【技术实现步骤摘要】
本申请涉及滤光结构，具体涉及层叠式零维材料滤光结构及其制备方法。
技术介绍
1、目前cmos光谱芯片滤光结构的主流做法是采用n层介质膜堆叠，每层介质膜含有不同的物质成分(如某种稀有金属的化合物)，每层介质膜的厚度也不一样，通过调节介质膜的物质成分和厚度，以及上下排列的顺序，得到只允许特定波长光通过的滤光结构。
2、相关技术中，为了将滤光结构所允许通过的光的波段范围变窄，通常是将两层或多层的介质膜叠加在一起，导致滤光结构的厚度较大。
技术实现思路
1、本申请的实施例提供了一种层叠式零维材料滤光结构及其制备方法，可以改善滤光结构的厚度较大的技术问题。
2、第一方面，本申请的实施例提供了一种层叠式零维材料滤光结构的制备方法，用于层叠式零维材料滤光结构的制备，包括：
3、获取第一滤光层，所述第一滤光层设有多个第一滤光结构；
4、在所述第一滤光层的表面沉积零维材料以形成第二滤光层，所述第二滤光层包括多个第二滤光结构，所述第二滤光结构的厚度在0.1nm到100nm之间，多个所述第二滤光结构与多个所述第一滤光结构一一相对设置，所述零维材料包括至少一种元素的单质和/或至少一种元素的化合物；
5、其中，所述第一滤光结构以及形成于所述第一滤光结构表面的所述第二滤光结构所允许通过的光的波长范围部分重合。
6、在一实施例中，所述在所述第一滤光层的表面沉积零维材料，包括：
7、在不同所述第一滤光结构的表面的沉积不同次数的零维
8、在一实施例中，所述在所述第一滤光层的表面沉积零维材料以形成第二滤光层之后，所述方法包括：
9、在所述第二滤光层的表面沉积零维材料以形成第三滤光层，所述第三滤光层包括多个第三滤光结构，多个所述第三滤光结构与多个所述第二滤光结构一一相对设置，其中，所述第一滤光结构以及与所述第一滤光结构相对的第二滤光结构所允许通过的光的波长范围为第一范围，与所述第二滤光结构相对的所述第三滤光结构所允许通过的光的波长范围为第二范围，所述第一范围和所述第二范围部分重合。
10、在一实施例中，将每个所述第一滤光结构表面的零维材料的目标厚度按照从小到大的顺序依次排列为t1、t2、t3......tn，所述在所述第一滤光层的表面沉积零维材料，包括：
11、在所述第一滤光层的表面沉积b1厚度的零维材料；
12、对b1厚度对应的所述第一滤光结构掩膜；
13、在所述基片的表面沉积bi-bi-1厚度的零维材料，其中，2≤i≤n；
14、对bi厚度对应的所述第一滤光结构掩膜，其中，i≤n-1；
15、重复所述在所述基片的表面沉积bi-bi-1厚度的零维材料步骤和所述对bi厚度对应的所述第一滤光结构掩膜步骤，直至在bn厚度对应的所述第一滤光结构表面沉积有bn厚度的零维材料。
16、在一实施例中，所述获取第一滤光层，包括：
17、获取基片，所述基片的表面设有多个光学通道区域，多个所述光学通道区域与所述层叠式零维材料滤光结构的多个光学通道一一对应；
18、在所述基片的表面沉积零维材料，所述零维材料包括至少一种元素的单质和/或至少一种元素的化合物，不同所述光学通道区域处的沉积次数不同，以在多个所述光学通道区域处形成不同厚度的第一滤光结构，所述第一滤光结构的厚度在0.1nm到100nm之间。
19、在一实施例中，所述获取第一滤光层，包括：
20、获取基片，所述基片的表面设有多个光学通道区域，多个所述光学通道区域与所述层叠式零维材料滤光结构的多个光学通道一一对应；
21、在所述基片的表面镀一层零维材料膜，所述零维材料膜包括至少一种元素的单质和/或至少一种元素的化合物；
22、对所述零维材料膜进行刻蚀，以在多个所述光学通道区域处形成不同厚度的第一滤光结构，所述第一滤光结构的厚度在0.1nm到100nm之间。
23、第二方面，本申请的实施例提供了一种层叠式零维材料滤光结构，包括：
24、第一滤光层，所述第一滤光层包括多个第一滤光结构；
25、第二滤光层，包括零维材料膜，所述零维材料膜的厚度在0.1nm到100nm之间，所述零维材料膜设置在所述第一滤光层的一侧，所述零维材料膜形成有多个第二滤光结构，多个所述第二滤光结构与多个所述第一滤光结构一一相对设置，其中，所述第一滤光结构以及相对的所述第二滤光结构所允许通过的光的波长范围部分重合，所述零维材料膜为元素单质膜或元素化合物膜或混合物膜。
26、在一实施例中，所述层叠式零维材料滤光结构包括至少一层第三滤光层，所述第三滤光层设置在所述第二滤光层背离所述第一滤光层的一侧，所述第三滤光层包括多个第三滤光结构，多个所述第三滤光结构与多个所述第二滤光结构一一相对设置，所述第一滤光结构以及相对的所述第二滤光结构用于通过第一波长范围的光信号，与所述第二滤光结构相对的所述第三滤光结构用于通过第二波长范围的光信号，所述第一波长范围和所述第二波长范围部分重合。
27、在一实施例中，所述第一滤光结构和所述第二滤光结构的材质相同，所述第一滤光结构和所述第二滤光结构的厚度不同；或，
28、所述第一滤光结构和所述第二滤光结构的材质不同，所述第一滤光结构和所述第二滤光结构的厚度相同；或，
29、所述第一滤光结构和所述第二滤光结构的材质和厚度均不相同。
30、在一实施例中，所述零维材料膜通过沉积或镀的方式设于所述第一滤光层的一侧。
31、本申请的实施例的有益效果：
32、在本申请的实施例中，通过利用第一滤光结构和第二滤光结构中的其中一个对光进行初步过滤，利用第一滤光结构和第二滤光结构中的另一个对光进行二次过滤，使得所得到的光的波段范围进一步变窄，实现了通过第一滤光层和第二滤光层对光进行双重过滤，实现了精细分光，可以得到窄带的更为纯净的光，提高了滤光效果。同时，通过沉积零维材料的方式形成第二滤光层，相比于相关技术中堆叠介质膜的方式，由于元素单质和/或元素化合物的单层厚度比介质膜小，可以在更小的尺度上调节不同的第二滤光结构的零维材料的厚度，进而在保证多个第二滤光结构的零维材料厚度不同的同时降低了第二滤光层的整体厚度，可以有效的降低层叠式零维材料滤光结构的厚度，且通过将零维材料通过沉积或镀的方式设在第一滤光层的表面处即可形成第二滤光层，简化了层叠式零维材料滤光结构的加工过程，提高了生产效率。
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1.一种层叠式零维材料滤光结构的制备方法，用于层叠式零维材料滤光结构的制备，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的层叠式零维材料滤光结构的制备方法，其特征在于，所述在所述第一滤光层的表面沉积零维材料，包括：
3.根据权利要求1所述的层叠式零维材料滤光结构的制备方法，其特征在于，所述在所述第一滤光层的表面沉积零维材料以形成第二滤光层之后，所述方法包括：
4.根据权利要求1至3任一项所述的层叠式零维材料滤光结构的制备方法，其特征在于，将每个所述第一滤光结构表面的零维材料的目标厚度按照从小到大的顺序依次排列为T1、T2、T3......Tn，所述在所述第一滤光层的表面沉积零维材料，包括：
5.根据权利要求1至3任一项所述的层叠式零维材料滤光结构的制备方法，其特征在于，所述获取第一滤光层，包括：
6.根据权利要求1至3任一项所述的层叠式零维材料滤光结构的制备方法，其特征在于，所述获取第一滤光层，包括：
7.一种基于如权利要求1至6任意一项的层叠式零维材料滤光结构的制备方法制作的层叠式零维材料滤光结构，其特征在于
8.根据权利要求4至7任一项所述的层叠式零维材料滤光结构，其特征在于，所述层叠式零维材料滤光结构包括至少一层第三滤光层，所述第三滤光层设置在所述第二滤光层背离所述第一滤光层的一侧，所述第三滤光层包括多个第三滤光结构，多个所述第三滤光结构与多个所述第二滤光结构一一相对设置，所述第一滤光结构以及相对的所述第二滤光结构用于通过第一波长范围的光信号，与所述第二滤光结构相对的所述第三滤光结构用于通过第二波长范围的光信号，所述第一波长范围和所述第二波长范围部分重合。
9.根据权利要求8所述的层叠式零维材料滤光结构，其特征在于，
10.根据权利要求8所述的层叠式零维材料滤光结构，其特征在于，所述零维材料膜通过沉积或镀的方式设于所述第一滤光层的一侧。
...【技术特征摘要】
1.一种层叠式零维材料滤光结构的制备方法，用于层叠式零维材料滤光结构的制备，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的层叠式零维材料滤光结构的制备方法，其特征在于，所述在所述第一滤光层的表面沉积零维材料，包括：
3.根据权利要求1所述的层叠式零维材料滤光结构的制备方法，其特征在于，所述在所述第一滤光层的表面沉积零维材料以形成第二滤光层之后，所述方法包括：
4.根据权利要求1至3任一项所述的层叠式零维材料滤光结构的制备方法，其特征在于，将每个所述第一滤光结构表面的零维材料的目标厚度按照从小到大的顺序依次排列为t1、t2、t3......tn，所述在所述第一滤光层的表面沉积零维材料，包括：
5.根据权利要求1至3任一项所述的层叠式零维材料滤光结构的制备方法，其特征在于，所述获取第一滤光层，包括：
6.根据权利要求1至3任一项所述的层叠式零维材料滤光结构的制备方法，其特征在于...
【专利技术属性】
技术研发人员：杨永霖，周莹，
申请(专利权)人：深圳光感半导体有限公司，
类型：发明
国别省市：
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