System.ArgumentOutOfRangeException: 索引和长度必须引用该字符串内的位置。 参数名: length 在 System.String.Substring(Int32 startIndex, Int32 length) 在 zhuanliShow.Bind() 一种纯蚀刻制作波导缝隙阵列PCB天线的方法技术_技高网

一种纯蚀刻制作波导缝隙阵列PCB天线的方法技术

技术编号:42371036 阅读:4 留言:0更新日期:2024-08-16 14:53
本发明专利技术公开了一种纯蚀刻制作波导缝隙阵列PCB天线的方法,包括以下步骤:步骤a,将波导铜基材两面粗化处理后压干膜,步骤b,通过曝光底片对干膜进行曝光;步骤c,曝光后除去波导铜基材上未曝光位置干膜,然后让波导铜基材经过蚀刻线,蚀刻出波导铜基材上孔和波导缝隙;步骤d,蚀刻后去除导铜基材上曝光位置干膜,干膜去除后形成单层波导天线;步骤e,单层波导天线经过缝隙天线检验后,将多层不同的单层波导天线经机械组装后形成波导缝隙天线PCB。本发明专利技术提供的一种纯蚀刻制作波导缝隙阵列PCB天线的方法,能够解决传统PVD工艺制作间隙波导存在的低效率和高能耗以及高成本问题。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种纯蚀刻制作波导缝隙阵列pcb天线的方法,属于波导缝隙天线pcb制作。


技术介绍

1、雷达产品进入77ghz频段,介质损耗增大,天线效率降低,若采用低损耗的高频介质板,又会造成成本增加,且77ghz频段还需要尽可能覆盖住从76ghz到81ghz 5个g的带宽。中国电子采用腔体波导天线的asr540的横空出世,波导天线由于其相较于微带天线的强大性能优势,开始在雷达4d时代暂露头角。目前的腔体波导天线,存在材料成本高、工艺效率低和焊接合格率低这三个问题。而波导技术的另一个流派,就是间隙波导。相较于腔体波导(也可以称为普通波导),间隙波导由于其有周期性的ebg电磁带隙做电磁屏蔽,即使安装后留有空隙,也不会导致漏波的情况,由于间隙波导对焊接的要求不高,所以,间隙波导可以选用铜作为涂层金属,从这个角度来说,间隙波导在材料成本和焊接成本方面是优于腔体波导的。

2、传统的间隙波导制作仍然采用pvd工艺,使用pvd做铜涂层,由于pvd工艺高耗电量的问题,会选择建在西南部水电站旁边,从而获得充足的电力供应,成本较高。另外,pvd工艺效率也较低需要进行改进。综上,传统间隙波导制作工艺依旧存在低效率和高能耗以及高成本问题。


技术实现思路

1、本专利技术要解决的技术问题是,克服现有技术的缺陷,提供一种纯蚀刻制作波导缝隙阵列pcb天线的方法,能够解决传统pvd工艺制作间隙波导存在的低效率和高能耗以及高成本问题。

2、为解决上述技术问题,本专利技术采用的技术方案为:p>

3、一种纯蚀刻制作波导缝隙阵列pcb天线的方法,包括以下步骤:

4、步骤a,将波导铜基材两面粗化处理后压干膜,

5、步骤b,通过曝光底片对干膜进行曝光;

6、步骤c,曝光后除去波导铜基材上未曝光位置干膜,然后让波导铜基材经过蚀刻线,蚀刻出波导铜基材上孔和波导缝隙;

7、步骤d,蚀刻后去除导铜基材上曝光位置干膜,干膜去除后形成单层波导天线;

8、步骤e,单层波导天线经过缝隙天线检验后,将多层不同的单层波导天线经机械组装后形成波导缝隙天线pcb。

9、步骤b中,曝光底片上对应波导铜基材两面需刻穿成孔处都不设挡点,使刻穿成孔处两面干膜均不曝光;曝光底片上对应波导铜基材需单面刻处仅将单面底片设挡点,使波导缝隙处单面曝光。

10、步骤b中,曝光底片上对应波导铜基材pcs与pcs之间以及pcs与边框之间连接缝隙处都不设挡点,使连接缝隙处两面干膜均不曝光。

11、步骤c中,对连接缝隙处进行蚀刻,让pcs与pcs之间以及pcs与边框之间形成邮票连接线。

12、步骤e中,通过邮票连接线将单层波导天线上pcs与边框分离,形成需要的单层pcs后进行检验和组装流程。

13、步骤c中,波导铜基材上孔蚀刻进行圆角补偿。

14、本专利技术的有益效果:本专利技术提供的一种纯蚀刻制作波导缝隙阵列pcb天线的方法,蚀刻整块铜基板,蚀刻出缝隙和孔,最后将不同厚度,不同阵列设计的的铜介层组装后形成波导缝隙天线pcb,整个方法只需要蚀刻即可完成,能够解决传统pvd工艺制作间隙波导存在的低效率和高能耗以及高成本问题;另外设计邮票连接线,波导pcs边框以蚀刻的方式制作,出蚀刻线时手动撕掉邮票连接线形成波导缝隙单pcs,不需要额外的机加工,克服波导介质为铜板无法通过机械加工方式成型的问题。

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【技术保护点】

1.一种纯蚀刻制作波导缝隙阵列PCB天线的方法,其特征在于:包括以下步骤:

2.根据权利要求1所述的一种纯蚀刻制作波导缝隙阵列PCB天线的方法,其特征在于:步骤b中,曝光底片上对应波导铜基材两面需刻穿成孔处都不设挡点,使刻穿成孔处两面干膜均不曝光;曝光底片上对应波导铜基材需单面刻处仅将单面底片设挡点,使波导缝隙处单面曝光。

3.根据权利要求2所述的一种纯蚀刻制作波导缝隙阵列PCB天线的方法,其特征在于:步骤b中,曝光底片上对应波导铜基材Pcs与Pcs之间以及Pcs与边框之间连接缝隙处都不设挡点,使连接缝隙处两面干膜均不曝光。

4.根据权利要求3所述的一种纯蚀刻制作波导缝隙阵列PCB天线的方法,其特征在于:步骤c中,对连接缝隙处进行蚀刻,让Pcs与Pcs之间以及Pcs与边框之间形成邮票连接线。

5.根据权利要求4所述的一种纯蚀刻制作波导缝隙阵列PCB天线的方法,其特征在于:步骤e中,通过邮票连接线将单层波导天线上Pcs与边框分离,形成需要的单层Pcs后进行检验和组装流程。

6.根据权利要求1所述的一种纯蚀刻制作波导缝隙阵列PCB天线的方法,其特征在于:步骤c中,波导铜基材上孔蚀刻进行圆角补偿。

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【技术特征摘要】

1.一种纯蚀刻制作波导缝隙阵列pcb天线的方法,其特征在于:包括以下步骤:

2.根据权利要求1所述的一种纯蚀刻制作波导缝隙阵列pcb天线的方法,其特征在于:步骤b中,曝光底片上对应波导铜基材两面需刻穿成孔处都不设挡点,使刻穿成孔处两面干膜均不曝光;曝光底片上对应波导铜基材需单面刻处仅将单面底片设挡点,使波导缝隙处单面曝光。

3.根据权利要求2所述的一种纯蚀刻制作波导缝隙阵列pcb天线的方法,其特征在于:步骤b中,曝光底片上对应波导铜基材pcs与pcs之间以及pcs与边框之间连接缝隙处都不设挡点,使连接缝隙...

【专利技术属性】
技术研发人员:刘丽霞孔德池
申请(专利权)人:昆山沪利微电有限公司
类型:发明
国别省市:

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