【技术实现步骤摘要】
本说明书总体上涉及在基板处理系统中制造的材料的质量控制。更具体地，本说明书涉及用于在制造过程的各个阶段期间对基板、晶片、掩模以及其他产品进行质量控制的光学检查方法和设备。
技术介绍
1、现代材料的制造通常涉及各种沉积技术，例如，化学气相沉积和物理气相沉积技术、蚀刻技术、抛光技术、光掩模技术和/或各种其他制造技术。以这种方式制造的材料可包括单晶、半导体膜、精细涂层以及在实际应用(诸如电子设备制造)中使用的许多其他物质。这些应用中的许多依赖于制造系统中制备的材料的纯度。各种检测和感测系统用于监测处理操作对制造规范的遵守、维持处理环境的最佳化学成分和物理条件等。中间产品和最终产品的质量通过检查系统(包括光学检查)进行监测。光学检查可包括反射计技术、光谱测量技术、椭圆测量技术等。光学检查可使用镜面反射光、漫反射(散射)光、透射光或以上各项的各种组合来执行。
技术实现思路
1、本文描述的实施例中的一些实施例涉及样本照明系统，所述样本照明系统包括照明子系统，所述照明子系统用于照明样本，所述照明子系统具有用于生成多个源光脉冲的脉冲光源以及将多个源光脉冲中的每个源光脉冲转换为多个时间间隔开的光脉冲的脉冲复用系统。脉冲复用系统包括多个光学回路，所述多个光学回路中的每个光学回路部署光学耦合器，所述光学耦合器将在光学路径上与光学耦合器相互作用的光的第一部分引导至样本并将与光学耦合器相互作用的光的第二部分作为输入提供到下一个光学回路中。
2、本文描述的另一实施例涉及样本检查系统，所述样本检查系
3、所描述的另一实施例涉及一种执行样本的检查的方法。所述方法包括：使用脉冲光源生成源光脉冲并使用多个光学回路将源光脉冲转换成多个时间间隔开的光脉冲。所述方法进一步包括：使用多个时间间隔开的光脉冲照明样本。所述方法进一步包括：收集在多个时间间隔开的光脉冲与样本相互作用时生成的光的一部分。所述方法进一步包括：将所收集的光的部分引导至光检测传感器以生成多个信号。所述方法进一步包括：使用多个信号确定样本的一个或多个特性。
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1.一种样本照明系统，包括：
2.如权利要求1所述的样本照明系统，其中脉冲光源包括准分子激光器，所述准分子激光器的源光脉冲的重复率在500Hz与10KHz之间。
3.如权利要求1所述的样本照明系统，其中所述多个源光脉冲中的不同源光脉冲具有不相关的相位(低时间相干性)。
4.如权利要求1所述的样本照明系统，其中所述多个光学回路的所述光学耦合器布置在二维阵列中。
5.如权利要求4所述的样本照明系统，其中所述二维阵列中的所述光学耦合器中的两个或更多个光学耦合器由曲面镜照明，其中所述两个或更多个光学耦合器中的每个光学耦合器接收从所述曲面镜的不同区域反射的入射光。
6.如权利要求1所述的样本照明系统，进一步包括：
7.如权利要求6所述的样本照明系统，其中所述光学路径倍增系统包括多个接收光学元件，所述多个接收光学元件中的每个接收光学元件接收所述多个光脉冲中的相应光脉冲，其中所述多个接收光学元件包括以下各项中的至少一项：
8.如权利要求1所述的样本照明系统，其中所述多个时间间隔开的光脉冲具有一致的强度。
...【技术特征摘要】
1.一种样本照明系统，包括：
2.如权利要求1所述的样本照明系统，其中脉冲光源包括准分子激光器，所述准分子激光器的源光脉冲的重复率在500hz与10khz之间。
3.如权利要求1所述的样本照明系统，其中所述多个源光脉冲中的不同源光脉冲具有不相关的相位(低时间相干性)。
4.如权利要求1所述的样本照明系统，其中所述多个光学回路的所述光学耦合器布置在二维阵列中。
5.如权利要求4所述的样本照明系统，其中所述二维阵列中的所述光学耦合器中的两个或更多个光学耦合器由曲面镜照明，其中所述两个或更多个光学耦合器中的每个光学耦合器接收从所述曲面镜的不同区域反射的入射光。
6.如权利要求1所述的样本照明系统，进一步包括：
7.如权利要求6所述的样本照明系统，其中所述光学路径倍增系统包括多个接收光学元件，所述多个接收光学元件中的每个接收光学元件接收所述多个光脉冲中的相应光脉冲，其中所述多个接收光学元件包括以下各项中的至少一项：
8.如权利要求1所述的样本照明系统，其中所述多个时间间隔开的光脉冲具有一致的强度。
9.如权利要求8所述的样本照明系统，其中所述一致的强度通过至少一些具有不同光学特性的光学耦合器来实现，其中所述光学特性包括光学透射率或光学反射率中的至少一者。
10.如权利要求1所述的样本照明系统，其中所述脉冲光源能配置成多个配置，其中在所述多个配置中的每个配置中，...
【专利技术属性】
技术研发人员：E·埃兹内尔，H·费尔德曼，B·戈尔贝格，R·纳夫塔利，K·韦尔斯，
申请(专利权)人：应用材料以色列公司，
类型：发明
国别省市：
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