成像设备及其框架单元制造技术

本发明专利技术提供一种成像设备及其框架单元，所述成像设备包括：图像载体； 曝光单元，用于通过光在图像载体上形成潜像；颗粒进入防止装置，用于防 止颗粒进入曝光单元和图像载体之间的光路。颗粒进入防止装置包括设置在 光路附近的颗粒储存单元，颗粒储存单元用于将颗粒储存在其中。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术总体构思涉及一种成像设备，更具体地说，涉及一种可防止曝光 单元和图像载体之间的光路的污染的成像设备。
技术介绍
成像设备被设计为根据输入的图像信号在打印介质上形成图像。成像设 备的示例包括打印机、复印机、传真机和结合上述功能的装置。在各种成像设备中，电子照相成像设备包括感光构件、曝光单元和显影 单元。曝光单元将光扫描到充有预定电势的感光构件上，以在感光构件的表 面上形成静电潜像。显影单元将显影剂供应到形成有静电潜像的感光构件上， 以形成可视图像。形成在感光构件上的可视图像被转印到从打印介质送进单元输送来的打 印介质上。转印有图像的打印介质在经过用于将转印的图像定影到打印介质 上的定影操作之后被排放到成像设备的外部。通常，曝光单元包括具有光传播部分的壳体和安装在所述壳体中的扫描 光学系统。从扫描光学系统产生的光通过光传播部分被发射到壳体外部。发 射的光经过曝光单元和感光构件之间的光路被照射到感光构件的表面上，从 而在感光构件的表面上形成静电潜像。成像设备包含多种颗粒，所述颗粒包括从感光构件和显影单元上分散的 显影剂、从打印介质上分散的纸尘或从外部被引入的污物。如果所述颗粒进 入曝光单元和感光构件之间的光路，则所述颗粒防碍光扫描到感光构件上， 导致静电潜像的形成失败或图像质量劣化。
技术实现思路
本专利技术总体构思提供一种成像设备以及该成像设备的框架单元，所述成 像设备能够防止颗粒进入曝光单元和感光构件之间的光路。本专利技术总体构思的其它方面和/或效用将一部分在以下描述中被阐述，一部分通过所述描述将变得清楚，或者可通过实施本专利技术的总体构思学习到。本专利技术总体构思的上述和/或其它方面和效用可通过提供一种成像设备来实现，所述成像设备包括图像载体；曝光单元，用于通过光在图像载体 上形成潜像；颗粒进入防止装置，用于防止颗粒进入曝光单元和图像载体之 间的光路，其中，颗粒进入防止装置包括设置在光路附近的颗粒储存单元， 颗粒储存单元用于将颗粒储存在其中。所述成像设备还可包括框架单元，具有设置在光路上的光窗，并且颗 粒储存单元可被设置在光窗附近。颗粒储存单元可包括形成在框架单元中的颗粒储存凹部。颗粒储存单元的宽度可大于经过光窗的光的扫描宽度。颗粒进入防止装置还可包括设置在颗粒储存单元和光路之间的颗粒挡板。所述成像设备还可包括设置在旋转的图像载体周围的至少一个旋转体， 并且颗粒储存单元可被设置在所述旋转体的下方。颗粒进入防止装置还可包括侧构件，不仅用于可旋转地支撑旋转体， 还用于阻挡光^各的侧部。颗粒进入防止装置还可包括突出壁，被构造为在光路的附近朝着图像 载体突出。颗粒进入防止装置还可包括膜构件，其一侧固定到突出壁，并且另一颗粒进入防止装置还可包括用于密封图像载体的两端的密封构件。框架单元可包括主框架和用于覆盖主框架的框架盖，光窗可包括形成在 主框架处的第一光传播孔和形成在所述盖处的与第一光传播孔对应的第二光 传播孔，颗粒储存凹部可形成在第二光传播孔的附近。框架单元可将废显影剂储存在其中，并且颗粒进入防止装置还可包括从 第 一光传播孔的边缘朝上突出的侧壁，以防止废显影剂进入光窗。曝光单元可包括设置在光路上的光传播构件，并且所述光传播构件与光 窗可不垂直对齐。本专利技术总体构思的上述和/或其它方面和效用还可通过提供一种成像设 备来实现，所述成像设备包括图像载体；曝光单元，通过光在图像载体上 形成潜像；颗粒储存单元，设置在曝光单元和图像载体之间的光路附近，以6防止颗粒进入光路，其中，颗粒储存单元的宽度大于经过颗粒储存单元的光 的扫描宽度。本专利技术总体构思的上述和/或其它方面和效用还可通过提供一种成像设备来实现，所述成像设备包括感光构件；曝光单元，通过光在感光构件上 形成潜像；框架单元，具有设置在曝光单元和感光构件之间的光路上的光窗； 颗粒储存单元，用于储存在光窗附近的颗粒，以防止颗粒进入光窗。本专利技术总体构思的上述和/或其它方面和效用可通过提供一种用于成像 设备的框架单元来实现，所述框架单元包括光窗，从成像设备的曝光单元 扫描的光经过所述光窗；颗粒进入防止装置，用于防止颗粒进入光窗，颗粒 进入防止装置可包括设置在光窗附近的颗粒储存单元。所述框架单元还可包括主框架和用于覆盖主框架的框架盖，并且光窗可 包括形成在主框架处的第 一光传播孔和形成在框架盖处的与第 一光传播孔对 应的第二光传播孔。颗粒储存单元可包括形成在第二光传播孔的 一侧的颗粒储存凹部。 颗粒储存凹部的宽度可大于经过第二光传播孔的光的扫描宽度。 颗粒进入防止装置还可包括设置在颗粒储存凹部和第二光传播孔之间的 颗粒挡板。所述框架单元还可包括感光构件，通过经过光窗扫描的光在所述感光构 件上形成静电潜像。所述框架单元还可包括充电辊，用于给感光构件充电；清洁辊，用于 清洁充电辊，并且颗粒储存单元可被设置在清洁辊的下方。本专利技术总体构思的上述和/或其它方面和效用可通过提供一种用于成像 设备的颗粒进入防止装置来实现，所述成像设备包括框架单元、感光构件、 曝光单元和曝光单元与感光构件之间的光路，所述颗粒进入防止装置包括 多个侧构件，附着到框架单元的相对的端部；突出壁，设置在多个侧构件之 间，以从框架盖朝着感光构件突出；膜构件，与突出壁和感光构件接触，并 且遮蔽突出壁和感光构件之间的空间；多个密封构件，置于感光构件的两侧 之间，其中，颗粒进入防止装置防止颗粒进入光路。附图说明通过下面结合附图对实施例进行的描述，本专利技术总体构思的示例性实例的这些和/或其它方面和效用将会变得清楚和更加容易理解，其中 图1是显示根据本专利技术总体构思的实施例的成像设备的构造的示图； 图2是显示图1的成像设备的一些部分的示图3是显示根据本专利技术总体构思的实施例的成像设备的框架单元的透视图4是显示根据本专利技术总体构思的实施例的成像设备的框架单元的内部 构造的透视图5是图2的局部放大示图6是显示根据本专利技术总体构思的实施例的成像设备的框架单元的主视图。具体实施例方式现在，将详细说明本专利技术总体构思的示例性实施例，其例子被显示在附 图中，图中相同的标号始终指代相同的元件。以下，通过参照附图描述实施图1是显示根据本专利技术总体构思的实施例的成像设备的构造的示图。图 2是显示图1的成像设备的一些部分的示图。如图1和图2所示，成像设备1包括主体10、打印介质送进单元20、曝 光单元30、感光构件40、框架单元100、显影单元50、转印单元60、定影 单元70和打印介质排放单元80。主体10限定成像设备1的外表，并且支撑安装在其中的多个元件。主体 盖11枢转地可旋转地结合到主体10的一侧，以打开或关闭主体10的一部分。打印介质送进单元20包括纸盒21,其中装载有打印介质S;拾取辊 22，用于一张一张地拾取装载在纸盒21中的打印介质S;输送辊23,用于将 拾取的打印介质S输送到转印单元60。曝光单元30被设置在框架单元100的下方，并且用于将对应于图像信息 的光扫描到感光构件40上。曝光单元30包括设置有用于允许光发射到外部 的光传播构件31的外壳32以及安装在外壳32中的扫描光学系统。扫描光学系统包括光源33,用于根据图像信号发射光；光偏转器34, 用于使从光源33发射的光偏转；F-6透镜35,用于补偿通过光偏转器34偏 转的光的像差；反本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种成像设备，包括：　图像载体；　曝光单元，用于通过光在图像载体上形成潜像；　颗粒进入防止装置，用于防止颗粒进入曝光单元和图像载体之间的光路，　其中，颗粒进入防止装置包括设置在光路附近的颗粒储存单元，颗粒储存单元用于 将颗粒储存在其中。

【技术特征摘要】
2008.2.21 KR 10-2008-0015800;2008.3.31 KR 10-2008-1、一种成像设备，包括图像载体；曝光单元，用于通过光在图像载体上形成潜像；颗粒进入防止装置，用于防止颗粒进入曝光单元和图像载体之间的光路，其中，颗粒进入防止装置包括设置在光路附近的颗粒储存单元，颗粒储存单元用于将颗粒储存在其中。2、 如权利要求1所述的成像设备，还包括框架单元，具有设置在光路上的光窗，其中，颗粒储存单元被设置在光窗附近。3、 如权利要求2所述的成像设备，其中，颗粒储存单元包括颗粒储存凹部，形成在框架单元处。4、 如权利要求2所述的成像设备，其中，颗粒储存单元的宽度大于经过光窗的光的扫描宽度。5、 如权利要求1所述的成像设备，其中，颗粒进入防止装置还包括颗粒挡板，设置在颗粒储存单元和光路之间。6、 如权利要求1所述的成像设备，还包括至少一个旋转体，设置在旋转的图像载体周围，其中，颗粒储存单元被设置在所述旋转体的下方。7、 如权利要求6所述的成像设备，其中，颗粒进入防止装置还包括侧构件，用于可旋转地支撑旋转体并且阻挡光路的侧部。8、 如权利要求1所述的成像设备，其中，颗粒进入防止装置还包括突出壁，在光路的周围朝着图像载体突出。9、 如权利要求8所述的成像设备，其中，颗粒进入防止装置还包括膜构件，其一侧固定到突出壁，并且另一侧与图像载体接触。10、 如权利要求1所述的成像设备，其中，颗粒进入防止装置还包括密封构件，用于密封图像载体的两端。11、 如权利要求3所述的成像设备，其中，框架单元包括主框架和用于覆盖主框架的框架盖，光窗包括形成在主框架处的第一光传播孔和形成在所述盖处的与第一光传播孔对应的第二光传播孔，颗粒储存凹部形成在第二光传播孔的附近。12、 如权利要求11所述的成像设备，其中，框架单元将废显影剂储存在其中，并且颗粒进入防止装置还包括从第一光传播孔的边缘朝上突出的侧壁，以防止废显影剂进入光窗。13、 如权利要求2所述的成像设备，其中，曝...

【专利技术属性】
技术研发人员：金钟仁，白明洙，金成起，张皓轸，
申请(专利权)人：三星电子株式会社，
类型：发明
国别省市：KR