一种用于清洗晶圆的药液循环系统技术方案

技术编号:42605512 阅读:17 留言:0更新日期:2024-09-03 18:15
本技术公开了一种用于清洗晶圆的药液循环系统,具体涉及半导体清洗技术领域,包括药液箱、输送泵、进液管道、至少一个清洗机和出液管道,进液管道的一端与药液箱连接并连通,另一端与清洗机的蠕动泵连接并连通,进液管道靠近药液箱的一端距地高度低于进液管道靠近清洗机一端的距地高度,进液管道上设置有输送泵,输送泵用于将药液箱内的药液输送至清洗机,出液管道的一端与清洗机连接并连通,另一端与药液箱连接并连通,出液管道靠近药液箱的一端距地高度低于出液管道靠近清洗机一端的距地高度。本技术能够使药液循环使用,减少浪费,提高药液的使用率,减少能耗,节约了废水处理的成本。

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及半导体清洗,特别是涉及一种用于清洗晶圆的药液循环系统


技术介绍

1、晶圆(wafer)是指硅半导体集成电路制作所用的硅芯片,由于其形状为圆形,故称为晶圆。晶圆是生产集成电路所用的载体,一般意义晶圆多指单晶硅圆片。在晶圆生产的整个过程中,要经过多次的化学蚀刻与清洗,每步蚀刻后都要经过药液的清洗(不发生化学反应)。目前对晶圆清洗时,药液箱设置在清洗机的上方,位于药液箱内的药液通过管路在重力作用下流入清洗机,经清洗机中的蠕动泵加压后对晶圆进行清洗,清洗完的药液一般是直接排走,造成了药液浪费;而且药液具有原化学特性,排出后需要进入废水处理系统,增加了废水处理系统的工作量,导致能耗增加,成本增加。


技术实现思路

1、本技术的目的是提供一种用于清洗晶圆的药液循环系统,以解决上述现有技术存在的问题,能够使药液循环使用,减少浪费,提高药液的使用率,减少能耗,节约了废水处理的成本。

2、为实现上述目的,本技术提供了如下方案:

3、本技术提供一种用于清洗晶圆的药液循环系统,包括药液箱、输送泵、进液管道、至少一个清洗机和出液管道,所述进液管道的一端与所述药液箱连接并连通,另一端与所述清洗机的蠕动泵连接并连通,所述进液管道靠近所述药液箱的一端距地高度低于所述进液管道靠近所述清洗机一端的距地高度,所述进液管道上设置有所述输送泵,所述输送泵用于将所述药液箱内的药液输送至所述清洗机,所述出液管道的一端与所述清洗机连接并连通,另一端与所述药液箱连接并连通,所述出液管道靠近所述药液箱的一端距地高度低于所述出液管道靠近所述清洗机一端的距地高度。

4、优选的,还包括过滤器,所述过滤器设置在所述进液管道上。

5、优选的,所述过滤器的滤芯的孔径为0.2μm。

6、优选的,所述进液管道上设置有第一阀门。

7、优选的,还包括泄压管道,所述泄压管道一端与所述进液管道连接并连通,另一端与所述药液箱连接并连通,所述泄压管道靠近所述进液管道一端的距地高度高于所述泄压管道靠近所述药液箱一端的距地高度。

8、优选的,所述泄压管道上设置有第二阀门。

9、优选的,所述进液管道包括进液总管道和至少一个进液分管道,各所述进液分管道均与所述进液总管道一端连接并连通,所述进液总管道另一端与所述药液箱连接并连通,所述输送泵设置于所述进液总管道上,各所述进液分管道远离所述进液总管道的一端均与各所述清洗机的蠕动泵连接并连通;所述出液管道包括出液总管道和至少一个出液分管道,各所述出液分管道均与所述出液总管道一端连接并连通,所述出液总管道另一端与所述药液箱连接并连通,各所述出液分管道远离所述出液总管道的一端均与各所述清洗机连接并连通。

10、本技术相对于现有技术取得了以下技术效果:

11、本技术提供一种用于清洗晶圆的药液循环系统,设置在进液管道上的输送泵,能够将位于低处的药液箱内的药液抽送至高处的清洗机中,进入清洗机的药液经过蠕动泵的加压能够对晶圆进行清洗,清洗完晶圆的药液经出液管道在重力作用下,从高处的清洗机中循环至低处的药液箱内,通过改变药液箱与清洗机的高度位置,既能够节约设备的占地面积,又能够使清洗完的药液在重力作用下循环使用,减少浪费,提高药液的使用率,减少动力设备,降低能耗,节约了废水处理的成本。

本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种用于清洗晶圆的药液循环系统,其特征在于:包括药液箱、输送泵、进液管道、至少一个清洗机和出液管道,所述进液管道的一端与所述药液箱连接并连通,另一端与所述清洗机的蠕动泵连接并连通,所述进液管道靠近所述药液箱的一端距地高度低于所述进液管道靠近所述清洗机一端的距地高度,所述进液管道上设置有所述输送泵,所述输送泵用于将所述药液箱内的药液输送至所述清洗机,所述出液管道的一端与所述清洗机连接并连通,另一端与所述药液箱连接并连通,所述出液管道靠近所述药液箱的一端距地高度低于所述出液管道靠近所述清洗机一端的距地高度。

2.根据权利要求1所述的用于清洗晶圆的药液循环系统,其特征在于:还包括过滤器,所述过滤器设置在所述进液管道上。

3.根据权利要求2所述的用于清洗晶圆的药液循环系统,其特征在于:所述过滤器的滤芯的孔径为0.2μm。

4.根据权利要求1所述的用于清洗晶圆的药液循环系统,其特征在于:所述进液管道上设置有第一阀门。

5.根据权利要求1所述的用于清洗晶圆的药液循环系统,其特征在于:还包括泄压管道,所述泄压管道一端与所述进液管道连接并连通,另一端与所述药液箱连接并连通,所述泄压管道靠近所述进液管道一端的距地高度高于所述泄压管道靠近所述药液箱一端的距地高度。

6.根据权利要求5所述的用于清洗晶圆的药液循环系统,其特征在于:所述泄压管道上设置有第二阀门。

7.根据权利要求1所述的用于清洗晶圆的药液循环系统,其特征在于:所述进液管道包括进液总管道和至少一个进液分管道,各所述进液分管道均与所述进液总管道一端连接并连通,所述进液总管道另一端与所述药液箱连接并连通,所述输送泵设置于所述进液总管道上,各所述进液分管道远离所述进液总管道的一端均与各所述清洗机的蠕动泵连接并连通;所述出液管道包括出液总管道和至少一个出液分管道,各所述出液分管道均与所述出液总管道一端连接并连通,所述出液总管道另一端与所述药液箱连接并连通,各所述出液分管道远离所述出液总管道的一端均与各所述清洗机连接并连通。

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【技术特征摘要】

1.一种用于清洗晶圆的药液循环系统,其特征在于:包括药液箱、输送泵、进液管道、至少一个清洗机和出液管道,所述进液管道的一端与所述药液箱连接并连通,另一端与所述清洗机的蠕动泵连接并连通,所述进液管道靠近所述药液箱的一端距地高度低于所述进液管道靠近所述清洗机一端的距地高度,所述进液管道上设置有所述输送泵,所述输送泵用于将所述药液箱内的药液输送至所述清洗机,所述出液管道的一端与所述清洗机连接并连通,另一端与所述药液箱连接并连通,所述出液管道靠近所述药液箱的一端距地高度低于所述出液管道靠近所述清洗机一端的距地高度。

2.根据权利要求1所述的用于清洗晶圆的药液循环系统,其特征在于:还包括过滤器,所述过滤器设置在所述进液管道上。

3.根据权利要求2所述的用于清洗晶圆的药液循环系统,其特征在于:所述过滤器的滤芯的孔径为0.2μm。

4.根据权利要求1所述的用于清洗晶圆的药液循环系统,其特征在于:所述进液管道上设置有第一阀门。

5.根据...

【专利技术属性】
技术研发人员:颜吉祥王雍期
申请(专利权)人:杭州邦齐州科技有限公司
类型:新型
国别省市:

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