【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及等离子体照射装置。
技术介绍
1、在专利文献1公开有照射等离子体的等离子体照射装置。等离子体照射装置使用于牙科治疗等手术。在等离子体照射装置中的照射等离子体的部分的周边，容易附着来自于照射对象的飞散物。但是，在专利文献1中，等离子体照射装置中的包括照射等离子体的部分在内的喷嘴能够装卸。因此，即使来自于照射对象的飞散物附着于喷嘴，也能够仅更换喷嘴。
2、现有技术文献
3、专利文献
4、专利文献1：日本特开2020－10770号公报
技术实现思路
1、专利技术要解决的问题
2、但是，在专利文献1的结构中，从等离子体产生部到喷嘴的前端(照射等离子体的部位)的距离容易变长，若该距离变长，则难以从喷嘴的前端(照射等离子体的部位)照射等离子体。
3、本专利技术的目的在于，提供以下技术：能够更换照射等离子体的部位，且容易从等离子体照射装置照射等离子体。
4、用于解决问题的方案
5、〔1〕本专利技术的等离子体照射装置，具有：
6、气体引导路径，其朝向前端部引导气体；和
7、放电部，其在所述气体引导路径内产生等离子体，其中，
8、该等离子体照射装置具备：
9、基部，其作为把持部发挥功能；和
10、装卸部件，其具有所述气体引导路径的所述前端部和所述放电部，以能够相对于所述基部装卸的方式安装于所述基部。
11、上述等离子体照射装置将由放
12、〔2〕也可以是，所述放电部仅由第1电极、第2电极以及包括介于所述第1电极和所述第2电极之间的电介质层的电介质构成，根据向所述第1电极和所述第2电极之间施加电压而在所述气体引导路径内产生等离子体。
13、根据该结构，能够将放电部设为由第1电极、第2电极以及电介质构成的简单的结构。
14、〔3〕也可以是，在所述〔2〕的等离子体照射装置中，所述放电部配置在所述装卸部件的所述前端部侧。
15、若将放电部自装卸部件的气体引导路径的前端部向后端侧分离地配置，则等离子体的能量衰减且等离子体化的气体的量衰减，所以不优选。因此，在上述等离子体照射装置中，放电部配置在装卸部件的气体引导路径的前端部侧。因此，上述等离子体照射装置更加容易从气体引导路径的前端部照射等离子体化的气体。
16、〔4〕也可以是，在所述〔2〕或〔3〕的等离子体照射装置中，所述装卸部件具有覆盖所述放电部的前端面的绝缘性的前端保护部。
17、根据该结构，虽然将放电部配置在装卸部件的气体引导路径的前端部侧，但能够保护放电部的前端面不受来自于照射对象的飞散物的影响，且提高比放电部靠前端侧的绝缘性。
18、〔5〕也可以是，在所述〔2〕或〔3〕的等离子体照射装置中，所述电介质的前端配置在比所述第1电极和所述第2电极都靠所述前端部侧的位置，暴露于所述装卸部件的前端。
19、根据该结构，虽然将放电部配置在装卸部件的气体引导路径的前端部侧，但能够利用电介质确保比第1电极和第2电极靠前端侧的绝缘性。
20、〔6〕也可以是，在所述〔2〕～〔5〕中任一项的等离子体照射装置中，所述放电部呈构成所述气体引导路径的至少一部分的中空状。也可以是，所述装卸部件具有覆盖所述放电部的外周的绝缘性的外周保护部。
21、根据该结构，能够保护放电部的外周，并且提高比放电部靠外周侧的绝缘性。
22、〔7〕也可以是，在所述〔2〕～〔6〕中任一项的等离子体照射装置中，所述气体引导路径具有设于所述基部的第1流路和设于所述装卸部件的第2流路。也可以是，所述等离子体照射装置具有与所述第1电极电连接的第1配线和与所述第2电极电连接的第2配线。也可以是，所述第1配线具有设于所述基部的第1导电路和设于所述装卸部件的第2导电路。也可以是，所述第2配线具有设于所述基部的第3导电路和设于所述装卸部件的第4导电路。也可以是，所述基部具有与所述装卸部件连接的第1连接器部。也可以是，所述装卸部件具有与所述第1连接器部连接的第2连接器部。也可以是，所述第1流路的一端、所述第1导电路的一端以及所述第3导电路的一端分别设于所述第1连接器部。也可以是，所述第2流路的一端、所述第2导电路的一端以及所述第4导电路的一端分别设于所述第2连接器部。也可以是，在所述第1连接器部与所述第2连接器部连接时，成为能够从所述第1流路向所述第2流路供给气体的状态，所述第1导电路与所述第2导电路电连接，所述第3导电路与所述第4导电路电连接。
23、根据该结构，只要第1连接器部与第2连接器部连接，就能成为能够从第1流路向第2流路供给气体的状态，能够构成从基部侧向第1电极和第2电极之间施加电压的电路。
24、〔8〕也可以是，在所述〔1〕～〔7〕中任一项的等离子体照射装置中，所述基部具有使输入电压升压并将升压后的电压施加于所述放电部的升压电路部。
25、根据该结构，与从比基部靠后方的位置供给升压的电力的结构相比较，能够在放电部的附近进行升压，因此，电损耗少。并且，根据该结构，在更换装卸部件时，无需更换升压部。
26、专利技术的效果
27、根据本专利技术，能够更换照射等离子体的部位，且容易从等离子体照射装置照射等离子体。
本文档来自技高网...【技术保护点】
1.一种等离子体照射装置，具有：
2.根据权利要求1所述的等离子体照射装置，其中，
3.根据权利要求2所述的等离子体照射装置，其中，
4.根据权利要求2或3所述的等离子体照射装置，其中，
5.根据权利要求2或3所述的等离子体照射装置，其中，
6.根据权利要求2～5中任一项所述的等离子体照射装置，其中，
7.根据权利要求2～6中任一项所述的等离子体照射装置，其中，
8.根据权利要求1～7中任一项所述的等离子体照射装置，其中，
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】
1.一种等离子体照射装置，具有：
2.根据权利要求1所述的等离子体照射装置，其中，
3.根据权利要求2所述的等离子体照射装置，其中，
4.根据权利要求2或3所述的等离子体照射装置，其中，
5.根据权利要求2或...
【专利技术属性】
技术研发人员：中埜吉博，松元裕次，杉山有美，曽根伸一郎，野又郁实，安部快彦，
申请(专利权)人：日本特殊陶业株式会社，
类型：发明
国别省市：
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