【技术实现步骤摘要】
本技术涉及效应管拉晶，尤其涉及一种上料稳定的效应管拉晶装置。
技术介绍
1、效应管是一种由金属、氧化物和半导体构成的效应晶体管，是一种半导体器件，这个器件有两个电极，一个是金属，另一个则是外在硅，硅是一种半导体材料，其中单晶硅是大多数半导体元器件的基底材料，现在的绝大多数的单晶硅都是利用拉晶炉通过直拉法制成的，它们之间由一层薄薄的二氧化硅分隔开，这其中半导体材料是必不可缺的，而拉晶是指在制造晶棒时，将其内部的分子结构进行排列的过程就是拉晶，原料放置在拉晶管中，拉晶时拉晶管处在均衡环境中有利于晶棒里面分子整齐的排列，而在拉晶时，其主要通过将其拉晶管置于拉晶炉中，并通过拉晶炉中提供一定的温度，使得拉晶管中形成柱形的晶棒，并用于后续的晶棒切割形成晶粒，场效应管能在很小电流和很低电压的条件下工作，而且它的制造工艺可以很方便地把很多场效应管集成在一块硅片上，因此场效应管在大规模集成电路中得到了广泛的应用，然而大多数效应管拉晶装置，更多是在装置内进行效应管上料操作，易使装置内产生杂质，污染装置内部环境，影响后续拉晶作业效果。
技术实现思路
1、为了克服大多数效应管拉晶装置，在拉晶作业前，更多是在装置内进行效应管上料操作，易使装置内产生杂质，污染装置内部环境，影响后续拉晶作业效果的问题。
2、本技术的技术方案为：一种上料稳定的效应管拉晶装置，包括有拉晶组件、调节组件、密封组件、导流组件、第一上料组件和第二上料组件；拉晶组件一侧设置有调节组件，调节组件一侧设置有密封组件，密封组件一侧设
3、优选的，通过拉晶组件进行效应管拉晶作业，利用调节组件调节装置闭合状态，通过密封组件使装置封闭，确保装置有效加工作业，利用导流组件注入氩气，避免杂质影响拉晶作业，通过第一上料组件移动第二上料组件，利用第二上料组件稳定放置效应管，从而实现降低杂质进入装置内部的可能，确保拉晶作业有效进行的效果，增强装置实用价值。
4、作为优选，拉晶组件包括有底座和单晶坩埚；底座一侧设置有单晶坩埚；通过底座固定支撑装置其他各组件，保障装置稳定运行，利用单晶坩埚进行拉晶作业，从而实现稳定拉晶作业的效果。
5、作为优选，调节组件包括有第一液压杆、第一外壳和排气管道；底座一侧设置有第一液压杆，第一液压杆设置有两组，第一液压杆一端设置有第一外壳，第一外壳一侧设置有排气管道；伸缩第一液压杆调节第一外壳高度，利用第一外壳灵活封闭、打开装置，通过排气管道将注入装置内的氩气排出。
6、作为优选，密封组件包括有第一凸块、第二液压杆和第二外壳；第一外壳外侧设置有第一凸块，第一凸块一侧设置有第二液压杆，第二液压杆外侧设置有第二外壳；通过第一凸块固定连接第二液压杆，伸缩第二液压杆调整第二外壳位置，从而实现完全封闭装置的效果。
7、作为优选，导流组件包括有注气管道和注气喷头；第一外壳一侧设置有注气管道，注气管道设置有两组，注气管道一侧设置有注气喷头，注气喷头设置有多组；通过注气管道输入氩气，利用注气喷头将氩气注入装置内，从而实现保护效应管有效进行拉晶作业的效果。
8、作为优选，第一上料组件包括有第三液压杆、第一板块、第一凹槽、丝杆和电机；第一外壳内侧设置有第三液压杆，第三液压杆设置有两组，第三液压杆一端设置有第一板块，第一板块底面开设有第一凹槽，第一凹槽内侧设置有丝杆，丝杆一端设置有电机，电机输出端与丝杆相互连接；伸缩第三液压杆调节第一板块高度，利用第一板块固定第一凹槽位置，通过第一凹槽明确丝杆长度，通过控制电机使丝杆转动，转动丝杆带动效应管水平移动，从而实现便捷拿取、放置效应管的效果。
9、作为优选，第二上料组件包括有第一连接杆、第二板块、第二凹槽和网格挡板；丝杆外侧设置有第一连接杆，第一连接杆一侧设置有第二板块，第二板块一侧开设有第二凹槽，第二凹槽开设有多组，第一连接杆一端设置有网格挡板；通过第一连接杆连接固定第二板块，通过第二板块固定第二凹槽位置，通过第二凹槽将效应管稳定放置在第二板块，利用网格挡板支撑效应管。
10、本技术的有益效果：
11、1、相较于传统的效应管拉晶装置，大多利用夹具夹取效应管，效应管上料操作更多是在装置内进行，易使装置内产生杂质，污染装置内部环境，影响后续拉晶作业效果，通过在装置外进行效应管上料操作的方式，降低杂质进入装置内部的可能，确保拉晶作业有效进行，使装置设计更加人性化，增强装置实用价值；
12、2、在进行效应管上料操作时，伸缩第三液压杆调节第一板块高度，利用第一板块固定第一凹槽位置，通过第一凹槽明确丝杆长度，通过控制电机使丝杆转动，转动丝杆带动第一连接杆水平移动，通过第一连接杆连接固定第二板块，通过第二板块固定第二凹槽位置，通过第二凹槽将效应管稳定放置在第二板块，利用网格挡板支撑效应管，以解决大多数效应管拉晶装置，更多是在装置内进行效应管上料操作，易使装置内产生杂质，污染装置内部环境的问题，保障装置后续拉晶作业效果；
13、3、通过底座固定支撑装置其他各组件，保障装置稳定运行，利用单晶坩埚进行拉晶作业，伸缩第一液压杆调节第一外壳高度，利用第一外壳灵活封闭、打开装置，通过排气管道将注入装置内的氩气排出，通过第一凸块固定连接第二液压杆，伸缩第二液压杆调整第二外壳位置，从而实现完全封闭装置的效果，通过注气管道输入氩气，利用注气喷头将氩气注入装置内，从而实现保护效应管有效进行拉晶作业的效果。
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1.一种上料稳定的效应管拉晶装置，包括有拉晶组件(1)；其特征在于：还包括有调节组件(2)、密封组件(3)、导流组件(4)、第一上料组件(5)和第二上料组件(6)；拉晶组件(1)一侧设置有调节组件(2)，调节组件(2)一侧设置有密封组件(3)，密封组件(3)一侧设置有导流组件(4)，导流组件(4)一侧设置有第一上料组件(5)，第一上料组件(5)底面设置有第二上料组件(6)。
2.根据权利要求1所述的一种上料稳定的效应管拉晶装置，其特征在于：拉晶组件(1)包括有底座(101)和单晶坩埚(102)；底座(101)一侧设置有单晶坩埚(102)。
3.根据权利要求2所述的一种上料稳定的效应管拉晶装置，其特征在于：调节组件(2)包括有第一液压杆(201)、第一外壳(202)和排气管道(203)；底座(101)一侧设置有第一液压杆(201)，第一液压杆(201)设置有两组，第一液压杆(201)一端设置有第一外壳(202)，第一外壳(202)一侧设置有排气管道(203)。
4.根据权利要求3所述的一种上料稳定的效应管拉晶装置，其特征在于：密封组件(3)包括有
5.根据权利要求3所述的一种上料稳定的效应管拉晶装置，其特征在于：导流组件(4)包括有注气管道(401)和注气喷头(402)；第一外壳(202)一侧设置有注气管道(401)，注气管道(401)设置有两组，注气管道(401)一侧设置有注气喷头(402)，注气喷头(402)设置有多组。
6.根据权利要求3所述的一种上料稳定的效应管拉晶装置，其特征在于：第一上料组件(5)包括有第三液压杆(501)、第一板块(502)、第一凹槽(503)、丝杆(504)和电机(505)；第一外壳(202)内侧设置有第三液压杆(501)，第三液压杆(501)设置有两组，第三液压杆(501)一端设置有第一板块(502)，第一板块(502)底面开设有第一凹槽(503)，第一凹槽(503)内侧设置有丝杆(504)，丝杆(504)一端设置有电机(505)，电机(505)输出端与丝杆(504)相互连接。
7.根据权利要求6所述的一种上料稳定的效应管拉晶装置，其特征在于：第二上料组件(6)包括有第一连接杆(601)、第二板块(602)、第二凹槽(603)和网格挡板(604)；丝杆(504)外侧设置有第一连接杆(601)，第一连接杆(601)一侧设置有第二板块(602)，第二板块(602)一侧开设有第二凹槽(603)，第二凹槽(603)开设有多组，第一连接杆(601)一端设置有网格挡板(604)。
...【技术特征摘要】
1.一种上料稳定的效应管拉晶装置，包括有拉晶组件(1)；其特征在于：还包括有调节组件(2)、密封组件(3)、导流组件(4)、第一上料组件(5)和第二上料组件(6)；拉晶组件(1)一侧设置有调节组件(2)，调节组件(2)一侧设置有密封组件(3)，密封组件(3)一侧设置有导流组件(4)，导流组件(4)一侧设置有第一上料组件(5)，第一上料组件(5)底面设置有第二上料组件(6)。
2.根据权利要求1所述的一种上料稳定的效应管拉晶装置，其特征在于：拉晶组件(1)包括有底座(101)和单晶坩埚(102)；底座(101)一侧设置有单晶坩埚(102)。
3.根据权利要求2所述的一种上料稳定的效应管拉晶装置，其特征在于：调节组件(2)包括有第一液压杆(201)、第一外壳(202)和排气管道(203)；底座(101)一侧设置有第一液压杆(201)，第一液压杆(201)设置有两组，第一液压杆(201)一端设置有第一外壳(202)，第一外壳(202)一侧设置有排气管道(203)。
4.根据权利要求3所述的一种上料稳定的效应管拉晶装置，其特征在于：密封组件(3)包括有第一凸块(301)、第二液压杆(302)和第二外壳(303)；第一外壳(202)外侧设置有第一凸块(301)，第一凸块(301)一侧设置有第二液压杆(302)，第二液压杆(302)外侧设置有第二外壳(303)。
【专利技术属性】
技术研发人员：陈建泽，
申请(专利权)人：深圳市远大金宁电子有限公司，
类型：新型
国别省市：
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