System.ArgumentOutOfRangeException: 索引和长度必须引用该字符串内的位置。 参数名: length 在 System.String.Substring(Int32 startIndex, Int32 length) 在 zhuanliShow.Bind() 电子封装件及其制法制造技术_技高网

电子封装件及其制法制造技术

技术编号:42550933 阅读:5 留言:0更新日期:2024-08-29 00:24
一种电子封装件及其制法,主要于一设有电子元件的承载结构上设置遮盖件,以令该遮盖件遮盖该电子元件,并于该遮盖件与该电子元件之间配置一导磁件,且使该导磁件与该遮盖件之间形成有气体间隙,以强化屏蔽效果。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术有关一种半导体封装制程,尤指一种具屏蔽机制的电子封装件及其制法


技术介绍

1、随着半导体技术的演进,为了提升电性品质,多数半导体产品具有屏蔽的功能,以防止电磁干扰(electromagnetic interference,简称emi)。

2、如图1所示,现有半导体封装件1的制法先将一半导体芯片11以其作用面11a利用覆晶接合方式(即通过导电凸块110与底胶111)设于一封装基板10上,再将粘着层14形成于该封装基板10上。接着,将一铜盖件13以其顶片130遮盖于该半导体芯片11的非作用面11b上,且将该铜盖件13的支撑脚131通过该粘着层14架设于该封装基板10上。

3、于运作时,通过该铜盖件13提供屏蔽的功能,以防止电磁干扰该半导体芯片11的信号收发。

4、随着产品应用改变,许多芯片里都需要能快速读写、低耗电、断电后不会遗失数据的存储器元件,如磁阻式随机存取存储器(magneto-resistive random access memory,简称mram)的磁阻芯片,其兼具快闪存储器的非挥发性、容量密度与使用寿命不输dram、平均能耗远低于dram等优点,故该半导体芯片11采用磁阻芯片的需求已视为下个世代通用型存储器的主流。

5、但是,现有半导体封装件1中,若仅靠该铜盖件13提供屏蔽的功能,mram规格的半导体芯片11仍易受到磁场的干扰,导致其功能失效。例如,传统高导电性(highconductivity)金属屏蔽件(即该铜盖件13)对于磁场(magnetic field)的屏蔽效果很差,甚至在低频状况下屏蔽效能小于-10db(即屏蔽不到90%磁场)。

6、再者,业界虽开发出于该金属盖内侧形成一层导磁性材料,如第twi786082号专利,以强化金属屏蔽件的屏蔽效果,但在低频状况下,仍无法达到屏蔽效能至少为-15db(即至少屏蔽97%磁场)的实际需求。

7、因此,如何克服上述现有技术的种种问题,实已成为目前业界亟待克服的难题。


技术实现思路

1、鉴于上述现有技术的种种缺陷,本专利技术提供一种电子封装件及其制法,可至少部分地解决现有技术的问题。

2、本专利技术的电子封装件,包括:承载结构;电子元件,其设于该承载结构上;遮盖件,其设于该承载结构上以遮盖该电子元件;以及导磁件,其设于该遮盖件与该电子元件之间,且该导磁件与该遮盖件之间形成有气体间隙。

3、本专利技术亦提供一种电子封装件的制法,包括:将电子元件设于一承载结构上;将导磁件设于该电子元件上,以令该导磁件遮盖该电子元件;以及将遮盖件设于该承载结构上,以令该遮盖件遮盖该导磁件,且该导磁件与该遮盖件之间形成有气体间隙。

4、前述的制法中,该导磁件通过结合材结合至该电子元件上。

5、本专利技术另提供一种电子封装件的制法,包括:将电子元件设于一承载结构上;将导磁件通过结合材结合至遮盖件上,并于该结合材中形成有气体间隙;以及将遮盖件设于该承载结构上,以令该遮盖件遮盖该电子元件,且该导磁件位于该遮盖件与该电子元件之间。

6、前述的电子封装件及其两种制法中,该遮盖件为铁盖。

7、前述的电子封装件及其两种制法中,该遮盖件包含有一片体与立设于该片体上的支撑脚,以令该气体间隙形成于该片体与该导磁件之间,且该支撑脚结合至该承载结构上。

8、前述的电子封装件及其两种制法中,该导磁件为铁素体。

9、前述的电子封装件及其两种制法中,还包括形成表面处理层于该遮盖件上。

10、由上可知,本专利技术的电子封装件及其制法,主要通过该导磁件与该遮盖件之间形成有气体间隙,以强化屏蔽效果,故相比于现有技术,当该电子封装件在低频状况下运作时,该屏蔽结构的屏蔽效能可大于-15db(即至少屏蔽97%磁场),以符合实际需求。

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【技术保护点】

1.一种电子封装件,包括:

2.如权利要求1所述的电子封装件,其中,该遮盖件为铁盖。

3.如权利要求1所述的电子封装件,其中,该遮盖件包含有一片体与立设于该片体上的支撑脚,以令该气体间隙形成于该片体与该导磁件之间,且该支撑脚结合至该承载结构上。

4.如权利要求1所述的电子封装件,其中,该导磁件为铁素体。

5.如权利要求1所述的电子封装件,其中,该导磁件通过结合材结合至该电子元件上。

6.如权利要求1所述的电子封装件,其中,该导磁件通过结合材结合至该遮盖件上,且该结合材中形成有该气体间隙。

7.如权利要求1所述的电子封装件,其中,该电子封装件还包括形成于该遮盖件上的表面处理层。

8.一种电子封装件的制法,包括:

9.如权利要求8所述的电子封装件的制法,其中,该导磁件通过结合材结合至该电子元件上。

10.一种电子封装件的制法,包括:

11.如权利要求8或10所述的电子封装件的制法,其中,该遮盖件为铁盖。

12.如权利要求8或10所述的电子封装件的制法,其中,该遮盖件包含有一片体与立设于该片体上的支撑脚,以令该气体间隙形成于该片体与该导磁件之间,且该支撑脚结合至该承载结构上。

13.如权利要求8或10所述的电子封装件的制法,其中,该导磁件为铁素体。

14.如权利要求8或10所述的电子封装件的制法,其中,该制法还包括形成表面处理层于该遮盖件上。

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【技术特征摘要】

1.一种电子封装件,包括:

2.如权利要求1所述的电子封装件,其中,该遮盖件为铁盖。

3.如权利要求1所述的电子封装件,其中,该遮盖件包含有一片体与立设于该片体上的支撑脚,以令该气体间隙形成于该片体与该导磁件之间,且该支撑脚结合至该承载结构上。

4.如权利要求1所述的电子封装件,其中,该导磁件为铁素体。

5.如权利要求1所述的电子封装件,其中,该导磁件通过结合材结合至该电子元件上。

6.如权利要求1所述的电子封装件,其中,该导磁件通过结合材结合至该遮盖件上,且该结合材中形成有该气体间隙。

7.如权利要求1所述的电子封装件,其中,该电子封装件还包括形成于该遮盖件上的表面处理层。<...

【专利技术属性】
技术研发人员:蔡文荣邱志贤林建成蔡明汎郑丞佑张惠菁
申请(专利权)人:矽品精密工业股份有限公司
类型:发明
国别省市:

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