【技术实现步骤摘要】
本专利技术属于喷胶设备，尤其涉及一种喷嘴湿擦结构、喷嘴擦拭机构及喷胶系统。
技术介绍
1、在一些半导体产品生产过程中，需要通过喷胶机将胶喷涂在产品上，然后再进行后续的贴件、焊接或者烘烤等工序。而现有的喷胶机在长时间工作后，用于喷胶的喷嘴处会残留较多胶，造成胶浪费的同时还可能会滴落污染产品，影响喷胶效果以及产品质量，因此需要经常对喷嘴进行擦拭。
2、现有的喷嘴擦拭机构位于初始位，被喷涂胶点的物件位于喷胶位，该喷嘴擦拭机构设置有两个槽位，第一个槽位上放置一擦拭材料，第二个槽位为废胶排放位。在工作时，压电喷阀在初始位处下降，使得压电喷阀的喷嘴接触到第一个槽位上的擦拭材料，然后喷嘴水平向前平移至喷胶位，在喷胶位位置喷胶，完成被喷涂胶点的物件的点胶，然后压电喷阀上升至预定高度后返回至初始位，重复以上步骤循环点胶。
3、现有的喷嘴擦拭机构的擦拭材料浸有溶剂，以保证擦拭效果。但是使用时间长了之后，溶剂会挥发，导致擦拭材料的溶剂含量减少，对喷嘴的擦拭效果减弱，而且长时间使用会使擦拭材料表面累积大量残胶，进一步减弱对喷嘴的擦拭效果。
技术实现思路
1、本专利技术实施例提供一种喷嘴湿擦结构，旨在解决现有的喷嘴擦拭机构容易出现擦拭效果减弱的问题。
2、本专利技术实施例是这样实现的，一种喷嘴湿擦结构，包括第一箱体、第一擦拭件、第一转轴组件和第一驱动件；
3、第一箱体具有用于盛装溶剂的第一容纳腔；
4、第一擦拭件具有用于供喷嘴擦拭的第一擦拭面，第一
5、第一驱动件与第一转轴组件连接，用于驱动第一转轴组件转动，以带动第一擦拭件转动。
6、进一步地，第一箱体的侧面设置有第一进液口和第一出液口，第一出液口高于第一擦拭面的最低点，第一进液口与第一出液口持平或低于第一出液口。
7、进一步地，第一转轴组件包括空心轴、锁紧环、实心轴和垫圈；
8、空心轴的第一端设置有凸环，空心轴的第二端穿过第一擦拭件后与锁紧环配合锁紧第一擦拭件；
9、第一箱体设置有第一轴孔和第二轴孔，实心轴的第一端依次穿过第一轴孔、空心轴和第二轴孔后与垫圈配合，以使第一擦拭件与第一箱体可转动连接；
10、实心轴的第一端与第一驱动件连接。
11、进一步地，第一擦拭件成圆台状包括第一圆底面、第二圆底面和第一擦拭面，第一圆底面的直径大于第二圆底面的直径，第一转轴组件的旋转轴心线穿过第一圆底面和第二圆底面的圆心。
12、进一步地，喷嘴湿擦结构还包括第一升降驱动件，第一升降驱动件与第一箱体连接，用于驱动第一箱体升降。
13、第二方面，本申请还提供一种喷嘴擦拭机构，包括空喷组件、喷胶位和上述的喷嘴湿擦结构，空喷组件、喷嘴湿擦结构和喷胶位依次排列设置在喷嘴的移动路线上。
14、进一步地，空喷组件包括第二箱体，第二箱体设置有用于盛装溶剂的第二容纳腔。
15、进一步地，第二箱体设置有第二进液口和第二出液口。
16、进一步地，空喷组件还包括第二升降驱动件，第二升降驱动件与第二箱体连接，用于驱动第二箱体升降。
17、进一步地，喷嘴擦拭机构还包括设置在空喷组件和喷嘴湿擦结构之间的喷嘴干擦组件；
18、喷嘴干擦组件包括安装座，以及与安装座可转动连接的第二擦拭件；
19、第二擦拭件与第一驱动件连接，用于在第一驱动件的驱动下转动。
20、进一步地，喷嘴干擦组件还包括第二转轴组件；
21、第二擦拭件为圆台状包括第三圆底面、第四圆底面和第二擦拭面，第三圆底面朝向空喷组件，第四圆底面朝向喷嘴湿擦结构，第三圆底面的直径大于第四圆底面的直径；
22、第二转轴组件穿过第三圆底面和第四圆底面的圆心后与安装座可转动连接。
23、进一步地，喷嘴干擦组件还包括第三升降驱动件，第三升降驱动件与安装座连接，用于驱动安装座升降。
24、进一步地，喷嘴擦拭机构还包括浸泡组件；
25、浸泡组件包括设置在空喷组件远离喷嘴湿擦结构的一侧的第四箱体，第四箱体具有用于盛装溶剂的第四容纳腔。
26、进一步地，浸泡组件还包括第四升降驱动件，第四升降驱动件与第四箱体连接，用于驱动第四箱体升降。
27、进一步地，浸泡组件还包括设置在第四容纳腔内以吸附溶剂的浸润件，浸润件朝向第四容纳腔的底部的一侧设置有若干容纳槽。
28、进一步地，第四箱体设置有第三进液口和第三出液口。
29、进一步地，第四箱体还设置有第五容纳腔，第五容纳腔用于装载第三擦拭件。
30、第三方面，本申请还提供一种喷胶系统，包括喷嘴以及如上述的喷嘴擦拭机构。
31、本申请的有益效果在于，本申请提供的喷嘴湿擦结构包括第一箱体、第一擦拭件、第一转轴组件和第一驱动件，第一箱体具有用于盛装溶剂的第一容纳腔，第一擦拭件通过第一转轴组件与第一箱体可转动连接，第一擦拭件具有用于供喷嘴擦拭的第一擦拭面，且第一擦拭面浸入溶剂内，第一驱动件与第一转轴组件连接，用于驱动第一转轴组件转动，以带动第一擦拭件转动，使得第一擦拭件的第一擦拭面可以反复的浸入溶剂内，减少因溶剂挥发导致对喷嘴的擦拭效果减弱的情况，而且第一擦拭面对喷嘴擦拭后残留的残胶会被第一容纳腔内的溶剂溶解，保证第一擦拭面表面清洁，进一步保证对喷嘴的擦拭效果。
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1.一种喷嘴湿擦结构，其特征在于，包括第一箱体、第一擦拭件、第一转轴组件和第一驱动件；
2.如权利要求1所述的喷嘴湿擦结构，其特征在于，所述第一箱体的侧面设置有第一进液口和第一出液口，所述第一出液口高于所述第一擦拭面的最低点，所述第一进液口与所述第一出液口持平或低于所述第一出液口。
3.如权利要求1所述的喷嘴湿擦结构，其特征在于，所述第一转轴组件包括空心轴、锁紧环、实心轴和垫圈；
4.如权利要求1所述的喷嘴湿擦结构，其特征在于，所述第一擦拭件成圆台状包括第一圆底面、第二圆底面和所述第一擦拭面，所述第一圆底面的直径大于所述第二圆底面的直径，所述第一转轴组件的旋转轴心线穿过所述第一圆底面和所述第二圆底面的圆心。
5.如权利要求1至4中任一项所述的喷嘴擦拭机构，其特征在于，所述喷嘴湿擦结构还包括第一升降驱动件，所述第一升降驱动件与所述第一箱体连接，用于驱动所述第一箱体升降。
6.一种喷嘴擦拭机构，其特征在于，空喷组件、喷胶位和权利要求1至5中任一项所述的喷嘴湿擦结构，所述空喷组件、所述喷嘴湿擦结构和所述喷胶位依次排列设置在喷嘴
7.如权利要求6所述的喷嘴擦拭机构，其特征在于，所述空喷组件包括第二箱体，所述第二箱体设置有用于盛装溶剂的第二容纳腔。
8.如权利要求7所述的喷嘴擦拭机构，其特征在于，所述第二箱体设置有第二进液口和第二出液口。
9.如权利要求7所述的喷嘴擦拭机构，其特征在于，所述空喷组件还包括第二升降驱动件，所述第二升降驱动件与所述第二箱体连接，用于驱动所述第二箱体升降。
10.如权利要求6至9中任一项所述的喷嘴擦拭机构，其特征在于，所述喷嘴擦拭机构还包括设置在所述空喷组件和所述喷嘴湿擦结构之间的喷嘴干擦组件；
11.如权利要求10所述的喷嘴擦拭机构，其特征在于，所述喷嘴干擦组件还包括第二转轴组件；
12.如权利要求10所述的喷嘴擦拭机构，其特征在于，所述喷嘴干擦组件还包括第三升降驱动件，所述第三升降驱动件与所述安装座连接，用于驱动所述安装座升降。
13.如权利要求6至9中任一项所述的喷嘴擦拭机构，其特征在于，所述喷嘴擦拭机构还包括浸泡组件；
14.如权利要求13所述的喷嘴擦拭机构，其特征在于，所述浸泡组件还包括第四升降驱动件，所述第四升降驱动件与所述第四箱体连接，用于驱动所述第四箱体升降。
15.如权利要求13所述的喷嘴擦拭机构，其特征在于，所述浸泡组件还包括设置在所述第四容纳腔内以吸附溶剂的浸润件，所述浸润件朝向所述第四容纳腔的底部的一侧设置有若干容纳槽。
16.如权利要求13所述的喷嘴擦拭机构，其特征在于，所述第四箱体设置有第三进液口和第三出液口。
17.如权利要求13所述的喷嘴擦拭机构，其特征在于，所述第四箱体还设置有第五容纳腔，所述第五容纳腔用于装载第三擦拭件。
18.一种喷胶系统，其特征在于，包括如权利要求6至17中任一项所述的喷嘴擦拭机构。
...【技术特征摘要】
1.一种喷嘴湿擦结构，其特征在于，包括第一箱体、第一擦拭件、第一转轴组件和第一驱动件；
2.如权利要求1所述的喷嘴湿擦结构，其特征在于，所述第一箱体的侧面设置有第一进液口和第一出液口，所述第一出液口高于所述第一擦拭面的最低点，所述第一进液口与所述第一出液口持平或低于所述第一出液口。
3.如权利要求1所述的喷嘴湿擦结构，其特征在于，所述第一转轴组件包括空心轴、锁紧环、实心轴和垫圈；
4.如权利要求1所述的喷嘴湿擦结构，其特征在于，所述第一擦拭件成圆台状包括第一圆底面、第二圆底面和所述第一擦拭面，所述第一圆底面的直径大于所述第二圆底面的直径，所述第一转轴组件的旋转轴心线穿过所述第一圆底面和所述第二圆底面的圆心。
5.如权利要求1至4中任一项所述的喷嘴擦拭机构，其特征在于，所述喷嘴湿擦结构还包括第一升降驱动件，所述第一升降驱动件与所述第一箱体连接，用于驱动所述第一箱体升降。
6.一种喷嘴擦拭机构，其特征在于，空喷组件、喷胶位和权利要求1至5中任一项所述的喷嘴湿擦结构，所述空喷组件、所述喷嘴湿擦结构和所述喷胶位依次排列设置在喷嘴的移动路线上。
7.如权利要求6所述的喷嘴擦拭机构，其特征在于，所述空喷组件包括第二箱体，所述第二箱体设置有用于盛装溶剂的第二容纳腔。
8.如权利要求7所述的喷嘴擦拭机构，其特征在于，所述第二箱体设置有第二进液口和第二出液口。
9.如权利要求7所述的喷嘴擦拭机构，其特征在于，所...
【专利技术属性】
技术研发人员：莫润淋，陈刚，
申请(专利权)人：广东爱旭科技有限公司，
类型：发明
国别省市：
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