【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及获得基板上的多个区域的阵列的方法、曝光方法、曝光装置、制造物品的方法、非暂时性计算机可读存储介质和信息处理装置。
技术介绍
1、曝光装置重叠10层或更多层图案(电路图案)，并且将这些图案转印到基板。如果层之间的图案的重叠准确度不高，则在电路特性中可能会出现不便。在这种情况下，芯片不能满足预定特性，并且变得有缺陷，导致低成品率。因此有必要在基板上准确地定位(对齐)将被曝光的多个区域中的每个和原版的图案。
2、在曝光装置中，布置在基板上的每个区域中的对齐标记被检测，并且基于对齐标记的位置信息和原版的图案的位置信息，基板上的每个区域与原版的图案对齐。理想地，当对基板上的所有区域都执行对齐标记检测时，可以执行最准确的对齐。然而，从生产率的角度来讲，这是不现实的。为了应对此，用于基板和原版的对齐方法的目前的主流是如日本专利公开no.62-84516中公开的全局对齐方法。
3、在全局对齐方法中，假定基板上的每个区域的相对位置可以用该区域的位置坐标的函数模型表示，仅布置在多个(4个到16个)采样区域中的对齐标记的位置被测量。接着，从假定的函数模型和对齐标记位置的测量结果，使用类似回归分析的统计运算处理来估计函数模型的参数。使用所述参数和函数模型，计算载台坐标系上的每个区域的位置坐标(基板上的区域的阵列)，从而执行对齐。如日本专利公开no.6-349705中所公开的，在全局对齐方法中，一般使用利用载台坐标作为变量的多项式模型，并且主要使用缩放(其是载台坐标的一阶多项式)、旋转、均匀的偏移等。使用考虑基板上的
4、随着器件的微型化和集成的进展，需要改进对齐准确性。由于这个原因，需要通过使用更高阶的分量作为函数模型的多项式的次数来提高函数模型的自由度。然而，如果测量基板中的对齐标记的位置的测量点的数量相对于函数模型的自由度较小，则发生过度拟合，并且未被测量的区域的校正误差增大。另一方面，如果增加测量对齐标记的位置的测量点的数量来抑制过度拟合，则测量时间增加，并且生产率降低。因为这些具有权衡关系，所以需要能够使用少量测量点和高自由度的函数模型来准确地预测包括高阶分量的基板上的区域的阵列的技术。
技术实现思路
1、本专利技术提供有利于准确地获得基板上的区域的阵列的技术。
2、根据本专利技术的第一方面，提供一种获得基板上的多个区域的阵列的方法，所述方法包括：通过测量分配给基板上的所述多个区域中的每个采样区域的标记来获得位置测量数据，并且通过使用用于从位置测量数据估计阵列的回归模型来估计所述多个区域中的不包括采样区域的每个非测量区域的位置，其中回归模型是非参数化回归模型。
3、根据本专利技术的第二方面，提供一种使基板经由原版曝光的曝光方法，所述曝光方法包括：通过使用以上方法来获得基板上的多个区域的阵列，并且一边基于在获得步骤中获得的阵列定位基板，一边将原版的图案转印到所述多个区域中的每个区域。
4、根据本专利技术的第三方面，提供一种用于使基板经由原版曝光的曝光装置，所述曝光装置包括：处理单元，所述处理单元被配置为获得基板上的多个区域的阵列；以及载台，所述载台被配置为基于处理单元获得的阵列来定位基板，其中处理单元通过测量分配给基板上的所述多个区域中的每个采样区域的标记来获得位置测量数据，并且通过使用用于从位置测量数据估计阵列的回归模型来估计所述多个区域中的不包括采样区域的每个非测量区域的位置，回归模型是非参数化回归模型。
5、根据本专利技术的第四方面，提供一种制造物品的方法，所述方法包括使用以上曝光方法来使基板曝光，使曝光的基板显影，并且从显影的基板制造物品。
6、根据本专利技术的第五方面，提供一种非暂时性计算机可读存储介质，所述非暂时性计算机可读存储介质存储被配置为使计算机执行获得基板上的多个区域的阵列的方法的程序，所述程序使所述计算机执行：通过测量分配给基板上的所述多个区域中的每个采样区域的标记来获得位置测量数据，并且通过使用用于从位置测量数据估计阵列的回归模型来估计所述多个区域中的不包括采样区域的每个非测量区域的位置，其中回归模型是非参数化回归模型。
7、根据本专利技术的第六方面，提供一种执行以上方法的信息处理装置。
8、根据本专利技术的第七方面，提供一种信息处理装置，其中所述装置被配置为获得通过测量分配给基板上的多个区域中的采样区域的标记而获得的位置测量数据，并且通过使用用于从位置测量数据估计所述多个区域的阵列的回归模型来估计所述多个区域中的不包括采样区域的非测量区域的位置，并且提供用户界面，所述用户界面被配置为显示关于从回归模型估计的非测量区域的位置的信息，回归模型是非参数化回归模型。
9、本专利技术的进一步的特征从以下参照附图对示例性实施例进行的描述，将变得明确。
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1.一种获得基板上的多个区域的阵列的方法，包括：
2.根据权利要求1所述的方法，进一步包括从所述位置测量数据和从所述回归模型估计的非测量区域的位置获得所述阵列。
3.根据权利要求1所述的方法，其中
4.根据权利要求3所述的方法，其中
5.根据权利要求4所述的方法，其中
6.根据权利要求2所述的方法，进一步包括：
7.一种使基板经由原版曝光的曝光方法，包括：
8.一种用于使基板经由原版曝光的曝光装置，包括：
9.根据权利要求8所述的装置，其中
10.根据权利要求9所述的装置，其中
11.根据权利要求10所述的装置，其中
12.一种制造物品的方法，包括：
13.一种非暂时性计算机可读存储介质，所述非暂时性计算机可读存储介质存储被配置为使计算机执行获得基板上的多个区域的阵列的方法的程序，所述程序使所述计算机执行：
14.一种信息处理装置，所述信息处理装置执行权利要求1中限定的方法。
15.一种信息处理装置，其中
<...【技术特征摘要】
1.一种获得基板上的多个区域的阵列的方法，包括：
2.根据权利要求1所述的方法，进一步包括从所述位置测量数据和从所述回归模型估计的非测量区域的位置获得所述阵列。
3.根据权利要求1所述的方法，其中
4.根据权利要求3所述的方法，其中
5.根据权利要求4所述的方法，其中
6.根据权利要求2所述的方法，进一步包括：
7.一种使基板经由原版曝光的曝光方法，包括：
8.一种用于使基板经由原版曝光的曝光装置，包括：
9.根据权利要求8所述的装置，其中
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