【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及靶材加工，具体涉及一种lcd用g5代线一体式铝靶材组件的喷砂方法。
技术介绍
1、靶材是半导体制造中非常重要的材料，主要用于制备薄膜，广泛应用于集成电路、平板显示、太阳能电池、记录媒体、智能玻璃等领域。lcd(液晶显示器)靶材是用于制造液晶显示器件的关键材料之一，主要用于薄膜晶体管阵列的制作。在lcd的生产过程中，靶材通过溅射工艺沉积形成电极和其它功能层。靶材组件包括靶材和背板，lcd靶材组件一般包括g4.5代线一体型组件、g5代线一体型组件、g6代线一体型组件、g8.5代线一体型组件等，其中g5代线一体型组件的长度约为2050mm，宽度约为1500mm。
2、在靶材进行溅射之前，需要进行喷砂处理，以使得靶材获得较好的机械性能。通常，喷砂处理需要对靶材组件中除靶材本身的区域进行喷砂，比如背板的部分区域。其目的主要包括以下几个方面：(1)增加喷砂区域的表面粗糙度，提高与熔射膜层之间的粘附力，防止在长时间溅射过程中膜层的脱落；(2)去除表面的杂质和氧化物，从而改善靶材的机械性能；(3)去除靶材加工过程中可能会产生的毛刺，避免在溅射过程中引起电弧。在喷砂过程中，只需针对喷砂区域进行喷砂，靶材的溅射面需要保护起来，使其避免受喷砂的影响，以使得靶材在喷砂的过程中不会报废。
3、例如，cn213532231u中公开了一种靶材表面喷砂保护装置，所述靶材表面喷砂保护装置包括靶材上表面保护层、靶材侧面保护板和至少2个靶材侧面夹具；所述靶材上表面保护层完全覆盖于待喷砂靶材的上表面；所述靶材侧面保护板沿所述待喷砂
4、因此，提供一种适用于lcd用g5代线一体式铝靶材组件的喷砂方法，是目前需要解决的技术问题。
技术实现思路
1、针对以上问题，本专利技术的目的在于提供一种lcd用g5代线一体式铝靶材组件的喷砂方法，与现有技术相比，本专利技术提供的喷砂方法能够有效防止非喷砂面受到磨损或损伤，精准控制喷砂的范围和强度，保证产品的良品率。
2、为达到此专利技术目的，本专利技术采用以下技术方案：
3、本专利技术提供一种lcd用g5代线一体式铝靶材组件的喷砂方法，所述喷砂方法包括以下步骤：
4、(1)对g5代线一体式铝靶材组件的非喷砂面进行遮蔽处理，所述非喷砂面包括靶材的溅射面和侧面，所述遮蔽处理包括：将遮蔽治具覆盖于靶材的溅射面，然后将遮蔽治具的边缘区域贴覆密封层并将密封层延伸至覆盖靶材的侧面，得到预处理靶材组件；
5、(2)将步骤(1)得到的所述预处理靶材组件的喷砂面依次进行第一喷砂处理和第二喷砂处理，然后去除遮蔽治具和密封层，将靶材组件依次进行清洗和干燥，得到喷砂后的g5代线一体式铝靶材组件。
6、本专利技术提供的喷砂方法中，采用遮蔽治具保护靶材的溅射面，采用密封层密封遮蔽治具防止砂粒进入且保护靶材的侧面，通过遮蔽治具和密封层的组合使用，能够降低靶材的非喷砂面被破坏的风险，节约治具材料。另外，通过采用第一喷砂处理和第二喷砂处理的组合工艺，能够使喷砂面的粗糙度达到要求，一般要求表面粗糙度ra为35-65μm，保证产品的良品率。
7、本专利技术中，所述遮蔽治具的材质一般包括轻质金属板或轻质金属合金中的任意一种，例如铝合金等。
8、优选地，步骤(1)所述g5代线一体式铝靶材组件的厚度为10-30mm，例如可以是10mm、11mm、12mm、13mm、14mm、15mm、16mm、17mm、18mm、19mm、20mm、21mm、22mm、23mm、24mm、25mm、26mm、27mm、28mm、29mm或30mm，但不限于所列举的数值，数值范围内其它未列举的数值同样适用。
9、优选地，步骤(1)所述遮蔽治具的轮廓与靶材的溅射面的轮廓重合。
10、优选地，步骤(1)所述边缘区域包括由遮蔽治具的棱边向面中心延伸且不包括面中心的区域。
11、优选地，所述边缘区域的宽度为5-10mm，例如可以是5mm、6mm、7mm、8mm、9mm或10mm，但不限于所列举的数值，数值范围内其它未列举的数值同样适用。
12、本专利技术中，优选控制边缘区域的宽度在特定范围，能够有效避免砂粒进入治具内，使治具和非喷砂面紧密贴合，提升遮蔽效果。
13、优选地，步骤(1)所述密封层包括由上至下依次设置的第一密封层、第二密封层和第三密封层。
14、优选地，所述第一密封层包括至少4层电工胶带，例如可以是4层、5层或6层，但不限于所列举的数值，数值范围内其它未列举的数值同样适用。
15、优选地，所述第二密封层包括至少2层耐热胶带，例如可以是2层、3层或4层，但不限于所列举的数值，数值范围内其它未列举的数值同样适用。
16、优选地，所述第三密封层包括至少2层电工胶带，例如可以是2层、3层或4层，但不限于所列举的数值，数值范围内其它未列举的数值同样适用。
17、本专利技术中，优选控制密封层包括第一密封层、第二密封层和第三密封层的组合结构，一方面能够通过电工胶带提高密封层的耐磨性和稳定性，另一方面通过耐热胶带能够提升密封层的抗热能力，提高了整体的耐用性。
18、优选地，步骤(2)所述第一喷砂处理所用的砂粒包括白刚玉。
19、优选地，所述第一喷砂处理所用砂粒的平均粒径为106-150μm，例如可以是106μm、108μm、110μm、112μm、114μm、116μm、118μm、120μm、122μm、124μm、126μm、128μm、130μm、132μm、134μm、136μm、138μm、140μm、142μm、144μm、146μm、148μm或150μm，但不限于所列举的数值，数值范围内其它未列举的数值同样适用。
20、优选地，所述第一喷砂处理的压力为7-8mpa，例如可以是7mpa、7.1mpa、7.2mpa、7.3mpa、7.4mpa、7.5mpa、7.6mpa、7.7mpa、7.8mpa、7.9mpa或8mpa，但不限于所列举的数值，数值范围内其它未列举的数值同样适用。
21、本专利技术中，通过优选控制第一喷砂处理的砂粒平均粒径和压力在特定范围，能够进一步提升喷砂面的去除效果，提高加工效率。
22、优选地，所述第一喷砂处理的时间为1-2min，例如可以是1min、1.2min、1.4min、1.6min、1.8min或2min，但不限于所列举的数值，数值范围内其它未列举的数值同样适用。
23、优选地，步骤(2)所述第二喷砂处理所用的砂粒包括白刚玉。
24、优选地，所述第二喷砂处理所用砂粒的平均粒径为58-75μm，例如可以是58μm、60μm、本文档来自技高网...
【技术保护点】
1.一种LCD用G5代线一体式铝靶材组件的喷砂方法，其特征在于，所述喷砂方法包括以下步骤：
2.根据权利要求1所述的喷砂方法，其特征在于，步骤(1)所述G5代线一体式铝靶材组件的厚度为10-30mm。
3.根据权利要求1或2所述的喷砂方法，其特征在于，步骤(1)所述遮蔽治具的轮廓与靶材的溅射面的轮廓重合。
4.根据权利要求1-3任一项所述的喷砂方法，其特征在于，步骤(1)所述边缘区域包括由遮蔽治具的棱边向面中心延伸且不包括面中心的区域；
5.根据权利要求1-4任一项所述的喷砂方法，其特征在于，步骤(1)所述密封层包括由上至下依次设置的第一密封层、第二密封层和第三密封层；
6.根据权利要求1-5任一项所述的喷砂方法，其特征在于，步骤(2)所述第一喷砂处理所用的砂粒包括白刚玉；
7.根据权利要求1-6任一项所述的喷砂方法，其特征在于，步骤(2)所述第二喷砂处理所用的砂粒包括白刚玉；
8.根据权利要求1-7任一项所述的喷砂方法，其特征在于，步骤(2)所述清洗包括依次进行的冲洗和超声波清洗；
10.根据权利要求1-9任一项所述的喷砂方法，其特征在于，所述喷砂方法包括以下步骤：
...【技术特征摘要】
1.一种lcd用g5代线一体式铝靶材组件的喷砂方法，其特征在于，所述喷砂方法包括以下步骤：
2.根据权利要求1所述的喷砂方法，其特征在于，步骤(1)所述g5代线一体式铝靶材组件的厚度为10-30mm。
3.根据权利要求1或2所述的喷砂方法，其特征在于，步骤(1)所述遮蔽治具的轮廓与靶材的溅射面的轮廓重合。
4.根据权利要求1-3任一项所述的喷砂方法，其特征在于，步骤(1)所述边缘区域包括由遮蔽治具的棱边向面中心延伸且不包括面中心的区域；
5.根据权利要求1-4任一项所述的喷砂方法，其特征在于，步骤(1)所述密封层包括由上至下依次设置的第一密...
【专利技术属性】
技术研发人员：姚力军，许国，窦兴贤，王青松，朱雪明，
申请(专利权)人：合肥江丰电子材料有限公司，
类型：发明
国别省市：
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