System.ArgumentOutOfRangeException: 索引和长度必须引用该字符串内的位置。 参数名: length 在 System.String.Substring(Int32 startIndex, Int32 length) 在 zhuanliShow.Bind() 用于生产规模的铂族金属沉积的方法和设备技术_技高网
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用于生产规模的铂族金属沉积的方法和设备技术

技术编号:42537890 阅读:4 留言:0更新日期:2024-08-27 19:43
本公开涉及用于在生产线中将铂族金属(PGM)沉积在基材上的设备和方法。该设备可包括:至少一个移动机构,该至少一个移动机构被配置为使多个基材移动穿过该生产线的沉积区域;至少一个对准机构,该至少一个对准机构被配置为使多个沉积单元与该沉积区域中的该多个基材的一部分对准;和至少一个控制单元,该至少一个控制单元被配置为控制该PGM穿过至少一个供应管线到所对准的多个沉积单元以将该PGM沉积在该多个基材的所对准的部分的沉积表面上的流速。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】


技术介绍


技术实现思路

【技术保护点】

1.一种用于在生产线中将铂族金属(PGM)沉积在基材上的设备,所述设备包括:

2.根据权利要求1所述的设备,其中所述至少一个对准机构被配置为选择性地改变所述多个沉积单元在三个维度上相对于沉积表面的位置,以在所述多个基材的所述沉积表面上产生PGM沉积图案。

3.根据权利要求1所述的设备,其中控制所述PGM穿过所述至少一个供应管线的所述流速包括控制与所述至少一个供应管线相关联的至少一个阀的状态。

4.根据权利要求1所述的设备,其中控制所述PGM穿过所述至少一个供应管线的所述流速包括控制与所述多个沉积单元中的至少一个沉积单元相关联的至少一个阀的状态。

5.根据权利要求1所述的设备,其中所述多个沉积单元中的至少一个沉积单元包括至少一个加压喷嘴。

6.根据权利要求5所述的设备,其中所述至少一个加压喷嘴包括至少一个外壳,所述至少一个外壳被配置为将所述PGM的所述沉积限制在所述沉积表面或所述沉积表面的特定部分。

7.根据权利要求1所述的设备,其中所述PGM具有呈选自以下项中的一种或多种的形式的供应状态和/或沉积状态:溶液、悬浮液、气溶胶和浆料,其中所述供应状态不必与所述沉积状态相同。

8.根据权利要求1所述的设备,其中所述至少一个控制单元还被配置为控制载气穿过所述至少一个供应管线的流速,以修改所述PGM的沉积压力、雾化或两者。

9.根据权利要求8所述的设备,其中所述流速和所述沉积压力是非线性的,并且所述至少一个控制单元被配置为通过修改所述非线性流速和所述非线性沉积压力而在所述沉积表面上产生不同的PGM梯度。

10.根据权利要求1所述的设备,所述设备还包括以下项中的一个或多个:

11.根据权利要求1至10中任一项所述的设备,其中所述至少一个移动机构包括被配置为使所述基材移动的至少一个传送机。

12.根据权利要求12所述的设备,其中所述移动机构还被配置为使所述至少一个传送机的至少一个表面升高、降低或倾斜。

13.根据权利要求11或12所述的设备,其中所述至少一个移动机构还包括至少一个辅助移动机构,所述至少一个辅助移动机构被配置为:

14.根据权利要求13所述的设备,其中所述至少一个辅助移动机构包括至少一个机械臂。

15.根据权利要求12或13所述的设备,其中所述至少一个对准机构包括联接到辅助对准机构的多个主要对准机构,其中:

16.根据权利要求11或12所述的设备,其中所述至少一个对准机构包括沉积对准传送机,所述沉积对准传送机被配置为使所述多个基材的所述部分的速度和水平位置匹配以与所述多个沉积单元对准。

17.根据权利要求16所述的设备,其中所述至少一个传送机包括至少一个柔性传送机,所述至少一个柔性传送机被配置为使所述基材在至多三个维度上移动,并且其中所述沉积对准传送机还被配置为使所述多个基材的所述部分的竖直位置匹配,以使所述多个基材的所述部分与所述多个沉积单元对准。

18.根据权利要求17所述的设备,其中所述至少一个柔性传送机包括至少一个螺旋传送机,所述至少一个螺旋传送机被配置为使所述多个基材围绕旋转轴以螺旋方式移动。

19.根据权利要求1至18中任一项所述的设备,其中所述至少一个对准机构还被配置为使多个真空单元与所述沉积区域中的所述多个基材的所述部分对准,并且控制由所述多个真空单元施加在所述多个基材的所对准的部分的抽吸表面上的抽吸力,所述抽吸表面在所述多个基材的所对准的部分的与沉积表面相对的侧上,由此与所述多个沉积单元协作,以产生跨所述基材的压力梯度。

20.根据权利要求19所述的设备,其中所述多个真空单元被配置为通过网状传送带施加抽吸力。

21.根据权利要求1所述的设备,所述设备还包括至少一个旋转台,所述至少一个旋转台被配置为在沉积所述PGM时,使所述沉积区域中的所述多个基材的所述部分中的每个基材围绕所述基材的竖直旋转轴旋转。

22.根据权利要求21所述的设备,其中所述多个沉积单元中的至少一个沉积单元包括喷嘴,并且其中所述至少一个对准机构被配置为选择性地使所述喷嘴在距所述旋转轴的一定半径处对准,由此与所述至少一个旋转台协作,以沿具有所述半径的圆周将所述PGM沉积在所述基材的所述沉积表面上,和/或其中具有喷嘴移动机构的所述喷嘴使所述喷嘴对准,以将所述PGM沉积在所述基材的所述沉积表面上。

23.根据权利要求21所述的设备,其中所述多个沉积单元中的所述至少一个沉积单元包括第一喷嘴和第二喷嘴,并且其中所述至少一个对准机构被配置为选择性地使所述第一喷嘴在距所述旋转轴的第一半径处对准...

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】

1.一种用于在生产线中将铂族金属(pgm)沉积在基材上的设备,所述设备包括:

2.根据权利要求1所述的设备,其中所述至少一个对准机构被配置为选择性地改变所述多个沉积单元在三个维度上相对于沉积表面的位置,以在所述多个基材的所述沉积表面上产生pgm沉积图案。

3.根据权利要求1所述的设备,其中控制所述pgm穿过所述至少一个供应管线的所述流速包括控制与所述至少一个供应管线相关联的至少一个阀的状态。

4.根据权利要求1所述的设备,其中控制所述pgm穿过所述至少一个供应管线的所述流速包括控制与所述多个沉积单元中的至少一个沉积单元相关联的至少一个阀的状态。

5.根据权利要求1所述的设备,其中所述多个沉积单元中的至少一个沉积单元包括至少一个加压喷嘴。

6.根据权利要求5所述的设备,其中所述至少一个加压喷嘴包括至少一个外壳,所述至少一个外壳被配置为将所述pgm的所述沉积限制在所述沉积表面或所述沉积表面的特定部分。

7.根据权利要求1所述的设备,其中所述pgm具有呈选自以下项中的一种或多种的形式的供应状态和/或沉积状态:溶液、悬浮液、气溶胶和浆料,其中所述供应状态不必与所述沉积状态相同。

8.根据权利要求1所述的设备,其中所述至少一个控制单元还被配置为控制载气穿过所述至少一个供应管线的流速,以修改所述pgm的沉积压力、雾化或两者。

9.根据权利要求8所述的设备,其中所述流速和所述沉积压力是非线性的,并且所述至少一个控制单元被配置为通过修改所述非线性流速和所述非线性沉积压力而在所述沉积表面上产生不同的pgm梯度。

10.根据权利要求1所述的设备,所述设备还包括以下项中的一个或多个:

11.根据权利要求1至10中任一项所述的设备,其中所述至少一个移动机构包括被配置为使所述基材移动的至少一个传送机。

12.根据权利要求12所述的设备,其中所述移动机构还被配置为使所述至少一个传送机的至少一个表面升高、降低或倾斜。

13.根据权利要求11或12所述的设备,其中所述至少一个移动机构还包括至少一个辅助移动机构,所述至少一个辅助移动机构被配置为:

14.根据权利要求13所述的设备,其中所述至少一个辅助移动机构包括至少一个机械臂。

15.根据权利要求12或13所述的设备,其中所述至少一个对准机构包括联接到辅助对准机构的多个主要对准机构,其中:

16.根据权利要求11或12所述的设备,其中所述至少一个对准机构包括沉积对准传送机,所述沉积对准传送机被配置为使所述多个基材的所述部分的速度和水平位置匹配以与所述多个沉积单元对准。

17.根据权利要求16所述的设备,其中所述至少一个传送机包括至少一个柔性传送机,所述至少一个柔性传送机被配置为使所述基材在至多三个维度上移动,并且其中所述沉积对准传送机还被配置为使所述多个基材的所述部分的竖直位置匹配,以使所述多个基材的所述部分与所述多个沉积单元对准。

18.根据权利要求17所述的设备,其中所述至少一个柔性传送机包括至少一个螺旋传送机,所述至少一个螺旋传送机被配置为使所述多个基材围绕旋转轴以螺旋方式移动。

19.根据权利要求1至18中任一项所述的设备,其中所述至少一个对准机构还被配置为使多个真空单元与所述沉积区域中的所述多个基材的所述部分对准,并且控制由所述多个真空单元施加在所述多个基材的所对准的部分的抽吸表面上的抽吸力,所述抽吸表面在所述多个基材的所对准的部分的与沉积表面相对的侧上,由此与所述多个沉积单元协作,以产生跨所述基材的压力梯度。

20.根据权利要求19所述的设备,其中所述多个真空单元被配置为通过网状传送带施加抽吸力。

21.根据权利要求1所述的设备,所述设备还包括至少一个旋转台,所述至少一个旋转台被配置为在沉积所述pgm时,使所述沉积区域中的所述多个基材的所述部分中的每个基材围绕所述基材的竖直旋转轴旋转。

22.根据权利要求21所述的设备,其中所述多个沉积单元中的至少一个沉积单元包括喷嘴,并且其中所述至少一个对准机构被配置为选择性地使所述喷嘴在距所述旋转轴的一定半径处对准,由此与所述至少一个旋转台协作,以沿具有所述半径的圆周将所述pgm沉积在所述基材的所述沉积表面上,和/或其中具有喷嘴移动机构的所述喷嘴使所述喷嘴对准,以将所述pgm沉积在所述基材的所述沉积表面上。

23.根据权利要求21所述的设备,其中所述多个沉积单元中的所述至少一个沉积单元包括第一喷嘴和第二喷嘴,并且其中所述至少一个对准机构被配置为选择性地使所述第一喷嘴在距所述旋转轴的第一半径处对准并且选择性地使所述第二喷嘴在距所述旋转轴的第二半径处对准,由此与所述至少一个旋转台协作,以沿具有所述第一半径...

【专利技术属性】
技术研发人员:A·维朱诺夫孙毅鹏K·施米茨刘学P·德兰G·A·亚科比安A·A·歌卡勒S·毛雷尔
申请(专利权)人:巴斯夫公司
类型:发明
国别省市:

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