【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
技术介绍
技术实现思路
【技术保护点】
1.一种耐腐蚀和/或可清洁的涂覆的玻璃基材，其包含：
2.根据权利要求1所述的涂覆的玻璃基材，其中所述涂覆的玻璃基材在23℃下浸入1MNaOH或1M HCl中2小时之后表现出1％或更低的雾度增加。
3.根据权利要求1或权利要求2所述的涂覆的玻璃基材，其中包含氧化铈的层具有的厚度为1nm-500nm，优选5nm-250nm，更优选10nm-100nm。
4.根据前述权利要求中任一项所述的涂覆的玻璃基材，其中包含氧化铈的层具有的折射率在2.28至2.44范围内。
5.根据前述权利要求中任一项所述的涂覆的玻璃基材，其中包含氧化铈的层是第一表面上的唯一层。
6.根据权利要求1至4中任一项所述的涂覆的玻璃基材，还包含在包含氧化铈的层和第一表面之间的底层。
7.根据权利要求6所述的涂覆的玻璃基材，其中所述底层包含氧化硅，优选包含氧化硅的底层直接在第一表面上，更优选包含氧化硅的底层直接在第一表面上并且包含氧化铈的层直接在底层上。
8.根据前述权利要求中任一项所述的涂覆的玻璃基材，其中包含氧化铈的层包含基于所有组
9.根据前述权利要求中任一项所述的涂覆的玻璃基材，其中包含氧化铈的层的氧是亚化学计量。
10.根据前述权利要求中任一项所述的涂覆的玻璃基材，其中包含氧化铈的层还包含钛，优选地，包含氧化铈的层包含基于钛和铈计50-95原子％钛，更优选地，包含氧化铈的层包含基于钛和铈计70-90原子％钛，甚至更优选地，包含氧化铈的层包含基于钛和铈计75-85原子％钛。
11.根据前述权利要求中任一项所述的涂覆的玻璃基材，其中包含氧化铈的层包含基于所有组分计小于10原子％硅，优选地包含铈的层包含基于所有组分计小于1原子％硅，更优选地包含铈的层基本上不含硅。
12.根据前述权利要求中任一项所述的涂覆的玻璃基材，其中包含氧化铈的层包含基于所有组分计小于10原子％铝，优选地包含铈的层包含基于所有组分计小于1原子％铝，更优选地包含铈的层基本上不含铝。
13.根据前述权利要求中任一项所述的涂覆的玻璃基材，其中所述涂覆的玻璃基材表现出水接触角大于30°，优选大于50°，甚至更优选大于60°。
14.根据前述权利要求中任一项所述的涂覆的玻璃基材，其中所述基材为钢化玻璃。
15.一种生产耐腐蚀和/或可清洁的涂覆的玻璃基材，优选根据权利要求1至14中任一项的耐腐蚀的涂覆的玻璃基材的方法，该方法包括：
16.根据权利要求15所述的方法，其中所述溅射靶包含钛，优选基于钛和铈计50-95原子％钛，更优选溅射靶包含基于钛和铈计70-90原子％钛，甚至更优选溅射靶包含基于钛和铈计75-85原子％钛。
17.根据权利要求15至16中任一项所述的方法，其中溅射所述溅射靶的步骤在包含稀有气体的气氛中进行，优选地所述稀有气体为氩气或氪气。
18.根据权利要求15至17中任一项所述的方法，还包括在溅射所述溅射靶的步骤之前清洁表面，优选地，清洁表面包括以下的一种或多种：用二氧化铈研磨；用碱性水溶液清洗；去离子水冲洗；和等离子体处理。
19.根据权利要求15至18中任一项所述的方法，其中所述溅射靶是圆柱溅射靶。
20.根据权利要求15至19中任一项的方法，还包括在溅射所述溅射靶的步骤之后热处理钠钙硅玻璃基材的步骤，优选地，其中热处理钠钙硅玻璃基材的步骤包括将钠钙硅玻璃基材加热至至少600℃持续至少5分钟。
21.根据权利要求15至20中任一项的方法，还包括在溅射所述溅射靶的步骤之前将底层施加到第一表面的步骤，优选地，施加底层的步骤包括通过化学气相沉积、物理气相沉积或液相沉积，优选通过化学气相沉积来沉积包含氧化硅的层。
22.包含氧化铈的层作为玻璃基材上的耐腐蚀和/或可清洁涂层的用途，其中：
23.浴室屏、淋浴屏和/或防溅屏，包含根据权利要求1至14中任一项所述或者根据权利要求15至21所述的方法制造的耐腐蚀和/或可清洁的涂覆的玻璃基材。
24.根据权利要求23所述的浴室屏、淋浴屏和/或防溅屏，还包含固定件，以将浴室屏和/或淋浴屏固定到位以供使用，优选地，固定件包含粘合部或机械连接部，以将固定件连接到防溅屏。
...【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】
1.一种耐腐蚀和/或可清洁的涂覆的玻璃基材，其包含：
2.根据权利要求1所述的涂覆的玻璃基材，其中所述涂覆的玻璃基材在23℃下浸入1mnaoh或1m hcl中2小时之后表现出1％或更低的雾度增加。
3.根据权利要求1或权利要求2所述的涂覆的玻璃基材，其中包含氧化铈的层具有的厚度为1nm-500nm，优选5nm-250nm，更优选10nm-100nm。
4.根据前述权利要求中任一项所述的涂覆的玻璃基材，其中包含氧化铈的层具有的折射率在2.28至2.44范围内。
5.根据前述权利要求中任一项所述的涂覆的玻璃基材，其中包含氧化铈的层是第一表面上的唯一层。
6.根据权利要求1至4中任一项所述的涂覆的玻璃基材，还包含在包含氧化铈的层和第一表面之间的底层。
7.根据权利要求6所述的涂覆的玻璃基材，其中所述底层包含氧化硅，优选包含氧化硅的底层直接在第一表面上，更优选包含氧化硅的底层直接在第一表面上并且包含氧化铈的层直接在底层上。
8.根据前述权利要求中任一项所述的涂覆的玻璃基材，其中包含氧化铈的层包含基于所有组分计1-10原子％铈，优选地基于所有组分计2-8原子％铈。
9.根据前述权利要求中任一项所述的涂覆的玻璃基材，其中包含氧化铈的层的氧是亚化学计量。
10.根据前述权利要求中任一项所述的涂覆的玻璃基材，其中包含氧化铈的层还包含钛，优选地，包含氧化铈的层包含基于钛和铈计50-95原子％钛，更优选地，包含氧化铈的层包含基于钛和铈计70-90原子％钛，甚至更优选地，包含氧化铈的层包含基于钛和铈计75-85原子％钛。
11.根据前述权利要求中任一项所述的涂覆的玻璃基材，其中包含氧化铈的层包含基于所有组分计小于10原子％硅，优选地包含铈的层包含基于所有组分计小于1原子％硅，更优选地包含铈的层基本上不含硅。
12.根据前述权利要求中任一项所述的涂覆的玻璃基材，其中包含氧化铈的层包含基于所有组分计小于10原子％铝，优选地包含铈的层包含基于所有组分计小于1原子％铝，更优选地包含铈的层基本上不含铝。
13.根据前述权利要求...
【专利技术属性】
技术研发人员：W·阿斯皮纳尔，A·L·科莉，C·J·帕特里克森，河津光宏，渡边瑶子，
申请(专利权)人：皮尔金顿集团有限公司，
类型：发明
国别省市：
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