【技术实现步骤摘要】
本技术涉及原子沉积，尤其涉及一种支撑机构及双层真空炉。
技术介绍
1、利用原子层沉积真空镀膜技术，可以将物质以单原子膜的形式一层一层的镀在基体表面上，以获得厚度、组分、形貌及结构在纳米尺度上高度可控的薄膜。其反应过程为，首先由真空系统负责将内腔抽空提供真空环境，外腔周围布置加热丝提供反应所需的高温，通过特气引入管将三甲基铝和氧源分别通入内腔，反应后沉积在硅片表面，达到镀膜的目的，由于硅片放置在内腔中的铝舟上，为保证镀膜质量，需要对内腔进行平行度调整，以使得铝舟上的硅片处于平行状态。
2、现有内腔固定方式普遍为将内腔连接在外腔底板上的架板上，对内腔的平行度调整时需要对架板进行平行度调整，在对板架调节前需要将内腔从板架上拆卸下来，拆卸内腔以及调节架板过程均较为繁琐，导致使得内腔的平行度调整时间长，且难度大。
3、为此，亟需研究一种支撑机构及双层真空炉，以解决上述问题。
技术实现思路
1、本技术的目的在于提供一种支撑机构及双层真空炉，以解决现有技术中内腔的平行度调整时间长，且难度大的问题。
2、为达上述目的，本技术采用以下技术方案：
3、一种支撑机构，包括：
4、安装座，所述安装座设有至少三个，所述安装座的一端用于连接第一腔体的底壁；
5、支柱，所述支柱设有至少三个，所述支柱和所述安装座二者中，一个设有插接柱，另一个设有插接孔，各所述支柱与对应的所述安装座通过所述插接柱和插接孔插接配合且能相对转动；
6、
7、在一些实施例中，所述安装座和所述支柱各至少具有四个，所述支撑件包括至少两个支撑杆，各支撑杆间隔设置以形成支撑面，各所述支撑杆分别放置于对应的至少两个所述支柱上，所述支撑杆用于支撑所述第二腔体。
8、在一些实施例中，所述支柱远离所述安装座的一端设有开口远离所述第一腔体的底壁的第一容置槽，所述支撑杆穿设于所述第一容置槽中。
9、在一些实施例中，所述支撑杆与所述第一容置槽通过销钉固接，所述销钉的轴线方向垂直于所述第一腔体的长度方向。
10、在一些实施例中，所述支撑机构包括至少两个支撑梁，所述支撑梁的长度方向与所述支撑杆的长度方向垂直，各所述支撑梁沿所述支撑杆的长度方向间隔设置于所述支撑杆上，且横跨所有的所述支撑杆，各所述支撑梁均用于与所述第二腔体的底部连接。
11、在一些实施例中，所述支撑梁具有第二容置槽，所述第二容置槽的开口朝向所述第一腔体的底壁，所述支撑杆穿设于所述第二容置槽中。
12、在一些实施例中，包括所述第一腔体、第二腔体和权利要求-任一项所述的支撑机构。
13、在一些实施例中，所述第一腔体的第一开口处设有第一连接部；所述第二腔体放置于所述第一腔体内部，所述第二腔体的第二开口处设有第二连接部；所述双层真空炉还包括锁紧件，所述第一连接部和所述第二连接部通过所述锁紧件锁紧连接以使所述第一腔体和所述第二腔体锁定。
14、在一些实施例中，所述第一连接部包括设于所述第一腔体于第一开口处的固定挡板；所述第二连接部包括设于所述第二腔体于所述第二开口处向外延伸的翻边，所述第二腔体位于所述第一腔体内的状态下，所述翻边抵接于所述固定挡板，所述锁紧件锁接所述翻边与所述固定挡板。
15、在一些实施例中，所述翻边设有固定孔，所述固定挡板设有螺纹孔，所述锁紧件包括螺钉，所述螺钉穿过所述固定孔并螺接于所述螺纹孔中；和/或
16、所述第二连接部包括门前框，所述门前框设于所述第二腔体的所述第二开口处，所述翻边位于所述门前框的外沿。
17、本技术的有益效果为：
18、本技术提供一种支撑机构和双层真空炉，该支撑机构包括安装座、支柱和支撑件，安装座设有至少三个，且不共线，安装座的一端用于连接第一腔体的底壁；支柱设有至少三个，支柱和安装座二者中，一个设有插接柱，另一个设有插接孔，各支柱与对应的安装座通过插接柱和插接孔插接配合且能相对转动；支撑件连接于支柱的另一端，支撑件的另一端用于支撑第二腔体，安装座通过支柱和支撑件至少限制第二腔体在宽度方向的自由度。上述设置使得在调节内腔平行度时，只需要调整安装座的相对位置，即可调整支柱的相对位置，且通过支柱和安装座之间的相对转动，保证支柱和支撑件之间的连接，安装座通过支柱和支撑件限制第二箱体在宽度方向的自由度，从而将第二腔体直接放置于支撑件上即可完成第二腔体相对第一腔体在宽度方向的限位，实现第二腔体的平行度的调节。上述调节方法简单，且便于操作，解决了第二腔体的平行度调整时间长，且难度大的问题。
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1.一种支撑机构，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的支撑机构，其特征在于，所述安装座(420)和所述支柱(430)各至少具有四个，所述支撑件(410)包括至少两个支撑杆，各支撑杆间隔设置以形成支撑面，各所述支撑杆分别放置于对应的至少两个所述支柱(430)上，所述支撑杆用于支撑所述第二腔体(200)。
3.根据权利要求2所述的支撑机构，其特征在于，所述支柱(430)远离所述安装座(420)的一端设有开口远离所述第一腔体(100)的底壁的第一容置槽(432)，所述支撑杆穿设于所述第一容置槽(432)中。
4.根据权利要求3所述的支撑机构，其特征在于，所述支撑杆与所述第一容置槽(432)通过销钉固接，所述销钉的轴线方向垂直于所述第一腔体(100)的长度方向。
5.根据权利要求2所述的支撑机构，其特征在于，所述支撑机构包括至少两个支撑梁(230)，所述支撑梁(230)的长度方向与所述支撑杆的长度方向垂直，各所述支撑梁(230)沿所述支撑杆的长度方向间隔设置于所述支撑杆上，且横跨所有的所述支撑杆，各所述支撑梁(230)均用于与所述第
6.根据权利要求5所述的支撑机构，其特征在于，所述支撑梁(230)具有第二容置槽(231)，所述第二容置槽(231)的开口朝向所述第一腔体(100)的底壁，所述支撑杆穿设于所述第二容置槽(231)中。
7.双层真空炉，其特征在于，包括所述第一腔体(100)、第二腔体(200)和权利要求1-6任一项所述的支撑机构。
8.根据权利要求7所述的双层真空炉，其特征在于，所述第一腔体(100)的第一开口处设有第一连接部(110)；所述第二腔体(200)放置于所述第一腔体(100)内部，所述第二腔体(200)的第二开口处设有第二连接部(220)；所述双层真空炉还包括锁紧件(300)，所述第一连接部(110)和所述第二连接部(220)通过所述锁紧件(300)锁紧连接以使所述第一腔体(100)和所述第二腔体(200)锁定。
9.根据权利要求8所述的双层真空炉，其特征在于，所述第一连接部(110)包括设于所述第一腔体(100)于第一开口处的固定挡板；所述第二连接部(220)包括设于所述第二腔体(200)于所述第二开口处向外延伸的翻边(221)，所述第二腔体(200)位于所述第一腔体(100)内的状态下，所述翻边(221)抵接于所述固定挡板，所述锁紧件(300)锁接所述翻边(221)与所述固定挡板。
10.根据权利要求9所述的双层真空炉，其特征在于，所述翻边(221)设有固定孔，所述固定挡板设有螺纹孔，所述锁紧件(300)包括螺钉，所述螺钉穿过所述固定孔并螺接于所述螺纹孔中；和/或
...【技术特征摘要】
1.一种支撑机构，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的支撑机构，其特征在于，所述安装座(420)和所述支柱(430)各至少具有四个，所述支撑件(410)包括至少两个支撑杆，各支撑杆间隔设置以形成支撑面，各所述支撑杆分别放置于对应的至少两个所述支柱(430)上，所述支撑杆用于支撑所述第二腔体(200)。
3.根据权利要求2所述的支撑机构，其特征在于，所述支柱(430)远离所述安装座(420)的一端设有开口远离所述第一腔体(100)的底壁的第一容置槽(432)，所述支撑杆穿设于所述第一容置槽(432)中。
4.根据权利要求3所述的支撑机构，其特征在于，所述支撑杆与所述第一容置槽(432)通过销钉固接，所述销钉的轴线方向垂直于所述第一腔体(100)的长度方向。
5.根据权利要求2所述的支撑机构，其特征在于，所述支撑机构包括至少两个支撑梁(230)，所述支撑梁(230)的长度方向与所述支撑杆的长度方向垂直，各所述支撑梁(230)沿所述支撑杆的长度方向间隔设置于所述支撑杆上，且横跨所有的所述支撑杆，各所述支撑梁(230)均用于与所述第二腔体(200)的底部连接。
6.根据权利要求5所述的支撑机构，其特征在于，所述支撑梁(230)具有第二容置槽(231)，所述第二容置槽(231)的开口朝向所述第一腔体(100)...
【专利技术属性】
技术研发人员：王树林，李鹏飞，仇大为，袁运辉，王富光，
申请(专利权)人：浙江晶盛光子科技有限公司，
类型：新型
国别省市：
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