电机轴固定安装。
5.根据权利要求3所述的ibs真空镀膜均匀性修正装置,其特征是:所述的修正板(2)包括修正主板(6)、角度片(7...
【专利技术属性】
技术研发人员:朱虹云,陆文,
申请(专利权)人:北极光电深圳有限公司,
类型:新型
国别省市:
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