阻挡轻分子化合物污染的真空系统升华尾管技术方案

技术编号:42560228 阅读:15 留言:0更新日期:2024-08-29 00:30
本技术公开一种阻挡轻分子化合物污染的真空系统升华尾管,包括升华管主体、挡板、进气口和排气口,升华管主体的一端设有进气口,升华管主体的另一端设有排气口,升华管主体的内壁上设有多个上下间插的挡板。本技术的升华尾管所造成气流按规定方向引导,升华管增加了气流长度改变气流稳定性使得轻分子物料可以附着在挡板上从而保护真空泵组。

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及化工设备,具体涉及一种阻挡轻分子化合物污染的真空系统升华尾管


技术介绍

1、升华技术是目前已经比较成熟的一种提纯手段,普遍用于oled等有机材料,有机大分子及小分子的提纯升华,可以有效的提高产品纯度、除去机械杂质。随着升华技术的普及,越来越多的单体材料也逐渐使用这种方式进行提纯。

2、但是,目前已有的升华设备对于相对分子量小的单体而言,并不是非常适用。主要原因在于,小分子的单体相对而言熔沸点更低,升华温度不高,往往出现以下几种情况:

3、1、分子泵下的高真空,使得较低的温度即可使得产品升华,材料气体哪怕在室温也来不及凝华就被抽入泵组中,造成大量产品浪费;

4、2、物料大量进入泵组,设备维护工作大大提高;

5、3、末尾挡板大量物料沉积,清洗困难。

6、综上,急需一种阻挡轻分子化合物污染的真空系统升华尾管。


技术实现思路

1、本技术的目的是提供一种阻挡轻分子化合物污染的真空系统升华尾管,以解决上述
技术介绍
中小分子单体熔沸点低,升华温度不高,容易造成来不及凝华就被抽走造成污染和浪费的问题。

2、为实现上述目的,本技术采取以下技术方案:

3、本技术提供一种阻挡轻分子化合物污染的真空系统升华尾管,包括升华管主体、挡板、进气口和排气口,所述升华管主体的一端设有所述进气口,所述升华管主体的另一端设有所述排气口,所述升华管主体的内壁上设有多个上下间插的所述挡板。

4、所述的阻挡轻分子化合物污染的真空系统升华尾管,优选地,所述挡板的高度不小于所述升华管主体直径的一半。

5、所述的阻挡轻分子化合物污染的真空系统升华尾管,优选地,所述挡板的底部的形状为弧形,所述挡板的底部与所述升华管主体的内壁相连,所述挡板的顶部的形状为平面。

6、所述的阻挡轻分子化合物污染的真空系统升华尾管,优选地,所述挡板的个数不少于2个。

7、所述的阻挡轻分子化合物污染的真空系统升华尾管,优选地,相邻的所述挡板之间的距离相同。

8、所述的阻挡轻分子化合物污染的真空系统升华尾管,优选地,所述挡板为玻璃板。

9、本技术由于采取以上技术方案,其具有以下优点:

10、本技术的挡板的底部形状为弧形,方便更好与升华管主体相连接。

11、本技术的挡板高度不小于升华管主体直径的一半,挡板在多个升华管主体的内壁处上下间插设置,挡板呈s型排列。

12、本技术的升华尾管所造成气流按规定方向引导,本技术的升华管增加了气流长度改变气流稳定性使得轻分子物料可以附着在挡板上从而保护真空泵组。

本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种阻挡轻分子化合物污染的真空系统升华尾管,其特征在于,包括升华管主体、挡板、进气口和排气口,所述升华管主体的一端设有所述进气口,所述升华管主体的另一端设有所述排气口,所述升华管主体的内壁上设有多个上下间插的所述挡板。

2.根据权利要求1所述的阻挡轻分子化合物污染的真空系统升华尾管,其特征在于,所述挡板的高度不小于所述升华管主体直径的一半。

3.根据权利要求2所述的阻挡轻分子化合物污染的真空系统升华尾管,其特征在于,所述挡板的底部的形状为弧形,所述挡板的底部与所述升华管主体的内壁相连,所述挡板的顶部的形状为平面。

4.根据权利要求3所述的阻挡轻分子化合物污染的真空系统升华尾管,其特征在于,所述挡板的个数不少于2个。

5.根据权利要求4所述的阻挡轻分子化合物污染的真空系统升华尾管,其特征在于,相邻的所述挡板之间的距离相同。

6.根据权利要求1至5中任一项所述的阻挡轻分子化合物污染的真空系统升华尾管,其特征在于,所述挡板为玻璃板。

【技术特征摘要】

1.一种阻挡轻分子化合物污染的真空系统升华尾管,其特征在于,包括升华管主体、挡板、进气口和排气口,所述升华管主体的一端设有所述进气口,所述升华管主体的另一端设有所述排气口,所述升华管主体的内壁上设有多个上下间插的所述挡板。

2.根据权利要求1所述的阻挡轻分子化合物污染的真空系统升华尾管,其特征在于,所述挡板的高度不小于所述升华管主体直径的一半。

3.根据权利要求2所述的阻挡轻分子化合物污染的真空系统升华尾管,其特征在于,所述...

【专利技术属性】
技术研发人员:纪秦思贾斌
申请(专利权)人:明士北京新材料开发有限公司
类型:新型
国别省市:

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