一种改善DA平整度的摄像头基板制造技术

技术编号:42606036 阅读:6 留言:0更新日期:2024-09-03 18:15
本技术涉及摄像头基板领域,公开了一种改善DA平整度的摄像头基板,包括基板,基板包括表面层,表面层上设有芯片区,芯片区为网格状,芯片区和芯片的形状相配合,芯片区为网格铜结构。本技术具有更佳的热胀冷缩适应性,从而提升芯片区的平整度。

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及摄像头基板领域,具体涉及一种改善da平整度的摄像头基板。


技术介绍

1、目前市场主流手机设计基板的正面芯片区均采用实心铜设计,但实心铜在折弯时容易扭曲断裂;在摄像头生产时,da制程(芯片区的制造过程)容易因实心铜热胀冷缩性能不好,易造成da tilt(芯片区的平整度)不良,且临时垫脚不稳定,最终影响摄像头的成像效果。

2、因此需要优化基板结构,具有更佳的热胀冷缩适应性,从而提升芯片区的平整度。


技术实现思路

1、本技术意在提供一种改善da平整度的摄像头基板,提升芯片区的平整度。

2、为达到上述目的,本技术采用如下技术方案:一种改善da平整度的摄像头基板,包括基板,基板包括表面层,表面层上设有芯片区,芯片区为网格状,芯片区和芯片的形状相配合,芯片区为网格铜结构。

3、本方案的有益效果为:

4、1.本方案采用基板网格铜结构,因网格铜的柔韧性,热胀冷缩的适应性都比实心铜好,大大降低了da制程时基板结构对平整度的影响,可改善约15um的平整度,大大提升了手机模组sfr调焦生产良率.且稳定了临时垫da胶制程。

5、2.专利技术人在研发过程中,尝试了多种结构,最终确定在基板表面的芯片区设置网格铜的形式。具体的,首先,专利技术人发现,通过蚀刻的方式对基板进行处理,增加基板表面和空气接触的表面积,能改善热胀冷缩的适应性,但这同样也会降低基板的刚度,降低结构的稳定性;然后,专利技术人重新定义芯片区,缩小芯片区的范围,使芯片区和芯片形状相配合,然后仅将芯片区设计成网格铜结构,不仅能最大化网格铜的韧性和热胀冷缩适应性,热胀冷缩过程中变形更加均匀,从而保证芯片区域的平整度,还能保证表面层的刚度。

6、进一步的,基板为软硬结合板,表面层为硬板,基板还包括内层,内层为软板。

7、进一步的,内层全为网格铜结构。

8、进一步的,表面层还包括非芯片区,非芯片区全为实心铜,非芯片区和芯片区之间设有隔离缝。

9、进一步的,芯片区为1:4的网格铜结构。

10、进一步的,隔离缝的宽度为1mm。

11、本方案还有以下效果:

12、1.由于芯片区为网格铜结构,为保证热胀冷缩时的一致性,内层芯片对应芯片区的部分也设计为网格铜结构,从而保证芯片区平整度;

13、2.为保证表面层的硬度,以及利用实心铜更好地屏蔽杂音信号,因此非芯片区依旧采用实新铜设计,但非芯片区会对芯片区的边缘产生约束作用,影响热胀冷缩过程的变形均匀性,因此,本方案在,非芯片区和芯片区之间设置隔离缝,避免非芯片区约束芯片区边缘;

14、3.隔离缝隔离非芯片区和芯片区后,同时也能起到绝缘、防止短路的作用;

15、4.最后,专利技术人经过试验,确定网格铜的网格最佳比例为1:4,既能保证平整度,又具有足够的强度和韧度。

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【技术保护点】

1.一种改善DA平整度的摄像头基板,其特征在于:包括基板,基板包括表面层,表面层上设有芯片区,芯片区为网格状,芯片区和芯片的形状相配合,芯片区为网格铜结构;

2.根据权利要求1所述的一种改善DA平整度的摄像头基板,其特征在于:基板为软硬结合板,表面层为硬板,基板还包括内层,内层为软板。

3.根据权利要求2所述的一种改善DA平整度的摄像头基板,其特征在于:内层全为网格铜结构。

4.根据权利要求3所述的一种改善DA平整度的摄像头基板,其特征在于:隔离缝的宽度为1mm。

【技术特征摘要】

1.一种改善da平整度的摄像头基板,其特征在于:包括基板,基板包括表面层,表面层上设有芯片区,芯片区为网格状,芯片区和芯片的形状相配合,芯片区为网格铜结构;

2.根据权利要求1所述的一种改善da平整度的摄像头基板,其特征在于:基板为软硬结合...

【专利技术属性】
技术研发人员:蔡春芳
申请(专利权)人:盛泰光电科技股份有限公司
类型:新型
国别省市:

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