【技术实现步骤摘要】
本申请涉及真空压力计领域，尤其涉及一种真空压力计、真空工艺装置和真空压力计的维护方法。
技术介绍
1、真空压力计是高真空设备必备部件，一般压力计类型为电容薄膜式真空压力计，在经过一段时间的工艺制程后，工艺过程中的副产物或蚀刻介质会附着在真空计隔膜上，这就会导致压力计显示压力失真，从而导致实际制程压力与工艺设计压力存在偏差，则产品工艺后的各项数据也会存在异常，此时只能更换新的真空压力计来保证生产产品的良品率，但是由于当前的真空压力计价格昂贵，因此频繁的更换真空压力计也会让产品价格增加。
2、因此，如何对真空压力计进行维护，以延长真空压力计的使用时长是亟需解决的问题。
技术实现思路
1、鉴于上述相关技术的不足，本申请的目的在于提供一种真空压力计、真空工艺装置和真空压力计的维护方法，旨在解决目前的真空压力计使用时长较短成本高的问题。
2、一种真空压力计，包括：
3、电容薄膜压力传感器，电容薄膜压力传感器根据测量薄膜的形变量测量真空工艺腔内的空气压力；
4、腔室压力管道，腔室压力管道的一端连接真空工艺腔，另一端被测量薄膜封堵；
5、除尘装置，除尘装置包括振动端和控制端，振动端设于腔室压力管道内，朝向测量薄膜方向设置；
6、控制单元，控制单元与控制端通信连接，以控制振动端通过振动去除测量薄膜上附着的颗粒物。
7、上述真空压力计，在电容薄膜压力传感器和真空工艺腔之间的腔室压力管道中朝向电容薄膜压力传感器的测量薄
8、可选地，还包括第一薄膜位置调整机构和第二薄膜位置调整机构；
9、第一薄膜位置调整机构和第二薄膜位置调整机构对称的设于腔室压力管道内与测量薄膜的附作物生成面抵接，第一薄膜位置调整机构和第二薄膜位置调整机构互相配合调整测量薄膜的位置让测量薄膜恢复平整。
10、上述真空压力计，在测量薄膜出现松弛导致测量结果偏差较大时，通过第一薄膜位置调整机构和第二薄膜位置调整机构互相配合调整测量薄膜的位置让测量薄膜恢复平整，从而恢复电容薄膜压力传感器的测量精度，有效的延长真空压力计的使用寿命，降低使用成本。
11、可选地，腔室压力管道的管壁上还设有突出于管壁的收集槽，收集槽设于测量薄膜的正下方，或设于腔室压力管道的最低位置处。
12、上述真空压力计，在腔室压力管道的管壁设有收集槽，通过设置收集槽收集从测量薄膜上掉落的附着颗粒物，可以避免测量薄膜上附着的颗粒物进入真空工艺腔污染产品，影响良品率。
13、基于同样的专利技术构思，本申请还提供一种真空工艺装置，该真空工艺装置包括真空工艺腔和如本申请提供的一种真空压力计，电容薄膜压力传感器通过腔室压力管道与真空工艺腔连通。
14、上述真空工艺装置，其真空工艺腔通过腔室压力管道与电容薄膜压力传感器连通，通过设置本申请提供的一种真空压力计可以有效的降低真空工艺装置的使用成本，同时由于本申请提供的一种真空压力计的使用寿命较长，可以提高真空工艺腔的压力测量精度，从而提高生产良率。
15、基于同样的专利技术构思，本申请还提供一种真空压力计的维护方法，应用于本申请任一项真空压力计中，真空压力计的维护方法包括：
16、在预设抽真空流程中获取电容薄膜压力传感器测量得到的第一数值；
17、当第一数值与理论数值的偏差值大于等于规定数值时启动控制单元；
18、控制单元控制除尘装置对电容薄膜压力传感器的测量薄膜进行薄膜除尘。
19、上述真空压力计的维护方法，在预设抽真空流程中的电容薄膜压力传感器的测量得到的第一数值大于等于规定数值时，通过控制单元控制除尘装置对电容薄膜压力传感器的测量薄膜进行薄膜除尘，测量薄膜上附着的颗粒物在除尘装置的作用下产生松动并掉落，从而对真空压力计进行维护，延长真空压力计的使用寿命，降低使用成本。
20、可选地，控制单元控制除尘装置对电容薄膜压力传感器的测量薄膜进行薄膜除尘之后还包括：
21、获取电容薄膜压力传感器测量得到的第二数值；
22、根据第二数值与理论数值的偏差值确定测量薄膜的目标调整位置；
23、控制第一薄膜位置调整机构和第二薄膜位置调整机构将测量薄膜的位置调整至目标调整位置。
24、上述真空压力计的维护方法，完成测量薄膜的薄膜除尘以后通过确定此时的第二数值与理论数值的偏差值即可确定测量薄膜的在薄膜除尘是否发生松弛，并且通过该偏差值也可以推算出测量薄膜发送松弛的程度，从而确定测量薄膜恢复到正常的平整状态下所需调整的目标调整位置，最后通过控制第一薄膜位置调整机构和第二薄膜位置调整机构将测量薄膜的位置调整至目标调整位置，从而让测量薄膜恢复平整，回到正常的平整。
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1.一种真空压力计，其特征在于，包括：
2.如权利要求1所述的真空压力计，其特征在于，还包括第一薄膜位置调整机构和第二薄膜位置调整机构；
3.如权利要求2所述的真空压力计，其特征在于，所述第一薄膜位置调整机构和所述第二薄膜位置调整机构均包括：齿轮、齿轮驱动装置，以及活动杆；
4.如权利要求1-3任一项所述的真空压力计，其特征在于，所述腔室压力管道的管壁上还设有突出于管壁的收集槽，所述收集槽设于所述测量薄膜的正下方，或设于所述腔室压力管道的最低位置处。
5.如权利要求4所述的真空压力计，其特征在于，在所述收集槽的底部还设有排渣口。
6.如权利要求4所述的真空压力计，其特征在于，所述除尘装置包括声波除尘装置和超声波除尘装置任一种。
7.如权利要求4所述的真空压力计，其特征在于，包括多个所述除尘装置；
8.一种真空工艺装置，其特征在于，所述真空工艺装置包括真空工艺腔和如权利要求1-7任一项所述的真空压力计，所述电容薄膜压力传感器通过所述腔室压力管道与所述真空工艺腔连通。
9.一种真空压力计的
10.如权利要求9所述的真空压力计的维护方法，其特征在于，所述控制单元控制除尘装置对电容薄膜压力传感器的测量薄膜进行薄膜除尘之后还包括：
...【技术特征摘要】
1.一种真空压力计，其特征在于，包括：
2.如权利要求1所述的真空压力计，其特征在于，还包括第一薄膜位置调整机构和第二薄膜位置调整机构；
3.如权利要求2所述的真空压力计，其特征在于，所述第一薄膜位置调整机构和所述第二薄膜位置调整机构均包括：齿轮、齿轮驱动装置，以及活动杆；
4.如权利要求1-3任一项所述的真空压力计，其特征在于，所述腔室压力管道的管壁上还设有突出于管壁的收集槽，所述收集槽设于所述测量薄膜的正下方，或设于所述腔室压力管道的最低位置处。
5.如权利要求4所述的真空压力计，其特征在于，在所述收集槽的底部还设有排渣口。
6.如权利要求4所述的真空...
【专利技术属性】
技术研发人员：王鹏鹏，肖峰，张涛，苟先华，苏财钰，
申请(专利权)人：重庆康佳光电技术研究院有限公司，
类型：发明
国别省市：
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