【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及等离子体加工，具体是一种用于等离子体的防扩散污染装置及其使用方法。
技术介绍
1、等离子体加工常处于真空环境中，并对真空环境有较高的要求，等离子发生设备源源不断地产生等离子体，持续输出的等离子体在真空环境中四处飘移，不对产生的等离子体加以处理，会对真空环境造成污染，影响加工效率以及加工效果。
2、在等离子体加工过程中，为使工件表面能够达到加工要求，必须有效控制加工过程中真空环境中的等离子体飘移，减少真空环境中的等离子体。目前的装置一般只能控制等离子体的溅射，不能限制等离子体的飘移。
技术实现思路
1、本申请提供了一种用于等离子体的防扩散污染装置，当离子束在不加工工件时，进而避免产生的等离子体会溅射真空腔体中造成污染。
2、一方面，本申请提供的一种用于等离子体的防扩散污染装置，包括基座以及可拆卸安装在基座上的盖板；所述基座开设有供离子源激发射入的中空腔，所述盖板开设有与所述中空腔连通的连通孔；所述基座位于所述中空腔的一侧可拆卸安装有抽吸管，所述抽吸管的腔室与所述中空腔的腔室连通。
3、通过采用上述技术方案，本申请中的防扩散污染装置设置有供离子源激发射入的中空腔以及设置在中空腔一侧的可拆卸抽吸管，等离子体通过抽吸管从中空腔中抽离，进而避免产生的等离子体会溅射真空腔体而造成的污染。
4、优选的，所述基座位于所述中空腔的腔壁形成有供离子源运行的抛物面；所述盖板的底部环绕设置有导流板；所述导流板位于所述中空腔内将所述中空腔分隔成第
5、通过采用上述技术方案，本申请通过基座上的抛物面设置以及导流板的导流作用，将等离子体加工过程中等离子停留产生的冗余等离子体聚集，并在第一导流腔中进行对流以及在第二导流腔中环流，再通过抽吸管将聚集的等离子体抽吸离开，进而有效减少等离子体的扩散污染。
6、优选的，所述导流板包括一体形成的连接部、内凹部以及外凸部，所述连接部与所述盖板的底部连接；所述内凹部朝所述第一导流腔的腔室方向向内凹陷；所述外凸部向所述中空腔底部的腔壁延伸，所述间隙位于所述外凸部与所述中空腔底部的腔壁之间。
7、通过采用上述技术方案，导流板上的内凹部朝第一导流腔的腔室方向向内凹陷，同时，外凸部向中空腔底部的腔壁延伸，进而与外凸部与中空腔底部的腔壁之间形成对流。另外，内凹部朝基座上中空腔的抛物面腔壁形成环流，进而有助于等离子停留产生的冗余等离子体聚集，使得聚集的等离子体能够被抽吸管抽离。
8、优选的，所述基座位于所述中空腔抛物面的侧壁上开设有抽吸孔，所述抽吸孔的长度方向平行于曲面的切线方向；所述抽吸管固定并穿设所述抽吸孔。
9、优选的，所述抽吸管包括第一管道以及与所述第一管道垂直连接的第二管道，所述第一管道穿设所述抽吸孔；所述第一管道上设置有固定块，所述固定块上开设有第一固定孔，所述基座的侧壁上开设有与所述第一固定孔相通的第二固定孔，所述固定块上设置有同时穿设所述第一固定孔和所述第二固定孔的固定杆。
10、通过采用上述技术方案，将固定杆同时穿设述第一固定孔和第二固定孔，进而使得连接有固定块的第一管道能够固定在基座上。同时，第一管道垂直连接在第二管道上，并穿设在抽吸孔中，进而有助于将等离子体能够从抽吸孔抽离，并且减少体积占用，结构简单，成本较低，适合推广。
11、优选的，所述固定块包括固定在所述第一管道上的第一固定环以及滑移穿设在所述第一管道上的第二固定环；所述基座的侧壁上开设有供所述第一固定环以及所述第二固定环收纳的收纳槽；所述第一固定环开设有供所述第二固定环收纳的密封槽；所述第一固定环与所述第二固定环上均开设有供所述固定杆穿设的所述第一固定孔。
12、通过采用上述技术方案，本方案通过在基座侧壁上的收纳槽收纳第一固定环以及第二固定环，同时位于第一固定环上开设的密封槽收纳第二固定环，进而提高了第一管道在抽吸孔连接处的密封性。
13、优选的，所述基座位于所述抽吸孔与所述中空腔的连通处设置有密封套；所述密封套的一侧开口与所述中空腔相通，所述密封套的另一侧开口与所述第一管道的腔室相通；所述密封套朝所述中空腔的一侧设有与所述抛物面相贴合的曲面；所述密封套朝所述抽吸孔的一侧设置有密封环，所述抽吸孔的孔壁开设有与所述密封环卡接的卡接槽。
14、通过采用上述技术方案，密封套的设计能够提高中空腔到抽吸孔中第一管道的密封性，进而减少等离子体会溅射真空腔体中造成污染；同时，密封套朝中空腔的一侧设有与抛物面相贴合的曲面，进而有助于等离子体能够在第二导流腔中环流，再通过抽吸管将聚集的等离子体抽吸离开。
15、优选的，所述盖板的周侧延伸有多个连接块，所述连接块上开设有第一连接孔，所述基座上开设有与所述第一连接孔向通的第二连接孔，所述连接块上设置有连接杆，所述连接杆同时穿设所述第一连接孔以及所述第二连接孔。
16、通过采用上述技术方案，将连接杆同时穿设第一连接孔以及第二连接孔，进而使得盖板能够稳定固定在基座上，有助于将等离子体能够在基座上聚集，并使聚集的等离子体能够被抽吸管抽离。
17、优选的，所述基座位于所述中空腔的腔壁材料为石墨材料。
18、另一方面，本申请还公开一种用于等离子体的防扩散污染装置的使用方法，包括以下步骤：s1、离子源置入：等离子体发生装置与所述基座的顶部垂直，离子源垂直通过所述盖板上的连通孔，将离子束朝中空腔中发射； s2、离子束对流：离子束在通过所述间隙从所述第一导流腔中移动到所述第二导流腔中，离子束在所述中空腔的抛物面及所述导流板之间发生对流；s3、离子束抽吸：所述抽吸管连通真空设备，所述第二导流腔中的离子束环绕在所述导流板中对流，同时被所述抽吸管中抽离。
19、本申请中提供的一个或多个技术方案，至少具有如下技术效果或优点：
20、1、本申请采用在防扩散污染装置设置有供离子源激发射入的中空腔以及设置在中空腔一侧的可拆卸抽吸管，等离子体通过抽吸管从中空腔中抽离，进而避免产生的等离子体会溅射真空腔体而造成的污染。
21、2、本申请通过基座上的抛物面设置以及导流板的导流作用，将等离子体加工过程中等离子停留产生的冗余等离子体聚集，并在第一导流腔中进行对流以及在第二导流腔中环流，，不仅能够减少等离子体的溅射，还能限制等离子体的飘移，通过抽吸管将聚集的等离子体抽吸离开，进而有效减少等离子体的扩散污染。
22、3、本申请通过将固定杆同时穿设述第一固定孔和第二固定孔，进而使得连接有固定块的第一管道能够固定在基座上。
23、4、本申请采用将连接杆同时穿设第一连接孔以及第二连接孔，进而使得盖板能够稳定固定在基座上，有助于将等离子体能够在基座上聚集，并使聚集的等离子体能够被抽吸管抽离。
本文档来自技高网...【技术保护点】
1.一种用于等离子体的防扩散污染装置，其特征在于，包括基座（1）以及可拆卸安装在基座（1）上的盖板（2）；所述基座（1）开设有供离子源激发射入的中空腔（11），所述盖板（2）开设有与所述中空腔（11）连通的连通孔（21）；所述基座（1）位于所述中空腔（11）的一侧可拆卸安装有抽吸管（3），所述抽吸管（3）的腔室与所述中空腔（11）的腔室连通。
2.如权利要求1所述的用于等离子体的防扩散污染装置，其特征在于，所述基座（1）位于所述中空腔（11）的腔壁形成有供离子源运行的抛物面；所述盖板（2）的底部环绕设置有导流板（22）；所述导流板（22）位于所述中空腔（11）内将所述中空腔（11）分隔成第一导流腔（111）以及第二导流腔（112）；所述第一导流腔（111）与离子源所处空间相通，所述导流板（22）的底部与所述中空腔（11）底部的腔壁设有间隙（113），所述间隙（113）连通所述第一导流腔（111）和所述第二导流腔（112）。
3.如权利要求2所述的用于等离子体的防扩散污染装置，其特征在于，所述导流板（22）包括一体形成的连接部（221）、内凹部（222）以及
4.如权利要求2所述的用于等离子体的防扩散污染装置，其特征在于，所述基座（1）位于所述中空腔（11）抛物面的侧壁上开设有抽吸孔（12），所述抽吸孔（12）的长度方向平行于曲面的切线方向；所述抽吸管（3）固定并穿设所述抽吸孔（12）。
5.如权利要求4所述的用于等离子体的防扩散污染装置，其特征在于，所述抽吸管（3）包括第一管道（31）以及与所述第一管道（31）垂直连接的第二管道（32），所述第一管道（31）穿设所述抽吸孔（12）；所述第一管道（32）上设置有固定块（33），所述固定块（33）上开设有第一固定孔（331），所述基座（1）的侧壁上开设有与所述第一固定孔（331）相通的第二固定孔（13），所述固定块（33）上设置有同时穿设所述第一固定孔（331）和所述第二固定孔（13）的固定杆（332）。
6.如权利要求5所述的用于等离子体的防扩散污染装置，其特征在于，所述固定块（33）包括固定在所述第一管道（31）上的第一固定环（333）以及滑移穿设在所述第一管道（31）上的第二固定环（334）；所述基座（1）的侧壁上开设有供所述第一固定环（333）以及所述第二固定环（334）收纳的收纳槽（15）；所述第一固定环（333）开设有供所述第二固定环（334）收纳的密封槽（335）；所述第一固定环（333）与所述第二固定环（334）上均开设有供所述固定杆（332）穿设的所述第一固定孔（331）。
7.如权利要求6所述的用于等离子体的防扩散污染装置，其特征在于，所述基座（1）位于所述抽吸孔（12）与所述中空腔（11）的连通处设置有密封套（16）；所述密封套（16）的一侧开口与所述中空腔（11）相通，所述密封套（16）的另一侧开口与所述第一管道（31）的腔室相通；
8.如权利要求1所述的用于等离子体的防扩散污染装置，其特征在于，所述盖板（2）的周侧延伸有多个连接块（23），所述连接块（23）上开设有第一连接孔（231），所述基座（1）上开设有与所述第一连接孔（231）向通的第二连接孔（14），所述连接块（23）上设置有连接杆（232），所述连接杆（232）同时穿设所述第一连接孔（231）以及所述第二连接孔（14）。
9.如权利要求1所述的用于等离子体的防扩散污染装置，其特征在于，所述基座（1）位于所述中空腔（11）的腔壁材料为石墨材料。
10.一种权利要求1-9任意一项所述的用于等离子体的防扩散污染装置的使用方法，其特征在于，包括以下步骤：
...【技术特征摘要】
1.一种用于等离子体的防扩散污染装置，其特征在于，包括基座（1）以及可拆卸安装在基座（1）上的盖板（2）；所述基座（1）开设有供离子源激发射入的中空腔（11），所述盖板（2）开设有与所述中空腔（11）连通的连通孔（21）；所述基座（1）位于所述中空腔（11）的一侧可拆卸安装有抽吸管（3），所述抽吸管（3）的腔室与所述中空腔（11）的腔室连通。
2.如权利要求1所述的用于等离子体的防扩散污染装置，其特征在于，所述基座（1）位于所述中空腔（11）的腔壁形成有供离子源运行的抛物面；所述盖板（2）的底部环绕设置有导流板（22）；所述导流板（22）位于所述中空腔（11）内将所述中空腔（11）分隔成第一导流腔（111）以及第二导流腔（112）；所述第一导流腔（111）与离子源所处空间相通，所述导流板（22）的底部与所述中空腔（11）底部的腔壁设有间隙（113），所述间隙（113）连通所述第一导流腔（111）和所述第二导流腔（112）。
3.如权利要求2所述的用于等离子体的防扩散污染装置，其特征在于，所述导流板（22）包括一体形成的连接部（221）、内凹部（222）以及外凸部（223），所述连接部（221）与所述盖板（2）的底部连接；所述内凹部（222）朝所述第一导流腔（111）的腔室方向向内凹陷；所述外凸部（223）向所述中空腔（11）底部的腔壁延伸，所述间隙（113）位于所述外凸部（223）与所述中空腔（11）底部的腔壁之间。
4.如权利要求2所述的用于等离子体的防扩散污染装置，其特征在于，所述基座（1）位于所述中空腔（11）抛物面的侧壁上开设有抽吸孔（12），所述抽吸孔（12）的长度方向平行于曲面的切线方向；所述抽吸管（3）固定并穿设所述抽吸孔（12）。
5.如权利要求4所述的用于等离子体的防扩散污染装置，其特征在于，所述抽吸管（3）包括第一管道（31）以及与所述第一管道（31）垂直连接的第二管道（32），所述第一管道（31）穿设所述抽...
【专利技术属性】
技术研发人员：李晓静，朱航，蒋凯，巩书通，张旭，黄思玲，
申请(专利权)人：中国兵器科学研究院宁波分院，
类型：发明
国别省市：
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。