【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及磁检测，尤其涉及一种检测系统。
技术介绍
1、qdm成像(quantum diamond microscope)是一种生物成像技术，利用磁珠(impeticbead)进行标记并贴合nv色心(钻石中的氮-空位(nv)色心发光缺陷可以被微波场和静磁场引发电子自旋共振，其可通过激光读出)，检测被测样品周围的磁场或微波场分布，可实现定量无损的微观磁场成像，具有空间分辨率高、视野范围大、可探测磁场动态范围大、成像速度快等特点进行成像。
2、在实际检测过程中，需要使金刚石的nv色心与样品孔腔鼓起的薄膜进行贴合，以进行检测，然而，检测时对金刚石与薄膜的平行度要求较高，否则容易造成过度贴合导致薄膜破碎，严重影响检测的进行。
技术实现思路
1、本专利技术旨在至少解决现有技术中存在的技术问题之一。为此，本专利技术的一个目的在于提出一种检测系统，该检测系统在检测过程中能够自动使承载膜与金刚石的表面平行，有利于检测的顺利进行。
2、根据本专利技术的检测系统包括：基板，所述基板具有样品孔，自适应调平结构，所述自适应调平结构设于所述基板且具有与所述样品孔对应的通孔；承载膜，所述承载膜设于所述自适应调平结构远离所述基板的一侧且遮挡所述通孔；第一检测台和探头组件，所述第一检测台限定出与所述样品孔连通的腔室，所述探头组件包括基座、金刚石和接触件，所述金刚石、所述接触件均设于所述基座；所述腔室用于通入气体以使所述承载膜的至少部分朝向所述金刚石鼓起；所述基座能够朝向所述承载膜移动以
3、根据本专利技术的检测系统，通过设置自适应调平结构，在检测过程中能够自动使承载膜与金刚石的表面平行，可以降低承载膜破碎的概率，而且可以使金刚石与承载膜的贴合面积更大，能够增加检测视野，从而有利于检测的顺利进行。
4、在本专利技术的一些示例中，所述自适应调平结构包括：弹性结构和膜框架基体，所述弹性结构连接在所述膜框架基体和所述基板之间，所述承载膜设于所述膜框架基体远离弹性结构的一侧，所述接触件能够向所述弹性结构施加作用力以使所述弹性结构弹性形变，以使所述膜框架基体与所述金刚石的表面平行，以使所述承载膜与所述金刚石的表面平行。
5、在本专利技术的一些示例中，所述弹性结构具有第一子通孔，所述膜框架基体具有与所述第一子通孔对应的第二子通孔，所述第一子通孔与所述第二子通孔共同构成所述通孔。
6、在本专利技术的一些示例中，所述接触件的数量为多个，多个所述接触件均匀围绕所述金刚石布置。
7、在本专利技术的一些示例中，多个所述接触件远离所述基座的表面共面，且多个所述接触件远离所述基座的表面与所述金刚石远离基座的表面平行。
8、在本专利技术的一些示例中，所述弹性结构被构造为位于所述金刚石其中一侧的接触件向所述弹性结构施加作用力的过程中，所述弹性结构受力一侧朝向所述基板凹陷，所述弹性结构的另一侧朝向远离所述基板方向凸出，以使所述膜框架基体与所述金刚石的表面平行。
9、在本专利技术的一些示例中，所述弹性结构的弹性模量小于承载膜的弹性模量，以使弹性结构受力变形的弹性形变量大于所述承载膜受所述金刚石挤压的弹性形变量。
10、在本专利技术的一些示例中，所述承载膜的工作气压为p1,所述弹性结构的塑性形变极限气压为p2，满足关系式：p2＞p1。
11、在本专利技术的一些示例中，在所述承载膜的工作气压下，所述弹性结构的弹性形变量大于所述基座的预设移动行程。
12、在本专利技术的一些示例中，所述承载膜被构造为无机物薄膜。
13、在本专利技术的一些示例中，所述承载膜为氮化硅薄膜或二氧化硅薄膜或单晶硅薄膜或碳化硅薄膜。
14、在本专利技术的一些示例中，所述弹性结构被构造为有机弹性薄膜。
15、在本专利技术的一些示例中，所述弹性结构被构造为pdms薄膜或cop薄膜。
16、在本专利技术的一些示例中，所述接触件远离所述基座的表面与所述基座的距离为a，所述金刚石远离所述基座的表面与所述基座的距离为b，满足关系式：a＞b。
17、在本专利技术的一些示例中，所述检测系统还包括：透明膜基体，所述透明膜基体设于所述自适应调平结构远离所述基板的一侧，所述透明膜基体中部开设有容置孔，所述容置孔中设置有膜支撑网，所述膜支撑网的底部涂覆有所述承载膜。
18、本专利技术的附加方面和优点将在下面的描述中部分给出，部分将从下面的描述中变得明显，或通过本专利技术的实践了解到。
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1.一种检测系统，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的检测系统，其特征在于，所述自适应调平结构包括：弹性结构和膜框架基体，所述弹性结构连接在所述膜框架基体和所述基板之间，所述承载膜设于所述膜框架基体远离弹性结构的一侧，所述接触件能够向所述弹性结构施加作用力以使所述弹性结构弹性形变，以使所述膜框架基体与所述金刚石的表面平行，以使所述承载膜与所述金刚石的表面平行。
3.根据权利要求2所述的检测系统，其特征在于，所述弹性结构具有第一子通孔，所述膜框架基体具有与所述第一子通孔对应的第二子通孔，所述第一子通孔与所述第二子通孔共同构成所述通孔。
4.根据权利要求2所述的检测系统，其特征在于，所述接触件的数量为多个，多个所述接触件均匀围绕所述金刚石布置。
5.根据权利要求4所述的检测系统，其特征在于，多个所述接触件远离所述基座的表面共面，且多个所述接触件远离所述基座的表面与所述金刚石远离基座的表面平行。
6.根据权利要求4所述的检测系统，其特征在于，所述弹性结构被构造为位于所述金刚石其中一侧的接触件向所述弹性结构施加作用力的过
7.根据权利要求2所述的检测系统，其特征在于，所述弹性结构的弹性模量小于承载膜的弹性模量，以使弹性结构受力变形的弹性形变量大于所述承载膜受所述金刚石挤压的弹性形变量。
8.根据权利要求2所述的检测系统，其特征在于，所述承载膜的工作气压为P1,所述弹性结构的塑性形变极限气压为P2，满足关系式：P2＞P1。
9.根据权利要求2所述的检测系统，其特征在于，在所述承载膜的工作气压下，所述弹性结构的弹性形变量大于所述基座的预设移动行程。
10.根据权利要求1所述的检测系统，其特征在于，所述承载膜被构造为无机物薄膜。
11.根据权利要求10所述的检测系统，其特征在于，所述承载膜为氮化硅薄膜或二氧化硅薄膜或单晶硅薄膜或碳化硅薄膜。
12.根据权利要求2所述的检测系统，其特征在于，所述弹性结构被构造为有机弹性薄膜。
13.根据权利要求12所述的检测系统，其特征在于，所述弹性结构被构造为PDMS薄膜或COP薄膜。
14.根据权利要求1所述的检测系统，其特征在于，所述接触件远离所述基座的表面与所述基座的距离为A，所述金刚石远离所述基座的表面与所述基座的距离为B，满足关系式：A＞B。
15.根据权利要求1所述的检测系统，其特征在于，还包括：透明膜基体，所述透明膜基体设于所述自适应调平结构远离所述基板的一侧，所述透明膜基体中部开设有容置孔，所述容置孔中设置有膜支撑网，所述膜支撑网的底部涂覆有所述承载膜。
...【技术特征摘要】
1.一种检测系统，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的检测系统，其特征在于，所述自适应调平结构包括：弹性结构和膜框架基体，所述弹性结构连接在所述膜框架基体和所述基板之间，所述承载膜设于所述膜框架基体远离弹性结构的一侧，所述接触件能够向所述弹性结构施加作用力以使所述弹性结构弹性形变，以使所述膜框架基体与所述金刚石的表面平行，以使所述承载膜与所述金刚石的表面平行。
3.根据权利要求2所述的检测系统，其特征在于，所述弹性结构具有第一子通孔，所述膜框架基体具有与所述第一子通孔对应的第二子通孔，所述第一子通孔与所述第二子通孔共同构成所述通孔。
4.根据权利要求2所述的检测系统，其特征在于，所述接触件的数量为多个，多个所述接触件均匀围绕所述金刚石布置。
5.根据权利要求4所述的检测系统，其特征在于，多个所述接触件远离所述基座的表面共面，且多个所述接触件远离所述基座的表面与所述金刚石远离基座的表面平行。
6.根据权利要求4所述的检测系统，其特征在于，所述弹性结构被构造为位于所述金刚石其中一侧的接触件向所述弹性结构施加作用力的过程中，所述弹性结构受力一侧朝向所述基板凹陷，所述弹性结构的另一侧朝向远离所述基板方向凸出，以使所述膜框架基体与所述金刚石的表面平行。
7.根据权利要求2所述的检测系统，其特征在于，所述弹性结构的弹性模量小于承载膜...
【专利技术属性】
技术研发人员：沈锐，许克标，贺羽，
申请(专利权)人：国仪量子技术合肥股份有限公司，
类型：发明
国别省市：
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