【技术实现步骤摘要】
本技术涉及半导体制造，尤其是涉及一种化学机械抛光设备。
技术介绍
1、相关技术中，化学机械抛光是一种全局平坦化的超精密表面加工技术，主要应用于半导体晶圆的平坦化加工。化学机械抛光设备主要由存储单元、检测单元、抛光单元、清洗单元及在单元之间传递晶圆的传输机构和机械手等部件组成。现有化学机械抛光设备中，晶圆在存储单元、抛光单元、清洗单元与检测单元之间的传递多为单通道传输，无法精准传送，传输通道会部分或完全重合，容易导致晶圆在工位等待的现象，工作效率低。另外，各部件之间的关联配合比较单一，设备的灵活性和适配性严重不足，其中任一个单元出现故障，都会导致整机停止工作，影响生产工艺且生产成本增加。
技术实现思路
1、本技术旨在至少解决现有技术中存在的技术问题之一。为此，本技术提出一种化学机械抛光设备，所述化学机械抛光设备可以实现晶圆的自由转运和高效处理，兼具生产效率高、适配性强、可优化生产工艺及生产成本等优点。
2、根据本技术实施例的化学机械抛光设备，包括：前置单元、抛光单元、清洗单元和转运单元。所述前置单元包括存储模块和第一转运模块；所述转运单元包括动子，所述动子能够自由移动，所述动子用于将晶圆由所述第一转运模块转运至所述抛光单元、由所述抛光单元转运至所述清洗单元，所述第一转运模块用于将所述晶圆由所述存储模块转运至所述动子，由所述清洗单元转运至所述前置单元。
3、根据本技术实施例的化学机械抛光设备，通过前置单元、抛光单元、清洗单元和具有可以自由移动的动子的转运单元之间
4、根据本技术的一些实施例，所述转运单元为平面磁悬浮单元、气浮输送平台、地网集中供电系统输送平台或自动导引车输送系统。
5、根据本技术的一些实施例，所述前置单元还包括检测模块，所述第一转运模块用于将所述晶圆由所述清洗单元转运至所述检测模块以及由所述检测模块转运至所述存储模块。
6、根据本技术的一些实施例，所述抛光单元包括抛光设备和第二转运模块，所述第二转运模块用于将所述晶圆在所述动子和所述抛光设备之间转运。
7、根据本技术的一些实施例，所述清洗单元包括清洗设备和第三转运模块，所述第三转运模块用于将所述晶圆由所述动子转运至所述清洗设备。
8、在本技术的一些实施例中，所述清洗设备包括：至少一个刷洗模块、至少一个干燥模块和传送系统，所述第三转运模块用于将所述晶圆由所述动子转运至所述刷洗模块，所述第一转运模块用于将所述晶圆由所述干燥模块转运至所述前置单元；所述传送系统用于将所述晶圆由所述刷洗模块输送至所述干燥模块。
9、根据本技术的一些实施例，所述抛光单元包括抛光设备，所述清洗单元包括清洗设备，所述动子上设有第四转运模块，所述第四转运模块用于将所述晶圆在所述动子和所述抛光设备之间转运以及在所述清洗设备和所述动子之间转运。
10、根据本技术的一些实施例，所述转运单元沿第一方向延伸，所述前置单元、所述清洗单元和所述抛光单元沿所述第一方向依次排布。
11、在本技术的一些实施例中，所述转运单元沿第二方向的两侧均设有所述清洗单元和所述抛光单元，位于所述第二方向两侧的所述清洗单元对称设置，位于所述第二方向两侧的所述抛光单元对称设置，所述第二方向与所述第一方向垂直，所述前置单元设于所述转运单元沿所述第一方向的一侧。
12、根据本技术的一些实施例，所述存储模块为间隔开的多个；和/或，所述第一转运模块为间隔开的多个；和/或，所述抛光单元为间隔开的多个；和/或，所述清洗单元为间隔开的多个。
13、本技术的附加方面和优点将在下面的描述中部分给出，部分将从下面的描述中变得明显，或通过本技术的实践了解到。
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1.一种化学机械抛光设备，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的化学机械抛光设备，其特征在于，所述转运单元为平面磁悬浮单元、气浮输送平台、地网集中供电系统输送平台或自动导引车输送系统。
3.根据权利要求1所述的化学机械抛光设备，其特征在于，所述前置单元还包括检测模块，所述第一转运模块用于将所述晶圆由所述清洗单元转运至所述检测模块以及由所述检测模块转运至所述存储模块。
4.根据权利要求1所述的化学机械抛光设备，其特征在于，所述抛光单元包括：
5.根据权利要求1所述的化学机械抛光设备，其特征在于，所述清洗单元包括：
6.根据权利要求5所述的化学机械抛光设备，其特征在于，所述清洗设备包括：
7.根据权利要求1所述的化学机械抛光设备，其特征在于，所述抛光单元包括抛光设备，所述清洗单元包括清洗设备，所述动子上设有第四转运模块，所述第四转运模块用于将所述晶圆在所述动子和所述抛光设备之间转运以及在所述清洗设备和所述动子之间转运。
8.根据权利要求1所述的化学机械抛光设备，其特征在于，所述转运单元沿第一方向
9.根据权利要求8所述的化学机械抛光设备，其特征在于，所述转运单元沿第二方向的两侧均设有所述清洗单元和所述抛光单元，位于所述第二方向两侧的所述清洗单元对称设置，位于所述第二方向两侧的所述抛光单元对称设置，所述第二方向与所述第一方向垂直，所述前置单元设于所述转运单元沿所述第一方向的一侧。
10.根据权利要求1所述的化学机械抛光设备，其特征在于，所述存储模块为间隔开的多个；
...【技术特征摘要】
1.一种化学机械抛光设备，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的化学机械抛光设备，其特征在于，所述转运单元为平面磁悬浮单元、气浮输送平台、地网集中供电系统输送平台或自动导引车输送系统。
3.根据权利要求1所述的化学机械抛光设备，其特征在于，所述前置单元还包括检测模块，所述第一转运模块用于将所述晶圆由所述清洗单元转运至所述检测模块以及由所述检测模块转运至所述存储模块。
4.根据权利要求1所述的化学机械抛光设备，其特征在于，所述抛光单元包括：
5.根据权利要求1所述的化学机械抛光设备，其特征在于，所述清洗单元包括：
6.根据权利要求5所述的化学机械抛光设备，其特征在于，所述清洗设备包括：
7.根据权利要求1所述的化学机械抛光设备，其特征在于，所述抛光...
【专利技术属性】
技术研发人员：请求不公布姓名，
申请(专利权)人：江苏元夫半导体科技有限公司，
类型：新型
国别省市：
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