【技术实现步骤摘要】
本技术涉及半导体加工的，具体涉及了一种托盘位置的显示系统、一种托盘位置的调节系统，以及一种薄膜沉积装置。
技术介绍
1、在半导体的薄膜沉积设备的反应腔内，设有晶圆托盘用于接收并承托机械手从外部传入的待处理的晶圆，使其在反应腔内进行薄膜沉积反应。
2、如今，半导体薄膜设备在更换晶圆托盘后，通常需要对晶圆托盘的位置进行提前进行位置调节，以使得之后传入反应腔的晶圆能够顺利地放置于晶圆托盘的中心位置，从而在之后进行薄膜沉积反应时，晶圆表面沉积的薄膜能够比较均匀。
3、虽然，近年来出现了透明盖板结构的反应腔室，使得操作者可以观察晶圆传片过程，但是即使是通过肉眼直接观察，操作者还是很难从客观上精确地获取到晶圆托盘在反应腔内的位置，从而也就无法对其进行精确的位置调节，无法保证之后传入的晶圆能够顺利放置于晶圆托盘的中心位置，实现均匀的薄膜沉积。
4、为了解决现有技术中存在的上述问题，本领域亟需一种托盘位置的显示技术，能够清晰地显示晶圆托盘在反应腔内的位置，从而有利于后续对晶圆托盘进行精确的位置调节，提高晶圆托盘的位置调节效率和精密性。
技术实现思路
1、以下给出一个或多个方面的简要概述以提供对这些方面的基本理解。此概述不是所有构想到的方面的详尽综览，并且既非旨在指认出所有方面的关键性或决定性要素亦非试图界定任何或所有方面的范围。其唯一的目的是要以简化形式给出一个或多个方面的一些概念以为稍后给出的更加详细的描述之前序。
2、为了克服现有技术存在的上述缺
3、具体来说，根据本技术的第一方面提供的上述托盘位置的显示系统，包括：支撑结构，设置于盖板的上方，包括若干个图像采集装置，其中，所述图像采集装置经由所述盖板上的观察窗，获取所述观察窗下方的晶圆托盘与边缘环之间的边缘图像，所述边缘图像指示所述晶圆托盘到所述边缘环的相对位置；以及显示装置，连接所述若干个图像采集装置，用以放大显示所述边缘图像。
4、可选地，在一些实施例中，所述盖板上包括与所述图像采集装置对应数量的观察窗，各所述图像采集装置分别设置于对应的观察窗的正上方。
5、可选地，在一些实施例中，所述观察窗垂直对准对应的晶圆托盘的目标位置的边缘，以使所述若干个图像采集装置相互配合地获取所述晶圆托盘与所述边缘环之间完整的边缘图像。
6、可选地，在一些实施例中，所述观察窗的表面设有刻度标识，用于指示所述晶圆托盘到所述边缘环的第一相对距离。
7、可选地，在一些实施例中，还包括若干个照明装置，其中，各所述照明装置分别设置于对应的图像采集装置旁，用以提供图像采集的光源。
8、可选地，在一些实施例中，还包括图像处理装置，其中，所述图像处理装置分别连接所述图像采集装置和所述显示装置，用以计算所述边缘图像中所述晶圆托盘到所述边缘环的第一相对距离的实际数值，并将所述第一相对距离的实际数值标识并显示到所述显示装置。
9、可选地，在一些实施例中，所述图像采集装置还在传片过程中，获取对应的观察窗下方的晶圆与所述晶圆托盘和/或所述边缘环之间的边缘图像，以指示所述晶圆到所述晶圆托盘和/或所述边缘环的相对位置，所述图像处理装置还用以计算所述边缘图像中所述晶圆到所述晶圆托盘和/或所述边缘环的第二相对距离的实际数值，并将所述第二相对距离的实际数值标识并显示到所述显示装置。
10、此外，根据本技术的第二方面提供的上述托盘位置的调节系统，包括：本技术第一方面体用的上述托盘位置的显示系统，用于放大显示晶圆托盘与边缘环之间的边缘图像；以及第一调节装置，设置于反应腔内，用于根据所述边缘图像指示的第一相对距离，调节所述晶圆托盘的位置，以实现所述晶圆托盘的对中调节。
11、可选地，在一些实施例中，还包括第二调节装置，用于在传片过程中，根据所述边缘图像指示的第二相对距离，调节晶圆的位置，以实现所述晶圆的对中调节。
12、此外，根据本技术的第三方面还提供了一种薄膜沉积装置，包括：反应腔，其内部设有晶圆托盘，用于承托晶圆来进行薄膜沉积反应；盖板，覆盖所述反应腔上方，其上设有若干个观察窗；以及本技术第二方面提供的上述托盘位置的调节系统，用于在真空状态下，对所述反应腔内的晶圆托盘和/或晶圆进行对中调节。
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1.一种托盘位置的显示系统，其特征在于，包括：
2.如权利要求1所述的显示系统，其特征在于，所述盖板上包括与所述图像采集装置对应数量的观察窗，各所述图像采集装置分别设置于对应的观察窗的正上方。
3.如权利要求2所述的显示系统，其特征在于，所述观察窗垂直对准对应的晶圆托盘的目标位置的边缘，以使所述若干个图像采集装置相互配合地获取所述晶圆托盘与所述边缘环之间完整的边缘图像。
4.如权利要求2所述的显示系统，其特征在于，所述观察窗的表面设有刻度标识，用于指示所述晶圆托盘到所述边缘环的第一相对距离。
5.如权利要求1所述的显示系统，其特征在于，还包括若干个照明装置，其中，各所述照明装置分别设置于对应的图像采集装置旁，用以提供图像采集的光源。
6.如权利要求1所述的显示系统，其特征在于，还包括图像处理装置，其中，所述图像处理装置分别连接所述图像采集装置和所述显示装置，用以计算所述边缘图像中所述晶圆托盘到所述边缘环的第一相对距离的实际数值，并将所述第一相对距离的实际数值标识并显示到所述显示装置。
7.如权利要求6所述的显
8.一种托盘位置的调节系统，其特征在于，包括：
9.如权利要求8所述的调节系统，其特征在于，还包括第二调节装置，用于在传片过程中，根据所述边缘图像指示的第二相对距离，调节晶圆的位置，以实现所述晶圆的对中调节。
10.一种薄膜沉积装置，其特征在于，包括：
...【技术特征摘要】
1.一种托盘位置的显示系统，其特征在于，包括：
2.如权利要求1所述的显示系统，其特征在于，所述盖板上包括与所述图像采集装置对应数量的观察窗，各所述图像采集装置分别设置于对应的观察窗的正上方。
3.如权利要求2所述的显示系统，其特征在于，所述观察窗垂直对准对应的晶圆托盘的目标位置的边缘，以使所述若干个图像采集装置相互配合地获取所述晶圆托盘与所述边缘环之间完整的边缘图像。
4.如权利要求2所述的显示系统，其特征在于，所述观察窗的表面设有刻度标识，用于指示所述晶圆托盘到所述边缘环的第一相对距离。
5.如权利要求1所述的显示系统，其特征在于，还包括若干个照明装置，其中，各所述照明装置分别设置于对应的图像采集装置旁，用以提供图像采集的光源。
6.如权利要求1所述的显示系统...
【专利技术属性】
技术研发人员：张晨，关帅，
申请(专利权)人：拓荆科技股份有限公司，
类型：新型
国别省市：
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