System.ArgumentOutOfRangeException: 索引和长度必须引用该字符串内的位置。 参数名: length 在 System.String.Substring(Int32 startIndex, Int32 length) 在 zhuanliShow.Bind()
【技术实现步骤摘要】
本申请涉及cvd或cvi副产物处理,更具体地说,涉及一种cvd或cvi副产物聚氯硅烷的在线处理系统和方法。
技术介绍
1、在cvd(化学气相沉积)制备sic涂层工艺或cvi(化学气相渗透)制备陶瓷基复合材料sic界面层工艺中,采用的反应原料主要有甲基三氯硅烷(ch3sicl3)/h2体系或sihcl3/c3h6/h2体系。这些反应原料在800~1300℃下发生气相反应在工件表面沉积得到sic,同时释放出ch4、c2h2、hcl、sicl4、sihcl3、sih2cl2等副产物。在由高温区向低温区过渡阶段,随着系统骤冷,[sicl2]自由基会迅速聚合,产生大量的聚氯硅烷聚合物(sicl2)n,该物质沸点高,粘度大,容易在系统内壁富集,若不能及时处理,将会堵塞管道使真空系统效率下降。聚氯硅烷在空气中很不稳定,与空气中的水蒸气反应会产生腐蚀性酸性气体hcl和易燃易爆的还原性气体h2,反应式如下:
2、(sicl2)n+ 3nh2o = nh2sio3+ 2nhcl + nh2↑
3、此外,固体聚氯硅烷存在易燃易爆的特性,遇碱液或遇到摩擦产生的火花即可剧烈燃烧或爆炸。与si外延工艺中的聚氯硅烷副产物收集再利用系统不同,sic cvd/cvi工艺时间较短,累计产生副产物的量相对较少,对聚氯硅烷实施回收的策略并不适用,因此,需要建立合适的方案对sic cvd/cvi后端管道进行维护,目前可采用的几种方案及其缺点如下。
4、①低温旋风除尘仅能实现部分聚氯硅烷的收集,后端管道中仍然有大量副产物堆积。
< ...【技术保护点】
1.一种CVD或CVI副产物聚氯硅烷的在线处理系统,其特征在于,包括供气机构、汽化器和处理器;所述供气机构连接于所述汽化器;所述汽化器连接于所述处理器;
2.根据权利要求1所述的CVD或CVI副产物聚氯硅烷的在线处理系统,其特征在于,所述稳定剂为C2H5OH和H2O的混合物或者H2O。
3.根据权利要求1或2所述的CVD或CVI副产物聚氯硅烷的在线处理系统,其特征在于,所述汽化器包括容器、加热机构、多层孔板、进气管和出气管;所述容器装载有液态的所述稳定剂;所述加热机构设置在所述容器上;所述多层孔板浸泡在所述稳定剂之中;所述进气管的一端连接所述供气机构,另一端插入所述稳定剂并位于所述多层孔板的下方;所述出气管的一端位于所述容器之中的稳定剂液面之上,另一端向外连接至所述处理器。
4.根据权利要求3所述的CVD或CVI副产物聚氯硅烷的在线处理系统,其特征在于,所述供气机构还通过支管直接连接于所述出气管;所述进气管上设置第一阀门;所述支管上设置第二阀门;所述出气管上设置第三阀门;所述支管连接于所述第三阀门至所述处理器之间的所述出气管上。
5
6.根据权利要求1所述的CVD或CVI副产物聚氯硅烷的在线处理系统,其特征在于,所述在线处理系统还包括相互连接的除尘器、抽气装置和碱洗系统;所述除尘器连接所述处理器的出口。
7.根据权利要求6所述的CVD或CVI副产物聚氯硅烷的在线处理系统,其特征在于,所述出口和所述除尘器之间设置第四阀门;所述出口通过连接管直接连接于所述碱洗系统;所述连接管上设置第五阀门。
8.一种CVD或CVI副产物聚氯硅烷的在线处理方法,其特征在于,采用权利要求1-7任一项所述的在线处理系统来处理CVD或CVI副产物聚氯硅烷;所述在线处理方法包括:
9.根据权利要求8所述的CVD或CVI副产物聚氯硅烷的在线处理方法,其特征在于,在捕集阶段控制所述冷却区的冷却温度为-10~10℃;在反应阶段控制所述热反应区的温度为50~200℃。
10.根据权利要求8所述的CVD或CVI副产物聚氯硅烷的在线处理方法,其特征在于,所述在线处理方法还包括:在反应阶段,持续震动所述吸附件。
...【技术特征摘要】
1.一种cvd或cvi副产物聚氯硅烷的在线处理系统,其特征在于,包括供气机构、汽化器和处理器;所述供气机构连接于所述汽化器;所述汽化器连接于所述处理器;
2.根据权利要求1所述的cvd或cvi副产物聚氯硅烷的在线处理系统,其特征在于,所述稳定剂为c2h5oh和h2o的混合物或者h2o。
3.根据权利要求1或2所述的cvd或cvi副产物聚氯硅烷的在线处理系统,其特征在于,所述汽化器包括容器、加热机构、多层孔板、进气管和出气管;所述容器装载有液态的所述稳定剂;所述加热机构设置在所述容器上;所述多层孔板浸泡在所述稳定剂之中;所述进气管的一端连接所述供气机构,另一端插入所述稳定剂并位于所述多层孔板的下方;所述出气管的一端位于所述容器之中的稳定剂液面之上,另一端向外连接至所述处理器。
4.根据权利要求3所述的cvd或cvi副产物聚氯硅烷的在线处理系统,其特征在于,所述供气机构还通过支管直接连接于所述出气管;所述进气管上设置第一阀门;所述支管上设置第二阀门;所述出气管上设置第三阀门;所述支管连接于所述第三阀门至所述处理器之间的所述出气管上。
5.根据权利要求1所述的cvd或cvi副...
【专利技术属性】
技术研发人员:张世超,贺傲峰,王青春,
申请(专利权)人:北京北方华创真空技术有限公司,
类型:发明
国别省市:
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。