【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及气体扩散板扩孔，具体是一种cvd气体扩散板扩孔工艺。
技术介绍
1、化学气相沉积(cvd)是指化学气体或蒸汽在基质表面反应合成涂层或纳米材料的方法，是半导体工业中应用最为广泛的用来沉积多种材料的技术，包括大范围的绝缘材料，大多数金属材料和金属合金材料，从理论上来说，它是很简单的：两种或两种以上的气态原材料导入到一个反应室内，然后他们相互之间发生化学反应，形成一种新的材料，沉积到晶片表面上，化学气相淀积工艺常用于制造导电薄膜(如多晶硅、非晶硅)或绝缘薄膜(如氧化硅、氮化硅和磷硅玻璃等)，这些薄膜经过光刻和腐蚀，可形成各种电路图案，与其他工艺相配合即可构成集成电路，气体扩散板是制作lcd显示面板用到的cvd(化学气相沉积)设备内的一个关键部件，用于将cvd过程中所需要的气体均匀地导入到于腔体中。
2、在对扩散板进行扩孔时，需要将扩散板固定在操作台上，防止扩散板在扩孔过程中发生移动，对扩孔的效果造成影响，但是，在进行扩孔时，钻头容易与孔洞处发生偏差，则需要解除对扩散板的固定，之后调节扩散板的位置，再对扩散板进行固定，操作较为复杂，为了达到方便对扩散板的位置进行调节的目的，因此提供了一种cvd气体扩散板扩孔工艺。
技术实现思路
1、本专利技术的目的在于：为了达到方便对扩散板的位置进行调节的目的，提供一种cvd气体扩散板扩孔工艺。
2、为实现上述目的，本专利技术提供如下技术方案：一种cvd气体扩散板扩孔工艺，具体步骤如下：
3、步骤一：将扩散
4、步骤二：通过调节机构对钻孔位置进行微调，使得钻孔与钻头对准；
5、步骤三：通过扩孔装置对扩散板进行扩孔操作。
6、作为本专利技术再进一步的方案：所述步骤三所采用的扩孔装置包括有活动座，所述活动座位于所述底座的上方，所述活动座的外壁安装有液压缸，所述液压缸的输出端连接有活动架，所述钻头安装于所述活动架上，所述活动架的外壁安装有驱动所述钻头进行转动的电机，扩散板通过夹持机构进行固定操作，扩散板通过扩孔机构进行扩孔操作。
7、作为本专利技术再进一步的方案：所述夹持机构包括有操作台，所述操作台，所述操作台滑动连接于所述底座的顶端，所述操作台的内部滑动连接有位移板，所述位移板的顶端对称固定连接有夹板，所述夹板延伸至所述操作台的上方，所述操作台的内部固定连接有贯穿于所述位移板的限位柱，所述操作台的内部转动连接有贯穿于所述位移板的第一丝杆，所述第一丝杆的顶端位于所述操作台的顶端固定连接有棘轮，所述棘轮的一侧设置有卡块，所述卡块与所述操作台通过连接轴转动连接，所述卡块与所述操作台之间位于所述连接轴的外壁连接有扭簧。
8、作为本专利技术再进一步的方案：所述调节机构包括有滑槽，所述滑槽开设于所述底座的顶端，所述滑槽供所述操作台进行滑动，所述底座的顶端位于所述滑槽的两侧固定连接有安装架，所述活动座滑动连接于所述安装架的外壁，所述底座的内部位于所述操作台的一侧滑动连接有定位块，所述底座的外壁转动连接有转动块，所述转动块的一端固定连接有延伸进入所述定位块内部的第二丝杆，所述定位块的顶端固定连接有延伸进入所述安装架内部的推动架，所述安装架的内部位于所述推动架的一端滑动连接有齿板，所述齿板延伸至所述安装架的顶端，所述活动座的外壁开设有供所述安装架进行滑动的连接槽，所述连接槽的顶端开设有供所述齿板移动进入的凹槽，所述凹槽的顶端固定连接有齿块。
9、作为本专利技术再进一步的方案：所述扩孔机构包括有连接块，所述连接块转动连接于所述活动架的底端，所述电机驱动所述连接块进行转动，钻头固定连接于所述连接块的底端，所述活动架的底端位于所述连接块的一侧固定连接有固定块，所述连接块的底端开设有安装孔，所述连接块的外壁套接有连接筒，所述连接筒的底端固定连接有安装板，所述安装板上安装有螺栓，所述连接筒的两侧固定连接有连接座，所述连接座的内壁滑动连接有安装座，所述安装座的底端固定连接有切刀，所述连接筒的顶端转动连接有转动环，所述连接筒的内部位于所述转动环的外壁转动连接有锥齿轮，所述锥齿轮的一端固定连接有螺纹杆，所述螺纹杆贯穿于所述安装座，所述转动环的顶端开设有固定槽。
10、作为本专利技术再进一步的方案：所述操作台的内部开设有供所述位移板进行滑动的位移槽，所述限位柱固定连接于所述位移槽内壁，所述位移板的外壁开设有第一螺纹孔和限位孔，所述限位孔的内壁与所述限位柱的外壁相贴合，所述第一螺纹孔与所述第一丝杆相匹配。
11、作为本专利技术再进一步的方案：所述操作台的外壁与所述滑槽的内壁相贴合，所述操作台的一侧外壁设置有第一齿槽，所述定位块的一端与所述第一齿槽相卡合，所述定位块的外壁开设有第二螺纹孔，所述第二螺纹孔与所述第二丝杆相匹配，所述操作台的底端固定连接有t形块，所述滑槽的内壁开设有供所述t形块进行滑动的t形槽。
12、作为本专利技术再进一步的方案：所述齿板朝向所述推动架的一端设置有斜面，所述推动架与所述斜面相接触，所述齿板的顶端设置有第二齿槽，所述第二齿槽与所述齿块相卡合。
13、作为本专利技术再进一步的方案：所述连接筒的内壁与所述连接块的外壁相贴合，所述安装孔的内壁设置有与所述螺栓相匹配的螺纹，所述安装板的外壁开设有供所述螺栓贯穿的通孔。
14、作为本专利技术再进一步的方案：所述安装座的外壁开设有第三螺纹孔，所述第三螺纹孔与所述螺纹杆相匹配，所述转动环的外壁设置有与所述锥齿轮相啮合的第三齿槽，所述固定槽与所述固定块相卡合。
15、与现有技术相比，本专利技术的有益效果是：
16、通过设置调节机构，推动操作台进行移动，同时可推动活动座在安装架的外壁进行滑动，从而调节钻头的位置，使得钻头与钻孔对齐，完成后转动转动块，带动定位块进行移动，定位块移动与操作台卡合，对操作台的位置进行固定，同时定位块移动带动推动架进行同步移动，推动架移动推动齿板进行移动，齿板移动进入凹槽内与齿块相卡合，从而对活动座的位置进行固定，便于在扩散板固定状态时，对扩散板的位置进行微调。
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1.一种CVD气体扩散板扩孔工艺，其特征在于，具体步骤如下：
2.根据权利要求1所述的一种CVD气体扩散板扩孔工艺，其特征在于，所述步骤三所采用的扩孔装置包括有活动座(2)，所述活动座(2)位于所述底座(1)的上方，所述活动座(2)的外壁安装有液压缸(3)，所述液压缸(3)的输出端连接有活动架(4)，所述钻头(6)安装于所述活动架(4)上，所述活动架(4)的外壁安装有驱动所述钻头(6)进行转动的电机(5)，扩散板通过夹持机构(7)进行固定操作，扩散板通过扩孔机构(9)进行扩孔操作。
3.根据权利要求2所述的一种CVD气体扩散板扩孔工艺，其特征在于，所述夹持机构(7)包括有操作台(701)，所述操作台(701)，所述操作台(701)滑动连接于所述底座(1)的顶端，所述操作台(701)的内部滑动连接有位移板(702)，所述位移板(702)的顶端对称固定连接有夹板(703)，所述夹板(703)延伸至所述操作台(701)的上方，所述操作台(701)的内部固定连接有贯穿于所述位移板(702)的限位柱(704)，所述操作台(701)的内部转动连接有贯穿于所述位移板(7
4.根据权利要求3所述的一种CVD气体扩散板扩孔工艺，其特征在于，所述调节机构(8)包括有滑槽(801)，所述滑槽(801)开设于所述底座(1)的顶端，所述滑槽(801)供所述操作台(701)进行滑动，所述底座(1)的顶端位于所述滑槽(801)的两侧固定连接有安装架(802)，所述活动座(2)滑动连接于所述安装架(802)的外壁，所述底座(1)的内部位于所述操作台(701)的一侧滑动连接有定位块(803)，所述底座(1)的外壁转动连接有转动块(805)，所述转动块(805)的一端固定连接有延伸进入所述定位块(803)内部的第二丝杆(804)，所述定位块(803)的顶端固定连接有延伸进入所述安装架(802)内部的推动架(806)，所述安装架(802)的内部位于所述推动架(806)的一端滑动连接有齿板(807)，所述齿板(807)延伸至所述安装架(802)的顶端，所述活动座(2)的外壁开设有供所述安装架(802)进行滑动的连接槽(808)，所述连接槽(808)的顶端开设有供所述齿板(807)移动进入的凹槽(809)，所述凹槽(809)的顶端固定连接有齿块(810)。
5.根据权利要求4所述的一种CVD气体扩散板扩孔工艺，其特征在于，所述扩孔机构(9)包括有连接块(901)，所述连接块(901)转动连接于所述活动架(4)的底端，所述电机(5)驱动所述连接块(901)进行转动，钻头(6)固定连接于所述连接块(901)的底端，所述活动架(4)的底端位于所述连接块(901)的一侧固定连接有固定块(902)，所述连接块(901)的底端开设有安装孔(903)，所述连接块(901)的外壁套接有连接筒(904)，所述连接筒(904)的底端固定连接有安装板(905)，所述安装板(905)上安装有螺栓(906)，所述连接筒(904)的两侧固定连接有连接座(907)，所述连接座(907)的内壁滑动连接有安装座(908)，所述安装座(908)的底端固定连接有切刀(909)，所述连接筒(904)的顶端转动连接有转动环(913)，所述连接筒(904)的内部位于所述转动环(913)的外壁转动连接有锥齿轮(910)，所述锥齿轮(910)的一端固定连接有螺纹杆(911)，所述螺纹杆(911)贯穿于所述安装座(908)，所述转动环(913)的顶端开设有固定槽(912)。
6.根据权利要求3所述的一种CVD气体扩散板扩孔工艺，其特征在于，所述操作台(701)的内部开设有供所述位移板(702)进行滑动的位移槽，所述限位柱(704)固定连接于所述位移槽内壁，所述位移板(702)的外壁开设有第一螺纹孔和限位孔，所述限位孔的内壁与所述限位柱(704)的外壁相贴合，所述第一螺纹孔与所述第一丝杆(705)相匹配。
7.根据权利要求4所述的一种CVD气体扩散板扩孔工艺，其特征在于，所述操作台(701)的外壁与所述滑槽(801)的内壁相贴合，所述操作台(701)的一侧外壁设置有第一齿槽，所述定位块(803)的一端与所述第一齿槽相卡合，所述定位块(803)的外壁开设有第二螺纹孔，所述第二螺纹孔与所述第二丝杆(804)相匹配，所述操作台(7...
【技术特征摘要】
1.一种cvd气体扩散板扩孔工艺，其特征在于，具体步骤如下：
2.根据权利要求1所述的一种cvd气体扩散板扩孔工艺，其特征在于，所述步骤三所采用的扩孔装置包括有活动座(2)，所述活动座(2)位于所述底座(1)的上方，所述活动座(2)的外壁安装有液压缸(3)，所述液压缸(3)的输出端连接有活动架(4)，所述钻头(6)安装于所述活动架(4)上，所述活动架(4)的外壁安装有驱动所述钻头(6)进行转动的电机(5)，扩散板通过夹持机构(7)进行固定操作，扩散板通过扩孔机构(9)进行扩孔操作。
3.根据权利要求2所述的一种cvd气体扩散板扩孔工艺，其特征在于，所述夹持机构(7)包括有操作台(701)，所述操作台(701)，所述操作台(701)滑动连接于所述底座(1)的顶端，所述操作台(701)的内部滑动连接有位移板(702)，所述位移板(702)的顶端对称固定连接有夹板(703)，所述夹板(703)延伸至所述操作台(701)的上方，所述操作台(701)的内部固定连接有贯穿于所述位移板(702)的限位柱(704)，所述操作台(701)的内部转动连接有贯穿于所述位移板(702)的第一丝杆(705)，所述第一丝杆(705)的顶端位于所述操作台(701)的顶端固定连接有棘轮(706)，所述棘轮(706)的一侧设置有卡块(707)，所述卡块(707)与所述操作台(701)通过连接轴(708)转动连接，所述卡块(707)与所述操作台(701)之间位于所述连接轴(708)的外壁连接有扭簧(709)。
4.根据权利要求3所述的一种cvd气体扩散板扩孔工艺，其特征在于，所述调节机构(8)包括有滑槽(801)，所述滑槽(801)开设于所述底座(1)的顶端，所述滑槽(801)供所述操作台(701)进行滑动，所述底座(1)的顶端位于所述滑槽(801)的两侧固定连接有安装架(802)，所述活动座(2)滑动连接于所述安装架(802)的外壁，所述底座(1)的内部位于所述操作台(701)的一侧滑动连接有定位块(803)，所述底座(1)的外壁转动连接有转动块(805)，所述转动块(805)的一端固定连接有延伸进入所述定位块(803)内部的第二丝杆(804)，所述定位块(803)的顶端固定连接有延伸进入所述安装架(802)内部的推动架(806)，所述安装架(802)的内部位于所述推动架(806)的一端滑动连接有齿板(807)，所述齿板(807)延伸至所述安装架(802)的顶端，所述活动座(2)的外壁开设有供所述安装架(802)进行滑动的连接槽(808)，所述连接槽(808)的顶端开设有供所述齿板(807)移动进入的凹槽(809)，所述凹槽(809)的顶端固定连接有齿块(810)。
5.根据权利要求4所述的一种cvd气体扩散板扩孔工艺，其特征在于，所述扩孔机构(9)包括有连接块(901)，所述连接块(901)转动连接于所...
【专利技术属性】
技术研发人员：余宵，李秀锋，郑军东，李根水，代勇超，
申请(专利权)人：安徽晶海纳光电科技有限公司，
类型：发明
国别省市：
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