【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本公开涉及激光装置、光路调整方法和电子器件的制造方法。
技术介绍
1、近年来，在半导体曝光装置中，随着半导体集成电路的微细化和高集成化，要求分辨率的提高。因此，从曝光用光源发射的光的短波长化得以发展。例如，作为曝光用的气体激光装置，使用输出波长大约为248nm的激光的krf准分子激光装置、以及输出波长大约为193nm的激光的arf准分子激光装置。
2、krf准分子激光装置和arf准分子激光装置的自然振荡光的谱线宽度较宽，大约为350～400pm。因此，在利用使krf和arf激光这种紫外线透过的材料构成投影透镜时，有时产生色差。其结果，分辨率可能降低。因此，需要将从气体激光装置输出的激光的谱线宽度窄带化到能够无视色差的程度。因此，在气体激光装置的激光谐振器内，为了使谱线宽度窄带化，有时具有包含窄带化元件(标准具、光栅等)的窄带化模块(line narrowing module：lnm)。下面，将谱线宽度被窄带化的气体激光装置称为窄带化气体激光装置。
3、现有技术文献
4、专利文献
5、专利文献1：日本特开昭63-054791号公报
技术实现思路
1、本公开的1个观点的激光装置具有：振荡器，其射出激光；放大器，其在包含一对放电电极的腔内对激光进行放大；前侧光学系统和后侧光学系统，它们被配置于隔着腔对置的位置，构成环形谐振器，该环形谐振器包含在一对放电电极之间交叉的第1光路和第2光路；前侧观察装置，其用于观察前侧光学系统与腔之间的第1光路和
2、在本公开的1个观点的光路调整方法中，该激光装置具有：振荡器，其射出激光；放大器，其在包含一对放电电极的腔内对激光进行放大；前侧光学系统和后侧光学系统，它们被配置于隔着腔对置的位置，构成环形谐振器，该环形谐振器包含在一对放电电极之间交叉的第1光路和第2光路；前侧观察装置，其用于观察前侧光学系统与腔之间的第1光路和第2光路；以及后侧观察装置，其用于观察后侧光学系统与腔之间的第1光路和第2光路，第1光路是前侧光学系统朝向后侧光学系统射出从振荡器入射的激光的光路，第2光路是后侧光学系统朝向前侧光学系统射出经由第1光路入射的激光的光路，其中，该光路调整方法包含以下步骤：使用后侧观察装置观察第1光路和第2光路，由此对后侧光学系统进行调整；使用前侧观察装置观察第1光路和第2光路，由此对后侧光学系统进行调整；以及观察从放大器射出的激光的光路，由此对前侧光学系统进行调整。
3、本公开的1个观点的电子器件的制造方法包含以下步骤：通过激光装置生成激光，将激光输出到曝光装置，在曝光装置内在感光基板上曝光激光，以制造电子器件，该激光装置具有：振荡器，其射出激光；放大器，其在包含一对放电电极的腔内对激光进行放大；前侧光学系统和后侧光学系统，它们被配置于隔着腔对置的位置，构成环形谐振器，该环形谐振器包含在一对放电电极之间交叉的第1光路和第2光路；前侧观察装置，其用于观察前侧光学系统与腔之间的第1光路和第2光路；以及后侧观察装置，其用于观察后侧光学系统与腔之间的第1光路和第2光路，第1光路是前侧光学系统朝向后侧光学系统射出从振荡器入射的激光的光路，第2光路是后侧光学系统朝向前侧光学系统射出经由第1光路入射的激光的光路。
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1.一种激光装置，其具有：
2.根据权利要求1所述的激光装置，其中，
3.根据权利要求2所述的激光装置，其中，
4.根据权利要求3所述的激光装置，其中，
5.根据权利要求2所述的激光装置，其中，
6.根据权利要求3所述的激光装置，其中，
7.根据权利要求1所述的激光装置，其中，
8.根据权利要求7所述的激光装置，其中，
9.根据权利要求8所述的激光装置，其中，
10.根据权利要求1所述的激光装置，其中，
11.根据权利要求10所述的激光装置，其中，
12.根据权利要求1所述的激光装置，其中，
13.根据权利要求1所述的激光装置，其中，
14.根据权利要求13所述的激光装置，其中，
15.根据权利要求14所述的激光装置，其中，
16.根据权利要求1所述的激光装置，其中，
17.根据权利要求1所述的激光装置，其中，
18.一种激光装置的光路调整方法，所述激光装置具有：
1
20.一种电子器件的制造方法，其包含以下步骤：
...【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】
1.一种激光装置，其具有：
2.根据权利要求1所述的激光装置，其中，
3.根据权利要求2所述的激光装置，其中，
4.根据权利要求3所述的激光装置，其中，
5.根据权利要求2所述的激光装置，其中，
6.根据权利要求3所述的激光装置，其中，
7.根据权利要求1所述的激光装置，其中，
8.根据权利要求7所述的激光装置，其中，
9.根据权利要求8所述的激光装置，其中，
10.根据权利要求1所述的激光装置，其中，
11.根据权利要求10...
【专利技术属性】
技术研发人员：渊向笃，铃木徹，
申请(专利权)人：极光先进雷射株式会社，
类型：发明
国别省市：
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