【技术实现步骤摘要】
本技术涉及ald设备配件,特别是涉及一种ald设备的载具结构。
技术介绍
1、晶硅电池的制备过程中需要在硅片等衬底上沉积各种薄膜材料,这种过程需要用到ald设备,ald设备内具有镀膜腔室,作业时,将硅片放入镀膜腔室,向镀膜腔室内导入反应气体,反应气体在硅片表面沉积即可形成镀膜层。现有技术中,一般将供气系统设置在ald设备的炉门上,如cn 215288961 u所示,这类炉门进气的方案的缺点在于,喷淋系统的维护不方便,且进气位置过于集中在腔室的前端,进气不均匀,当镀膜腔室的深度较深需要进行较大批量的镀膜作业时,由于进气的不均匀性,会影响镀膜作业的质量。
技术实现思路
1、专利技术目的:为了克服现有技术中存在的不足,本技术提供一种喷淋结构设计合理,供气均匀的ald设备的载具结构。
2、技术方案:为实现上述目的,本技术的ald设备的载具结构,其包括舟体与喷淋结构,所述喷淋结构包括安装在所述舟体前侧的喷淋板,所述喷淋板上具有密集分布的喷气口;所述喷淋结构还包括安装在所述舟体的旁板上的气道,以及安装在所述舟体的尾部的对接进气口;所述气道上阵列排布有多个补气喷头。
3、进一步地,所述舟体的前侧具有前侧板,所述前侧板上具有镂空孔,所述喷淋板固定在所述前侧板的前端,且所述喷气口朝向后侧。如此,可以防止装载硅片载板的过程中碰到喷淋板,可以防止喷淋板意外损坏,且通过设置具有大面积镂空结构的前侧板,可以保证喷淋板喷出的反应气体不受遮挡影响,保证供气均匀。
4、进一步地
5、进一步地,在第二种方案中,所述气道形成在所述旁板之内,且所述补气喷头安装在所述旁板的内壁上。
6、进一步地,所述舟体的内部设置有载板固定机构,所述载板固定机构包括成对设置的齿板,所述齿板的端面上设置有供硅片载板的边缘嵌入的齿槽,每个所述齿板上均形成有多个直线阵列排布的齿槽。装有硅片的硅片载板的两侧边缘分别嵌入齿槽中,可以实现硅片载板的层叠摆放,且相邻硅片载板之间具有间隙,如此,可以一次批量地对较多的硅片进行镀膜作业。
7、进一步地,所述旁板上形成有镂空孔。如此,可以避免旁板对反应气体的流动产生影响,保证镀膜质量。
8、有益效果:本技术的第一方面,将喷淋板安装在舟体的前侧,喷淋板的位置安装相比于安装在炉门上更为合理且方便维护;第二方面,将对接进气口设置在舟尾,可以便于接入反应气体,实际使用时,在镀膜炉的尾部设置与对接进气口对接的对接口,且对接口连接供应反应气体的供气装置,如此,载具结构完全进入镀膜炉内后,对接进气口即与对接口对接,供气装置供应的反应气体可以从喷淋板溢出,进入镀膜炉内;第三方面,通过在气道上设置补气喷头,可以实现对舟体的中部以及尾部进行补气,使得供气更为均匀,可以保证镀膜质量。
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1.一种ALD设备的载具结构,其特征在于,其包括舟体(1)与喷淋结构(2),所述喷淋结构(2)包括安装在所述舟体(1)前侧的喷淋板(21),所述喷淋板(21)上具有密集分布的喷气口(22);所述喷淋结构(2)还包括安装在所述舟体(1)的旁板(11)上的气道(25),以及安装在所述舟体(1)的尾部的对接进气口(23);所述气道(25)上阵列排布有多个补气喷头(24)。
2.根据权利要求1所述的ALD设备的载具结构,其特征在于,所述舟体(1)的前侧具有前侧板(12),所述前侧板(12)上具有镂空孔,所述喷淋板(21)固定在所述前侧板(12)的前端,且所述喷气口(22)朝向后侧。
3.根据权利要求1所述的ALD设备的载具结构,其特征在于,所述气道(25)固定在所述旁板(11)的外侧,且所述旁板(11)上对应于所述补气喷头(24)的位置形成有让位孔,所述补气喷头(24)伸入所述让位孔内。
4.根据权利要求1所述的ALD设备的载具结构,其特征在于,所述气道(25)形成在所述旁板(11)之内,且所述补气喷头(24)安装在所述旁板(11)的内壁上。
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1.一种ald设备的载具结构,其特征在于,其包括舟体(1)与喷淋结构(2),所述喷淋结构(2)包括安装在所述舟体(1)前侧的喷淋板(21),所述喷淋板(21)上具有密集分布的喷气口(22);所述喷淋结构(2)还包括安装在所述舟体(1)的旁板(11)上的气道(25),以及安装在所述舟体(1)的尾部的对接进气口(23);所述气道(25)上阵列排布有多个补气喷头(24)。
2.根据权利要求1所述的ald设备的载具结构,其特征在于,所述舟体(1)的前侧具有前侧板(12),所述前侧板(12)上具有镂空孔,所述喷淋板(21)固定在所述前侧板(12)的前端,且所述喷气口(22)朝向后侧。
3.根据权利要求1所述的ald设备的载具结构,其特征在于,所述气道(25)固定...
【专利技术属性】
技术研发人员:张良,陈颖敏,
申请(专利权)人:苏州金沐智能科技有限公司,
类型:新型
国别省市:
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