【技术实现步骤摘要】
本公开涉及真空设备，特别涉及一种射频等离子装置及真空系统。
技术介绍
1、目前等离子体技术已广泛应用于各种领域，例如，在半导体集成电路制造方面，不同材料薄膜的生长及电路的蚀刻皆普遍由等离子体技术完成；再例如，纳米钛管的生长、微机电的研发等等。等离子体的研究与应用都离不开等离子的发生设备，例如等离子源。
2、传统的等离子体源生产、实验过程中需使用高压，危险系数高，安全性差，另外，传统的等离子体源使用高压直流电，气体离化效率低，生产时间长，生产维护成本高。
技术实现思路
1、本公开提供了一种射频等离子装置，包括：电磁场发生器，用于在通电后产生电磁场；磁场约束机构，用于产生约束磁场；以及等离子发生腔，与电磁场发生器和磁场约束机构耦合，用于容纳工作气体以及工作气体在电磁场和约束磁场的作用下产生的等离子。
2、本公开提供了一种真空系统，包括：真空腔；如本公开的一些实施例中任意一项的射频等离子装置，射频等离子装置至少部分设置在真空腔内，用于向真空腔内发射等离子。
【技术保护点】
1.一种射频等离子装置，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的射频等离子装置，其特征在于，所述电磁场发生器包括：
3.根据权利要求1所述的射频等离子装置，其特征在于，
4.根据权利要求2所述的射频等离子装置，其特征在于，所述磁场约束机构包括至少一个磁体，以产生约束磁场。
5.根据权利要求4所述的射频等离子装置，其特征在于，所述至少一个磁体包括多个磁体，所述磁场约束机构还包括：
6.根据权利要求5所述的射频等离子装置，其特征在于，所述磁场约束机构还包括磁体冷却机构，所述磁体冷却机构包括：
7.根据权利要求2所述的射频等离子装置，其特征在于，所述电磁场发生器还包括：
8.根据权利要求2所述的射频等离子装置，其特征在于，所述传导线路包括第一导线和第二导线，
9.根据权利要求8所述的射频等离子装置，其特征在于，所述电磁场发生器还包括：
10.根据权利要求2所述的射频等离子装置，其特征在于，等离子发生腔包括腔体和收缩段，所述电感线圈缠绕在所述腔体上，
11.根据权利
12.根据权利要求11所述的射频等离子装置，其特征在于，所述气体导入组件，还包括：
13.根据权利要求10所述的射频等离子装置，其特征在于，
14.根据权利要求10所述的射频等离子装置，其特征在于，所述传导线路包括内部中空的第一导线和第二导线，所述第一导线和所述第二导线在所述馈入线路的馈入端连通，
15.根据权利要求14所述的射频等离子装置，其特征在于，所述分隔块包括第一连接通道和第二连接通道，所述第一连接通道用于将所述第一连接管与所述外管连通，所述第二连接通道将所述第二连接管与所述出液口连通。
16.根据权利要求13或14所述的射频等离子装置，其特征在于，还包括：
17.根据权利要求16所述的射频等离子装置，其特征在于，还包括：
18.根据权利要求17所述的射频等离子装置，其特征在于，
19.根据权利要求16所述的射频等离子装置，其特征在于，还包括屏蔽外壳，套设在所述电磁场发生器上，用于屏蔽电磁信号。
20.根据权利要求16所述的射频等离子装置，其特征在于，所述等离子发生腔还包括：
21.根据权利要求19所述的射频等离子装置，其特征在于，还包括：
22.一种真空系统，其特征在于，包括：
...【技术特征摘要】
1.一种射频等离子装置，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的射频等离子装置，其特征在于，所述电磁场发生器包括：
3.根据权利要求1所述的射频等离子装置，其特征在于，
4.根据权利要求2所述的射频等离子装置，其特征在于，所述磁场约束机构包括至少一个磁体，以产生约束磁场。
5.根据权利要求4所述的射频等离子装置，其特征在于，所述至少一个磁体包括多个磁体，所述磁场约束机构还包括：
6.根据权利要求5所述的射频等离子装置，其特征在于，所述磁场约束机构还包括磁体冷却机构，所述磁体冷却机构包括：
7.根据权利要求2所述的射频等离子装置，其特征在于，所述电磁场发生器还包括：
8.根据权利要求2所述的射频等离子装置，其特征在于，所述传导线路包括第一导线和第二导线，
9.根据权利要求8所述的射频等离子装置，其特征在于，所述电磁场发生器还包括：
10.根据权利要求2所述的射频等离子装置，其特征在于，等离子发生腔包括腔体和收缩段，所述电感线圈缠绕在所述腔体上，
11.根据权利要求10所述的射频等离子装置，其特征在于，所述气体导入组件，还包括：
12.根据权利要求11所...
【专利技术属性】
技术研发人员：王艳会，谢斌平，全志清，
申请(专利权)人：费勉仪器科技上海有限公司，
类型：发明
国别省市：
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