【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及喷洒装置，具体为一种基于芯片加工的抛光剂喷洒装置。
技术介绍
1、芯片加工的抛光剂是一种用于芯片表面抛光的化学材料，在芯片加工过程中，抛光剂主要用于去除芯片表面的杂质和不规则性，以确保芯片的平整度和光洁度，从而提高芯片的性能和可靠性，从而提高芯片的性能和可靠性，芯片抛光剂主要由研磨粒子、添加剂和溶剂组成，研磨粒子通常是一种微细的颗粒，具有一定的硬度和固体表面活性，这些研磨粒子能够在抛光过程中与芯片表面发生摩擦作用，去除表面的杂质和不规则性，添加剂一般包括界面活性剂、缓冲剂和稳定剂等，用于调节抛光剂的粘度、表面张力和稳定性等性质，溶剂则是将研磨粒子和添加剂溶解并稀释成可使用的液体状。
2、芯片抛光剂一般情况下是不可以重复利用，由于抛光剂在使用过程中会与芯片表面发生物理和化学反应，吸附和吸收表面的杂质和污染物，因此，经过一定的使用后，抛光剂的效能会逐渐下降，无法再继续使用，此时，需要将使用过的抛光剂进行处理或更换新的抛光剂，但是这使得芯片抛光的成本急剧增高，同时造成抛光剂的浪费。
3、在芯片加工过程中，芯片抛光剂被喷洒到抛光台上，然后经过研磨后会顺流到抛光台的侧面，这些抛光剂会在抛光台上积累很多缓慢流下，导致抛光台的重量增加，进而影响抛光台的旋转速度，从而可能对研磨芯片的效果产生影响，此外，芯片抛光剂也会飞溅并流下抛光台，进入抛光装置内部，尽管一部分抛光剂会被缓慢地收集起来，但仍有一些杂质会残留并聚集在抛光装置内部，当这些杂质积累过多时，就可能会影响抛光装置的正常运行。
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1、(一)解决的技术问题
2、针对现有技术的不足，本专利技术提供了一种基于芯片加工的抛光剂喷洒装置，解决了上述
技术介绍
中提出的问题。
3、(二)技术方案
4、为实现以上目的，本专利技术通过以下技术方案予以实现：一种基于芯片加工的抛光剂喷洒装置，用于芯片加工时的抛光剂喷洒，所述一种基于芯片加工的抛光剂喷洒装置包括支撑底座，所述支撑底座内部设置有喷洒和收集抛光剂的喷洒机构，所述支撑底座内部设置有过滤抛光剂的过滤组件，所述支撑底座内部设置有添加物质的添加组件；
5、所述喷洒机构，包括设置于所述支撑底座内部用于为芯片加工喷洒抛光剂的喷洒组件，以及设置于所述支撑底座内部用于为快速收集抛光剂的收集组件。
6、更进一步地，所述喷洒组件包括固定连接于支撑底座内部的支撑板，所述支撑板顶部固定连接有倾斜边块，所述倾斜边块内部开设有圆形收集槽，所述支撑底座内部固定连接有抛光剂箱，所述抛光剂箱后部固定连接有进液管，所述支撑底座内部固定连接有抽液泵，所述抛光剂箱与抽液泵固定连接，所述抽液泵顶部固定连接有出液管，所述出液管顶部固定连接有喷液头，所述喷液头底部固定连接有喷液嘴。
7、更进一步地，所述收集组件包括固定连接于支撑底座内部的电机，所述电机的输出轴传动连接有收集传送带，所述支撑底座内部转动连接有转动杆，所述转动杆前部固定连接有动力斜齿轮，所述支撑板底部转动连接有斜齿轮盘，所述动力斜齿轮与斜齿轮盘啮合，所述斜齿轮盘内部固定连接有支撑柱。
8、更进一步地，所述支撑柱外侧固定连接有收集块，所述收集块位于支撑板顶部，所述收集块底部固定连接有收集杆，所述收集杆位于支撑板顶部，所述收集块底部开设有收集孔，所述支撑柱顶部固定连接有研磨台，所述研磨台底部固定连接有集液三角块，所述集液三角块底部固定连接有收集锥。
9、更进一步地，所述过滤组件包括固定连接于支撑板底部的支撑架，所述支撑架外侧滑动连接有纳米过滤网，所述支撑底座内部固定连接有支撑块，所述纳米过滤网与支撑块滑动连接，所述抛光剂箱顶部固定连接有集液盒，所述集液盒与抛光剂箱连通，所述抛光剂箱顶部固定连接有废物箱，所述废物箱顶部固定连接有收集板，所述收集板与纳米过滤网滑动连接，所述支撑板底部固定连接有支撑轨。
10、更进一步地，所述支撑轨外侧套接有滑动圈，所述滑动圈底部固定连接有刮去条，所述刮去条紧贴纳米过滤网顶部，所述滑动圈外侧转动连接有往复杆，所述往复杆底部转动连接有移动盘，所述往复杆与移动盘偏心连接，所述移动盘底部转动连接有固定架，所述固定架与支撑底座固定连接，所述固定架外侧固定连接有从动斜齿轮，所述从动斜齿轮与移动盘固定连接。
11、更进一步地，所述支撑底座内部转动连接有主动斜齿轮，所述从动斜齿轮与主动斜齿轮啮合，所述主动斜齿轮外侧传动连接有往复传动带，所述往复传动带与电机的输出轴传动连接，所述纳米过滤网靠近动力斜齿轮一侧固定连接有滑动方圈，所述滑动方圈内部滑动连接有偏心杆，所述偏心杆远离滑动方圈的一侧与动力斜齿轮固定连接。
12、更进一步地，所述添加组件包括固定连接于支撑底座内部的水箱，所述支撑底座内部固定连接有化学箱，所述支撑底座内部固定连接有复位弹簧，所述复位弹簧远离支撑底座的一侧固定连接有移动板，所述水箱底部固定连接有通水管，所述抛光剂箱顶部开设有通水口，所述通水口位于通水管下方，所述底部滑动连接有移动杆，所述移动杆与抛光剂箱滑动连接，所述移动杆底部固定连接有浮力块，所述浮力块位于抛光剂箱内部，所述移动杆顶部固定连接有封闭块，所述移动板底部固定连接有移动条，所述移动条内部开设有通水孔，所述化学箱底部固定连接有通液管，所述抛光剂箱顶部开设有通液口，所述通液口位于通液管下方，所述移动条内部固定连接有通液孔。
13、(三)有益效果
14、本专利技术所提供的一种基于芯片加工的抛光剂喷洒装置，具备以下有益效果：
15、1、本专利技术通过喷洒机构的使用，抛光剂通过集液三角块流到收集锥外侧，抛光剂在研磨台的侧面会形成一层薄膜，这是由于水分子之间的相互吸引力，即表面张力，水分子会形成一个紧密的结构，这种表面张力使得抛光剂在研磨台的侧面形成了一个几乎连续的薄膜，当抛光剂下落通过收集锥时，由于收集锥为倒圆锥形状，这层薄膜会受到拉伸，而表面张力的作用会使它试图保持连续而不断地流下，使得研磨台外侧的抛光剂会连续迅速流下，达到了加速抛光剂流下的效果，避免了抛光剂会在抛光台上积累导致抛光台的重量增加进而影响抛光台的旋转速度的情况，电机的输出轴带动收集传送带旋转，收集杆旋转刮取支撑板顶部的抛光剂和杂质，抛光剂和杂质通过收集孔向下被收集，达到了去除支撑板顶部的杂质的效果，避免了杂质在抛光装置内部积累过多影响抛光装置的正常运行的情况，同时加速支撑板顶部的抛光剂的流下，加速抛光剂的收集。
16、2、本专利技术通过过滤组件的使用，动力斜齿轮旋转带动偏心杆旋转，纳米过滤网左右往复运动筛动其顶部的抛光剂和杂质，将杂质过滤流到纳米过滤网顶部，达到了过滤杂质的效果，使抛光剂在处理后可以完成重复利用，同时纳米过滤网左右往复运动使抛光剂可以快速下落，达到加速循环抛光剂的作用，电机的输出轴带动往复传动带旋转，刮去条刮除纳米过滤网顶部的杂质，将纳米过滤网顶部的杂质推向废物箱内部，达到了收集杂质的效果，避免杂质在纳米过滤网顶部积累阻挡纳米过滤网顶部的孔洞影响纳米过滤网本文档来自技高网...
【技术保护点】
1.一种基于芯片加工的抛光剂喷洒装置，用于芯片加工时的抛光剂喷洒，所述一种基于芯片加工的抛光剂喷洒装置包括支撑底座(1)，其特征在于：所述支撑底座(1)内部设置有喷洒和收集抛光剂的喷洒机构，所述支撑底座(1)内部设置有过滤抛光剂的过滤组件(3)，所述支撑底座(1)内部设置有添加物质的添加组件(4)；
2.根据权利要求1所述的一种基于芯片加工的抛光剂喷洒装置，其特征在于：所述喷洒组件(21)包括固定连接于支撑底座(1)内部的支撑板(211)，所述支撑板(211)顶部固定连接有倾斜边块(212)，所述倾斜边块(212)内部开设有圆形收集槽，所述支撑底座(1)内部固定连接有抛光剂箱(213)，所述抛光剂箱(213)后部固定连接有进液管(214)，所述支撑底座(1)内部固定连接有抽液泵(215)，所述抛光剂箱(213)与抽液泵(215)固定连接，所述抽液泵(215)顶部固定连接有出液管(216)，所述出液管(216)顶部固定连接有喷液头(217)，所述喷液头(217)底部固定连接有喷液嘴(218)。
3.根据权利要求2所述的一种基于芯片加工的抛光剂喷洒装置，其特征
4.根据权利要求3所述的一种基于芯片加工的抛光剂喷洒装置，其特征在于：所述支撑柱(226)外侧固定连接有收集块(227)，所述收集块(227)位于支撑板(211)顶部，所述收集块(227)底部固定连接有收集杆(228)，所述收集杆(228)位于支撑板(211)顶部，所述收集块(227)底部开设有收集孔，所述支撑柱(226)顶部固定连接有研磨台(229)，所述研磨台(229)底部固定连接有集液三角块(2210)，所述集液三角块(2210)底部固定连接有收集锥(2211)。
5.根据权利要求2所述的一种基于芯片加工的抛光剂喷洒装置，其特征在于：所述过滤组件(3)包括固定连接于支撑板(211)底部的支撑架(32)，所述支撑架(32)外侧滑动连接有纳米过滤网(31)，所述支撑底座(1)内部固定连接有支撑块(33)，所述纳米过滤网(31)与支撑块(33)滑动连接，所述抛光剂箱(213)顶部固定连接有集液盒(34)，所述集液盒(34)与抛光剂箱(213)连通，所述抛光剂箱(213)顶部固定连接有废物箱(35)，所述废物箱(35)顶部固定连接有收集板(36)，所述收集板(36)与纳米过滤网(31)滑动连接，所述支撑板(211)底部固定连接有支撑轨(37)。
6.根据权利要求5所述的一种基于芯片加工的抛光剂喷洒装置，其特征在于：所述支撑轨(37)外侧套接有滑动圈(38)，所述滑动圈(38)底部固定连接有刮去条(39)，所述刮去条(39)紧贴纳米过滤网(31)顶部，所述滑动圈(38)外侧转动连接有往复杆(310)，所述往复杆(310)底部转动连接有移动盘(311)，所述往复杆(310)与移动盘(311)偏心连接，所述移动盘(311)底部转动连接有固定架(312)，所述固定架(312)与支撑底座(1)固定连接，所述固定架(312)外侧固定连接有从动斜齿轮(313)，所述从动斜齿轮(313)与移动盘(311)固定连接。
7.根据权利要求6所述的一种基于芯片加工的抛光剂喷洒装置，其特征在于：所述支撑底座(1)内部转动连接有主动斜齿轮(314)，所述从动斜齿轮(313)与主动斜齿轮(314)啮合，所述主动斜齿轮(314)外侧传动连接有往复传动带(315)，所述往复传动带(315)与电机(221)的输出轴传动连接，所述纳米过滤网(31)靠近动力斜齿轮(224)一侧固定连接有滑动方圈(317)，所述滑动方圈(317)内部滑动连接有偏心杆(316)，所述偏心杆(316)远离滑动方圈(317)的一侧与动力斜齿轮(224)固定连接。
8.根据权利要求2所述的一种基于芯片加工的抛光剂喷洒装置，其特征在于：所述添加组件(4)包括固定连接于支撑底座(1)内部的水箱(41)，所述支撑底座(1)内部固定连接有化学箱(42)，所述支撑底座(1)内部固定连接有复位弹簧(44)，所述复位弹簧(44)远离支撑底座(1)的一侧固定连接有移动板(43)，所述水箱(41)底部固定连接有通水管(45)，所述抛光剂箱(213)顶部开设有通水口，所述通水口位于...
【技术特征摘要】
1.一种基于芯片加工的抛光剂喷洒装置，用于芯片加工时的抛光剂喷洒，所述一种基于芯片加工的抛光剂喷洒装置包括支撑底座(1)，其特征在于：所述支撑底座(1)内部设置有喷洒和收集抛光剂的喷洒机构，所述支撑底座(1)内部设置有过滤抛光剂的过滤组件(3)，所述支撑底座(1)内部设置有添加物质的添加组件(4)；
2.根据权利要求1所述的一种基于芯片加工的抛光剂喷洒装置，其特征在于：所述喷洒组件(21)包括固定连接于支撑底座(1)内部的支撑板(211)，所述支撑板(211)顶部固定连接有倾斜边块(212)，所述倾斜边块(212)内部开设有圆形收集槽，所述支撑底座(1)内部固定连接有抛光剂箱(213)，所述抛光剂箱(213)后部固定连接有进液管(214)，所述支撑底座(1)内部固定连接有抽液泵(215)，所述抛光剂箱(213)与抽液泵(215)固定连接，所述抽液泵(215)顶部固定连接有出液管(216)，所述出液管(216)顶部固定连接有喷液头(217)，所述喷液头(217)底部固定连接有喷液嘴(218)。
3.根据权利要求2所述的一种基于芯片加工的抛光剂喷洒装置，其特征在于：所述收集组件(22)包括固定连接于支撑底座(1)内部的电机(221)，所述电机(221)的输出轴传动连接有收集传送带(222)，所述支撑底座(1)内部转动连接有转动杆(223)，所述转动杆(223)前部固定连接有动力斜齿轮(224)，所述支撑板(211)底部转动连接有斜齿轮盘(225)，所述动力斜齿轮(224)与斜齿轮盘(225)啮合，所述斜齿轮盘(225)内部固定连接有支撑柱(226)。
4.根据权利要求3所述的一种基于芯片加工的抛光剂喷洒装置，其特征在于：所述支撑柱(226)外侧固定连接有收集块(227)，所述收集块(227)位于支撑板(211)顶部，所述收集块(227)底部固定连接有收集杆(228)，所述收集杆(228)位于支撑板(211)顶部，所述收集块(227)底部开设有收集孔，所述支撑柱(226)顶部固定连接有研磨台(229)，所述研磨台(229)底部固定连接有集液三角块(2210)，所述集液三角块(2210)底部固定连接有收集锥(2211)。
5.根据权利要求2所述的一种基于芯片加工的抛光剂喷洒装置，其特征在于：所述过滤组件(3)包括固定连接于支撑板(211)底部的支撑架(32)，所述支撑架(32)外侧滑动连接有纳米过滤网(31)，所述支撑底座(1)内部固定连接有支撑块(33)，所述纳米过滤网(31)与支撑块(33)滑动连接，所述抛光剂箱(213)顶部固定连接有集液盒(34)，所述集液盒(34)与...
【专利技术属性】
技术研发人员：艾育林，吴昊如，王雨静，陆寅鹏，朱锦辉，
申请(专利权)人：江西万年芯微电子有限公司，
类型：发明
国别省市：
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