【技术实现步骤摘要】
本申请涉及半导体光刻，尤其涉及一种光刻机光罩上下料装置。
技术介绍
1、光刻加工技术是指加工制作半导体结构及集成电路微图形结构的关键工艺技术，是微细制造领域应用较早并仍被广泛采用的一类微制造技术。在集成电路制造过程中，会使用大量的光刻工艺以形成次微米或甚至纳米大小的光刻图案，以达到制造高集成度集成电路的目的。
2、现有技术中，通常通过人工对光罩进行转运，但耗费人力资源大，且经常会产生例如“光罩丢失”、光罩放反等风险，影响生产效率。
技术实现思路
1、本申请实施例提供一种光刻机光罩上下料装置，旨在解决提高光刻机光罩上下料生产效率的问题。
2、本申请第一方面的实施例提供了一种光刻机光罩上下料装置，包括：支撑架，支撑架上设置有光罩盒，光罩盒具有用于容纳光罩的容纳腔和与容纳腔连通的第一开口；检测平台，包括主平台及设置于主平台的光电组件，光电组件包括位于主平台在第一方向两侧且相互感应的两个光电模块；转移机构，用于将光罩盒由支撑架转移至检测平台，且令第一开口朝向主平台，以使光电模块能够检测光罩的位置。
3、根据本申请第一方面的实施方式，光电组件的个数为两个以上，两个以上的光电组件沿第二方向间隔设置。
4、根据本申请第一方面的实施方式，光电模块出射的光线到主平台的最大距离小于5mm。
5、根据本申请第一方面的实施方式，主平台还包括沿第二方向相对设置的两个侧边，光电模块出射的光线沿第二方向到侧边的最大距离小于等于5mm。
6、
7、根据本申请第一方面的实施方式，工作区设置有检测机构，光罩设置有结构框，检测机构用于检测结构框的位置信息。
8、根据本申请第一方面的实施方式，检测机构包括安装部和转动部，台面凹陷形成凹槽，安装部设置于凹槽中，转动部相对安装部在第一位置和第二位置之间可转动，
9、其中，在第一位置，转动部凸出于台面设置，在第二位置，转动部位于安装部背离台面的一侧，且转动部和结构框接触配合。
10、根据本申请第一方面的实施方式，安装部在凹槽内沿第四方向可移动设置。
11、根据本申请第一方面的实施方式，台面设置有两个沿第三方向相对设置的第一限位块，第一限位块包括沿第三方向延伸的第一分段和沿第四方向延伸的第二分段，两个第一分段位于两个第二分段之间，第二分段上设置有两个第二光电模块。
12、根据本申请第一方面的实施方式，台面还设置有沿第四方向与两个第一限位块相对设置的第二限位块，第二限位块包括沿第三方向延伸的主体部和位于主体部沿第三方向的两侧的分部，分部沿第四方向延伸且位于主体部朝向第一限位块的一侧，两个第一限位块与第二限位块围合形成放置光罩的工作区。
13、在本申请实施例提供的光刻机光罩上下料装置中，光刻机光罩上下料装置包括：支撑架、检测平台以及转移机构。支撑架用于放置光罩盒，光罩盒具有容纳腔和第一开口。光罩可以通过第一开口放置于容纳腔内，光罩盒用于储存和转移光罩时对光罩进行保护，减少光罩遭受外部微尘粒子及化学污染。检测平台包括主平台及设置于主平台的光电组件，光电组件包括位于主平台在第一方向两侧且相互感应的两个光电模块，两个光电模块出射红外光用于感应光罩底部是否脱落。转移机构用于将光罩盒由支撑架转移至检测平台，且令第一开口朝向主平台，以使光电模块能够检测到光罩底部是否从第一开口脱落。当光罩底部脱落的时候，两个光电模块出射的光线会被光罩底部阻挡，从而感应到光罩底部脱落。本申请实施例提供的光刻机光罩上下料装置，通过位于检测平台的光电组件检测光罩底部是否脱落，无需人工操作，提高光罩检测准确性，实现上下料过程中的自动化从而提高生产效率。
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1.一种光刻机光罩上下料装置，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的光刻机光罩上下料装置，其特征在于，所述光电组件的个数为两个以上，两个以上的所述光电组件沿第二方向间隔设置。
3.根据权利要求1所述的光刻机光罩上下料装置，其特征在于，所述光电模块出射的光线到所述主平台的最大距离小于5mm。
4.根据权利要求1所述的光刻机光罩上下料装置，其特征在于，所述主平台还包括沿第二方向相对设置的两个侧边，所述光电模块出射的光线沿第二方向到所述侧边的最大距离小于等于5mm。
5.根据权利要求1所述的光刻机光罩上下料装置，其特征在于，所述支撑架包括工作区，所述工作区的台面用于放置所述光罩盒，所述支撑架背离所述台面的一侧设置有传感器，所述传感器用于检测所述工作区有无光罩盒。
6.根据权利要求5所述的光刻机光罩上下料装置，其特征在于，所述工作区设置有检测机构，所述光罩设置有结构框，所述检测机构用于检测所述结构框的位置信息。
7.根据权利要求6所述的光刻机光罩上下料装置，其特征在于，所述检测机构包括安装部和转动部，所述台面凹
8.根据权利要求7所述的光刻机光罩上下料装置，其特征在于，所述安装部在所述凹槽内沿第四方向可移动设置。
9.根据权利要求5所述的光刻机光罩上下料装置，其特征在于，所述台面设置有两个沿第三方向相对设置的第一限位块，所述第一限位块包括沿所述第三方向延伸的第一分段和沿第四方向延伸的第二分段，两个所述第一分段位于两个所述第二分段之间，且所述第二分段上设置有两个第二光电模块。
10.根据权利要求9所述的光刻机光罩上下料装置，其特征在于，所述台面还设置有沿所述第四方向与两个所述第一限位块相对设置的第二限位块，所述第二限位块包括沿所述第三方向延伸的主体部和位于所述主体部沿所述第三方向的两侧的分部，所述分部沿所述第四方向延伸且位于所述主体部朝向所述第一限位块的一侧，两个所述第一限位块与所述第二限位块围合形成放置所述光罩的所述工作区。
...【技术特征摘要】
1.一种光刻机光罩上下料装置，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的光刻机光罩上下料装置，其特征在于，所述光电组件的个数为两个以上，两个以上的所述光电组件沿第二方向间隔设置。
3.根据权利要求1所述的光刻机光罩上下料装置，其特征在于，所述光电模块出射的光线到所述主平台的最大距离小于5mm。
4.根据权利要求1所述的光刻机光罩上下料装置，其特征在于，所述主平台还包括沿第二方向相对设置的两个侧边，所述光电模块出射的光线沿第二方向到所述侧边的最大距离小于等于5mm。
5.根据权利要求1所述的光刻机光罩上下料装置，其特征在于，所述支撑架包括工作区，所述工作区的台面用于放置所述光罩盒，所述支撑架背离所述台面的一侧设置有传感器，所述传感器用于检测所述工作区有无光罩盒。
6.根据权利要求5所述的光刻机光罩上下料装置，其特征在于，所述工作区设置有检测机构，所述光罩设置有结构框，所述检测机构用于检测所述结构框的位置信息。
7.根据权利要求6所述的光刻机光罩...
【专利技术属性】
技术研发人员：朱蓉，陆雨，黄文静，曹海燕，
申请(专利权)人：台积电中国有限公司，
类型：新型
国别省市：
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