System.ArgumentOutOfRangeException: 索引和长度必须引用该字符串内的位置。 参数名: length 在 System.String.Substring(Int32 startIndex, Int32 length) 在 zhuanliShow.Bind() Topcon电池单晶硅制绒刻蚀剂、制备方法和应用技术_技高网

Topcon电池单晶硅制绒刻蚀剂、制备方法和应用技术

技术编号:42634721 阅读:6 留言:0更新日期:2024-09-06 01:34
本发明专利技术公开一种Topcon电池单晶硅制绒刻蚀剂,由按重量百分比计的以下组分组成:金字塔塔尖保护剂0.02~1%;葡萄糖酸钠0.05~1.4%;氢氧化钠1~3%;水杨酸0.5~2%;1,6‑己二醇0.01~0.1%;琼脂糖0.01~1.5%;脂肪醇聚氧乙烯醚0.01~0.1%;去离子水90~95%;所述金字塔塔尖保护剂为多糖。本发明专利技术还公开了上述刻蚀剂的制备方法和在制绒刻蚀方面的具体应用方法。本发明专利技术采用了金字塔塔尖保护剂和醚类的表面活性剂,不仅腐蚀出的金字塔结构更加均匀,反射率较低,而且可以有效的保护塔尖不受到过度的腐蚀,尤其降低了后面镀膜工艺色差不良率。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及光伏材料制备,特别是涉及一种topcon电池单晶硅制绒刻蚀剂、制备方法和应用。


技术介绍

1、在topcon电池湿法工艺中,制绒是第一道工序,主要作用是利用单晶硅硅片表面的金刚线的切割留下切割凹槽形成了能量缺陷,腐蚀也是从能量缺陷处开始进行腐蚀。在硅体内部存在晶面,不同晶面的腐蚀速率不一致,从而易于形成金字塔结构的形貌。这种形貌结构可以增强陷光性,减少光的反射率,尤其在金字塔塔尖的位置,会影响一部分光的反射方向,直接和电性能有所关联。

2、目前市面上所使用的topcon电池单晶硅制绒刻蚀剂,仅可以控制金字塔的形貌结构,而无法进一步对金字塔塔尖进行保护,存在反射率比较高(约为10~12%)和塔尖出现了圆润的结构的问题,影响了光伏光电转换和在做封装时的良率。

3、因此,为了进一步降低单晶硅电池的反射率,并对塔尖进行保护以形成尖利的塔尖结构,亟需对topcon电池单晶硅制绒刻蚀剂及其制备方法进行改进。


技术实现思路

1、针对现有技术的不足,本专利技术提供了一种topcon电池单晶硅制绒刻蚀剂、制备方法和应用。该刻蚀剂可以将制绒后硅片的表面反射率控制在8~9%,同时形成尖利的塔尖结构,有效保护了金字塔塔尖,大大提高了光电转换效率和产线良率。

2、本专利技术为实现上述目的,采取以下技术方案予以实现:

3、一种topcon电池单晶硅制绒刻蚀剂,由按重量百分比计的以下组分组成:

4、金字塔塔尖保护剂0.02~1%;葡萄糖酸钠0.05~1.4%;氢氧化钠1~3%;水杨酸0.5~2%;1,6-己二醇0.01~0.1%;琼脂糖0.01~1.5%;脂肪醇聚氧乙烯醚0.01~0.1%;去离子水90~95%;所述金字塔塔尖保护剂为多糖。

5、优选地,所述金字塔塔尖保护剂为分子量30~50万的多聚葡萄糖、分子量为70~90万的甘露聚糖、半乳聚糖、淀粉、杂聚糖中的一种或一种以上的混合物。

6、优选地,所述脂肪醇聚氧乙烯醚为2wt%的脂肪醇聚氧乙烯醚水溶液;所述脂肪醇聚氧乙烯醚的粘度为0.2~1.7pa.s。

7、优选地,所述刻蚀剂由按重量百分比计的以下组分组成:

8、金字塔塔尖保护剂0.5%;葡萄糖酸钠0.1%;氢氧化钠为2%;水杨酸为1%;1,6-已二醇为0.02%;琼脂糖为0.05%;脂肪醇聚氧乙烯醚0.07%;去离子水96.26%;

9、其中,所述金字塔塔尖保护剂为分子量30~50万的多聚葡萄糖,所述脂肪醇聚氧乙烯醚的粘度为0.2~0.5pa.s。

10、优选地,所述刻蚀剂由按重量百分比计的以下组分组成:

11、金字塔塔基保护剂0.5%;葡萄糖酸钠0.1%;氢氧化钠2%;水杨酸1%;1,6-己二醇0.1%;琼脂糖为0.05%;脂肪醇聚氧乙烯醚0.07%;去离子水96.18%;

12、其中,所述金字塔塔尖保护剂为分子量70~100万的甘露聚糖,所述脂肪醇聚氧乙烯醚的粘度为1.5~1.7pa.s。

13、优选地,所述刻蚀剂由按重量百分比计的以下组分组成:

14、金字塔塔基保护剂0.5%;葡萄糖酸钠0.1%;氢氧化钠2%;水杨酸1%;1,6-己二醇0.07%;琼脂糖为0.05%;脂肪醇聚氧乙烯醚0.07%;去离子水96.21%;

15、其中,所述金字塔塔尖保护剂为半聚乳糖,所述脂肪醇聚氧乙烯醚的粘度为0.7~1.2pa.s。

16、本专利技术的另一目的在于公开上述topcon电池单晶硅制绒刻蚀剂的制备方法,包括以下步骤:

17、s1、将金字塔塔尖保护剂、1,6-己二醇与部分去离子水进行混合,并保持温度为80℃,持续搅拌,得到a溶液;

18、s2、将葡萄糖酸钠、氢氧化钠、水杨酸、琼脂糖、脂肪醇聚氧乙烯醚与余量去离子水进行混合,得到b溶液;

19、s3、对b溶液进行持续搅拌,将a溶液加入至b溶液中,搅拌10min,快速冷却至室温,得到topcon电池单晶硅制绒刻蚀剂。

20、本专利技术的又一目的在于公开一种采用上述topcon电池单晶硅制绒刻蚀剂的制绒方法,包括以下步骤;

21、s1、配置制绒刻蚀液:将所述topcon电池单晶硅制绒刻蚀剂加入到浓度为3.0wt%的碱溶液中,混合均匀配置成制绒刻蚀液;在所述制绒刻蚀液中所述topcon电池单晶硅制绒刻蚀剂的浓度为0.5wt%;

22、s2、单晶硅表面刻蚀制绒:控制制绒温度为80~90℃,将单晶硅片浸泡于步骤s1制得的制绒刻蚀液中,反应时间200~400秒,得到制绒完毕的硅片。

23、优选地,所述碱溶液为氢氧化钾或氢氧化钠溶液。

24、与现有技术相比,本专利技术具备以下有益效果:

25、本专利技术中使用了醚类的表面活性剂,具有加强的分散性和表面活性,在硅片表面形成h-si-h的结构,有利于尽快的使反应产生的氢气快速离开界面,使腐蚀出的金字塔结构更加均匀,且反射率较低。

26、本专利技术采用的金字塔塔尖保护剂可以在溶液中受到热效应,快速形成离子胶团,离子胶团表面既有表面活性剂离子及结合的反离子(无机离子),也就使离子的水化水,吸附于腐蚀后的塔尖位置,不易脱落,同时随着时间的延长,在反应末期,随着表面张力的上升,塔尖保护剂脱离硅片,可以有效的保护塔尖不受到过度的腐蚀,尤其降低了后面镀膜工艺色差不良率。

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【技术保护点】

1.一种Topcon电池单晶硅制绒刻蚀剂,其特征在于,由按重量百分比计的以下组分组成:

2.根据权利要求1所述的一种Topcon电池单晶硅制绒刻蚀剂,其特征在于,所述金字塔塔尖保护剂为分子量30~50万的多聚葡萄糖、分子量为70~90万的甘露聚糖、半乳聚糖、淀粉、杂聚糖中的一种或一种以上的混合物。

3.根据权利要求1所述的一种Topcon电池单晶硅制绒刻蚀剂,其特征在于,所述脂肪醇聚氧乙烯醚为2wt%的脂肪醇聚氧乙烯醚水溶液;所述脂肪醇聚氧乙烯醚的粘度为0.2~1.7Pa.s。

4.根据权利要求1所述的一种Topcon电池单晶硅制绒刻蚀剂,其特征在于,所述刻蚀剂由按重量百分比计的以下组分组成:

5.根据权利要求1所述的一种Topcon电池单晶硅制绒刻蚀剂,其特征在于,所述刻蚀剂由按重量百分比计的以下组分组成:

6.根据权利要求1所述的一种Topcon电池单晶硅制绒刻蚀剂,其特征在于,所述刻蚀剂由按重量百分比计的以下组分组成:

7.如权利要求1~6任一项所述Topcon电池单晶硅制绒刻蚀剂的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:

8.一种制绒方法,其特征在于,所述制绒方法采用权利要求1~6任一项所述Topcon电池单晶硅制绒刻蚀剂,包括以下步骤;

9.根据权利要求8所述的一种制绒方法,其特征在于,所述碱溶液为氢氧化钾或氢氧化钠溶液。

...

【技术特征摘要】

1.一种topcon电池单晶硅制绒刻蚀剂,其特征在于,由按重量百分比计的以下组分组成:

2.根据权利要求1所述的一种topcon电池单晶硅制绒刻蚀剂,其特征在于,所述金字塔塔尖保护剂为分子量30~50万的多聚葡萄糖、分子量为70~90万的甘露聚糖、半乳聚糖、淀粉、杂聚糖中的一种或一种以上的混合物。

3.根据权利要求1所述的一种topcon电池单晶硅制绒刻蚀剂,其特征在于,所述脂肪醇聚氧乙烯醚为2wt%的脂肪醇聚氧乙烯醚水溶液;所述脂肪醇聚氧乙烯醚的粘度为0.2~1.7pa.s。

4.根据权利要求1所述的一种topcon电池单晶硅制绒刻蚀剂,其特征在于,所述刻蚀剂由按重量百分比计的...

【专利技术属性】
技术研发人员:王涛封奕凡宝安陶尚龙
申请(专利权)人:苏州云达诣能源科技有限公司
类型:发明
国别省市:

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